科技之光,研發(fā)未來(lái)-特殊染色技術(shù)服務(wù)檢測(cè)中心
常規(guī)HE染色技術(shù)服務(wù)檢測(cè)中心:專(zhuān)業(yè)、高效-生物醫(yī)學(xué)
科研的基石與質(zhì)量的保障-動(dòng)物模型復(fù)制實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測(cè)中心
科技之光照亮生命奧秘-細(xì)胞熒光顯微鏡檢測(cè)服務(wù)檢測(cè)中心
揭秘微觀世界的窗口-細(xì)胞電鏡檢測(cè)服務(wù)檢測(cè)中心
科研的基石與創(chuàng)新的搖籃-細(xì)胞分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測(cè)中心
科研的堅(jiān)實(shí)后盾-大小動(dòng)物學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)檢測(cè)中心
推動(dòng)生命科學(xué)進(jìn)步的基石-細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)
科技前沿的守護(hù)者-細(xì)胞藥效學(xué)實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測(cè)中心
科研前沿的探索者-細(xì)胞遷移與侵襲實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測(cè)中心
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。無(wú)論是桌面級(jí)還是工業(yè)級(jí),常見(jiàn)的3D打印機(jī)工作原理都是分層制造。寶山區(qū)芯片上微納3D打印服務(wù)商
Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國(guó)卡爾蔡司公司的支持,經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,一直致力于推動(dòng)諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個(gè)國(guó)家,超過(guò)1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國(guó)理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。為了拓展并加強(qiáng)中國(guó)及亞太地區(qū)的銷(xiāo)售推廣和售后服務(wù)范圍,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨(dú)資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司。自Nanoscribe進(jìn)軍中國(guó)市場(chǎng)以來(lái),已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶,其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,例如:北京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),南京大學(xué)等等。黃浦區(qū)雙光子聚合微納3D打印制造價(jià)格Nanoscribe是世界排名在前的納米制造和精密制造用高精度3D 打印機(jī)制造商。
QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,簡(jiǎn)易明了的工程流程;工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn);200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專(zhuān)門(mén)使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。
微納3D打印技術(shù)是一種高精度、高分辨率的增材制造技術(shù),其優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:高精度和高分辨率:微納3D打印技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)甚至納米級(jí)的打印精度,能夠制造出非常精細(xì)的結(jié)構(gòu)和零件。這種高精度和高分辨率的特性使得微納3D打印技術(shù)在制造微小零件、生物醫(yī)學(xué)器件、光學(xué)元件等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。材料多樣性:微納3D打印技術(shù)可以使用多種材料進(jìn)行打印,包括金屬、陶瓷、聚合物等。這種材料多樣性使得微納3D打印技術(shù)可以滿足不同領(lǐng)域?qū)Σ牧闲阅艿男枨蟆6ㄖ苹芰?qiáng):微納3D打印技術(shù)可以根據(jù)用戶的需求定制設(shè)計(jì),并實(shí)現(xiàn)個(gè)性化生產(chǎn)。這種定制化能力為設(shè)計(jì)師提供了更大的設(shè)計(jì)自由度,可以滿足各種復(fù)雜、特異的需求。無(wú)需模具:傳統(tǒng)的制造方法通常需要制作模具來(lái)生產(chǎn)零件,而微納3D打印技術(shù)可以直接將設(shè)計(jì)好的模型打印成實(shí)體,省去了制作模具的步驟,縮短了制造周期,降低了成本。復(fù)雜結(jié)構(gòu)制造能力:微納3D打印技術(shù)可以制造出具有復(fù)雜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的零件,這是傳統(tǒng)制造方法難以實(shí)現(xiàn)的。這種復(fù)雜結(jié)構(gòu)制造能力使得微納3D打印技術(shù)在航空航天、汽車(chē)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用前景。節(jié)省材料:微納3D打印技術(shù)采用增材制造的方式,只在需要的地方添加材料。更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印設(shè)備的信息,請(qǐng)致電Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維科技(上海)有限公司。
借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng)、遷移和干細(xì)胞分化。此外,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō),在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版?;谖⒓{尺度的3D打印技術(shù),可定制設(shè)計(jì)光學(xué)性能優(yōu)異、超高精度、超薄尺度的透鏡。靜安區(qū)高精度微納3D打印應(yīng)用
Nanoscribe的雙光子聚合3D打印機(jī)在科研領(lǐng)域,以及一些高精尖的制造企業(yè)都有使用。寶山區(qū)芯片上微納3D打印服務(wù)商
世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。寶山區(qū)芯片上微納3D打印服務(wù)商