四氟化碳的合成工藝有烷烴直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氫氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法四種，目前工業(yè)上四氟化碳的合成主要采用氟碳直接合成法。這種生產(chǎn)工藝的優(yōu)點(diǎn)是原料易得、反應(yīng)可控、產(chǎn)物純度高。該方法已實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)，產(chǎn)品純度高達(dá)99.99%以上，可滿足電子工業(yè)的需求，已成為工業(yè)上制備四氟化碳的主要方法。就目前而言，四氟化碳以其相對(duì)低廉的價(jià)格將會(huì)長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體的市場(chǎng)，因此具有廣的發(fā)展?jié)摿ΑＮ磥?lái)，四氟化碳的需求將會(huì)明顯增加。四氟化碳沒(méi)有腐蝕性。南京正規(guī)四氟化碳推薦企業(yè)
只有適當(dāng)?shù)臈l件下，四氟化碳才能與氧化劑和還原劑進(jìn)行反應(yīng)。四氟化碳不燃燒，有低毒性和窒息性。四氟化碳對(duì)肝臟、腦神經(jīng)系統(tǒng)有損害。與可燃性氣體一起燃燒時(shí)，發(fā)生分解，產(chǎn)生的氧化物有毒。四氟化碳沒(méi)有腐蝕性?？墒褂娩X、銅、青銅、鋼、不銹鋼等大部分金屬和合金材料。聚四氟乙烯和環(huán)氧樹(shù)脂具有良好的耐腐蝕性能。聚三氟氯乙烯聚合體接觸四氟化碳有輕微溶脹現(xiàn)象，但傻仍可耐無(wú)能蝕。尼龍?jiān)诟邷睾陀锌栈蛴兴执嬖谇闆r下，它全變脆。
揚(yáng)州節(jié)能四氟化碳廠家哪家好四氟化碳是無(wú)色、無(wú)臭、不燃的易壓縮性氣體，揮發(fā)性較高。
四氟化碳有 制冷、氣體絕緣、干蝕刻氣、氟化劑、表面處理劑、激光氣體泄漏檢驗(yàn)劑等用途。四氟化碳為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用，但是含鎂大于2%的合金不能用。在高溫，一些金屬起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增長(zhǎng)的次序由小到大地排列則如下：因科鎳合金、奧氏體不銹鋼、鎳、鋼、鋁、銅、青銅、黃銅、銀。 可以用聚四氟乙烯，環(huán)氧樹(shù)脂和醋酸纖維。尼龍?jiān)诟邷?，有水和空氣時(shí)變脆。聚三氟氯乙烯聚合體可以用，但稍微有膨脹。廢氣可直接排人大氣中。
四氟化碳是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長(zhǎng)時(shí)間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1）。雖然結(jié)構(gòu)與氟氯烴相似，但四氟化碳不會(huì)破壞臭氧層。這是因?yàn)閷?dǎo)致臭氧層破壞的是氟氯烴中的氯原子，它被紫外線輻射擊中時(shí)會(huì)分離。碳-氟鍵比較強(qiáng)，因此分離的可能性比較低。吸入四氟化碳的后果與濃度有關(guān)，包括頭疼、惡心、頭昏眼花及心血管系統(tǒng)的破壞（主要是心臟）。長(zhǎng)時(shí)間接觸會(huì)導(dǎo)致嚴(yán)重的心臟破壞。四氟化碳的密度比較高，可以塡滿地面空間范圍，在不通風(fēng)的地方會(huì)導(dǎo)致窒息。然而與可燃性氣體燃燒時(shí)，會(huì)分解產(chǎn)生氟化物。
R-14商品名稱(chēng)Reflube14。R-14屬于FC類(lèi)物質(zhì)——對(duì)臭氧層沒(méi)有破壞、但存在溫室效應(yīng)；目前對(duì)于R14制冷劑的生產(chǎn)、銷(xiāo)售以及在新制冷設(shè)備上的初裝、售后設(shè)備上的再添加均沒(méi)有限制。四氟化碳（四氟甲烷/全氟甲烷）CF4R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱(chēng)有Freon14等，中文名稱(chēng)四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱(chēng)CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane，化學(xué)式CF4，產(chǎn)品用途R-14作為一款特種**溫制冷劑，主要應(yīng)用于要求溫度非常低的深冷設(shè)備中（包括科研制冷、醫(yī)用制冷等），R14同時(shí)也是**溫配合冷媒的重要組分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟甲烷高純氣配高純氧氣的混合氣，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、泄漏檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。在使用四氟化碳的同時(shí)。杭州***四氟化碳哪里有
.由碳與氟反應(yīng)，或一氧化碳與氟反應(yīng)。南京正規(guī)四氟化碳推薦企業(yè)
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子體蝕刻氣體，廣用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈、多品種、多規(guī)格，各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)發(fā)展，越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言，CF4以其相對(duì)低廉的價(jià)格長(zhǎng)期占據(jù)著蝕刻氣體場(chǎng)，因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿ΑＤ暇┱?guī)四氟化碳推薦企業(yè)