四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量...

帶六氟化硫的氣瓶不允許在高于45℃的環(huán)境下使用、貯存和運(yùn)輸。液態(tài)和氣態(tài)SF6可迅速導(dǎo)致窒息，因此貯存及使用場(chǎng)所應(yīng)通風(fēng)良好，且須防止氣瓶泄漏。一旦吸入，應(yīng)迅速轉(zhuǎn)移到新鮮空氣中。液態(tài)六氟化硫具有急劇冷凍作用，切勿使其接觸人的眼睛、皮膚或衣服，以免。要處理分解了的S...

二氧化碳開(kāi)采器釋放的高壓氣體溫度為零度左右；不產(chǎn)生具有破壞性的震蕩或振波，減少周?chē)h(huán)境破壞機(jī)率，無(wú)需警戒排煙塵；不需要驗(yàn)炮，破裂后便可進(jìn)入現(xiàn)場(chǎng)，可連續(xù)作業(yè)，減少二次爆破，節(jié)省成本；設(shè)備在工作過(guò)程中不會(huì)產(chǎn)生任何的有害氣體，不會(huì)對(duì)操作人員的身體造成傷害；解決了買(mǎi)不...

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，鋁合金門(mén)窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等...

對(duì)于混合氣而言，配比的精度是參數(shù)，隨著產(chǎn)品組分的增加、配制精度的上升，客戶常要求氣體供應(yīng)商能夠?qū)Χ喾Nppm（partpermillion，百萬(wàn)分之）乃至ppb（partperbillion，十億分之）級(jí)濃度的氣體組分進(jìn)行精細(xì)操作，其配制過(guò)程的難度與復(fù)雜程度也增...

四氟化碳與氧在高溫下不反應(yīng)]四氟化炭是目前微電子行業(yè)使用比較多的等離子蝕刻氣體，它是由高純氣與高純氣配高純氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和鎢薄膜材料的蝕刻。在使用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕的硅及二氧化硅系統(tǒng)中，通過(guò)調(diào)節(jié)兩種氣體的比...

生態(tài)環(huán)境局相關(guān)負(fù)責(zé)人介紹，碳排放交易是為了促進(jìn)全球溫室氣體減排、減少全球二氧化碳排放所采用的市場(chǎng)機(jī)制。1997年12月于日本京都通過(guò)的《氣候變化框架公約》個(gè)附加協(xié)議，即《京都議定書(shū)》?！蹲h定書(shū)》把市場(chǎng)機(jī)制作為解決二氧化碳為的溫室氣體減排問(wèn)題的新路徑，把二氧...

電子特氣：半導(dǎo)體工業(yè)的關(guān)鍵原料，電子特氣是電子工業(yè)的關(guān)鍵原料，屬于工業(yè)氣體的重要分支。工業(yè)氣體是現(xiàn)代工業(yè)的基礎(chǔ)原材料，而電子特氣是工業(yè)氣體中附加值較高的品種，與傳統(tǒng)工業(yè)氣體的區(qū)別在于純度更高（如高純氣體）或者具有特殊用途（如參與化學(xué)反應(yīng)），是極大規(guī)模集成電...