四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純陽氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-O2反應(yīng)離子刻蝕時，通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。由于化學(xué)穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
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鎮(zhèn)江四氟化碳優(yōu)化價格四氟化碳不燃燒，有低毒性和窒息性。
四氟化碳的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，在通常情況下，它與硅直接接觸，也不會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。
溫度較低時，四氟化碳與二氧化碳不發(fā)生作用，只有在1000℃以上，才能和二氧化碳進行反應(yīng)，生成羰基氟。其反應(yīng)
只有適當?shù)臈l件下，四氟化碳才能與氧化劑和還原劑進行反應(yīng)。
四氟化碳不燃燒，有低毒性和窒息性。四氟化碳對肝臟、腦神經(jīng)系統(tǒng)有損害。與可燃性氣體一起燃燒時，發(fā)生分解，產(chǎn)生的氧化物，
四氟化碳沒有腐蝕性?？墒褂娩X、銅、青銅、鋼、不銹鋼等大部分金屬和合金材料。聚四氟乙烯和環(huán)氧樹脂具有良好的耐腐蝕性能。聚三氟氯乙烯聚合體接觸四氟化碳有輕微溶脹現(xiàn)象，但傻仍可耐無能蝕。尼龍在高溫和有空或有水分存在情況下，它全變脆。
國內(nèi)空分企業(yè)與特氣企業(yè)分明，業(yè)務(wù)上構(gòu)筑各自壁壘。國內(nèi)氣體公司包括氣體為的空分企業(yè)，主要是以管道氣為主的現(xiàn)場制氣項目，可能更適合林德模式切入特種氣體，作為氣體綜合服務(wù)商的角色，進行空分和特氣資源的整合。作為空分巨頭，內(nèi)生進行特氣技術(shù)和產(chǎn)品的開發(fā)，難度相對較大且所需時間周期較長，未來更多或以業(yè)務(wù)合作或收購的模式開展相關(guān)業(yè)務(wù)，相關(guān)企業(yè)的優(yōu)勢在于資金實力和體量優(yōu)勢。特氣企業(yè)的優(yōu)勢在于對細化特氣產(chǎn)品的技術(shù)積淀，以及對相應(yīng)產(chǎn)品在下游客戶的認證壁壘，目前來看，國內(nèi)空分企業(yè)和特氣企業(yè)不存在直接的競爭。
四氟化碳不與銅、鎳、鎢、鉬反應(yīng)。
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時，由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等；還可用于塑料行業(yè)；如：合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯?；蛩穆然寂c氟化銀反應(yīng)，或四氯化碳與氟化氫反應(yīng)，都能生成四氟化碳。無錫節(jié)能四氟化碳高性價比的選擇
R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等。杭州安全四氟化碳廠家哪家好
由于化學(xué)穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學(xué)家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內(nèi)，小白鼠仍可安全脫險。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時，由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性，四氟化碳可用于金屬冶煉，例如：銅、不銹鋼，碳鋼、鋁、蒙乃爾等； 杭州安全四氟化碳廠家哪家好