山東高精度增材制造技術(shù)

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。激光增材制造在航空航天、醫(yī)療和汽車等領(lǐng)域有廣泛應用。山東高精度增材制造技術(shù)

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的排名在前的開發(fā)商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度、重慶微光學增材制造激光直寫增材制造輪可以通過增加材料的密度和強度來提高承載能力。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的。增材制造相比傳統(tǒng)減材制造更加的節(jié)省原料，也更加的節(jié)約能源。

3D打印高性能增材制造技術(shù)擺脫了模具制造這一明顯延長研發(fā)時間的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)，兼顧高精度、高性能、高柔性，可以快速制造結(jié)構(gòu)十分復雜的零件，為先進科研事業(yè)速研發(fā)提供了有力的技術(shù)手段。在微光學領(lǐng)域，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復雜的工作流程，克服了長期的設(shè)計限制，并實現(xiàn)了先進的微光驅(qū)動的前所未有的應用。換句話說，PhotonicProfessionalGT系列與您的平均3D打印機不同，因此可用于創(chuàng)建在其他機器上無法生產(chǎn)的功能性光學產(chǎn)品。該系列與正確的材料和工藝相結(jié)合，據(jù)稱允許用戶“直接制造具有比標準制造方法，高形狀精度和光學平滑表面幾何約束的聚合物微光學部件”。激光增材制造可以實現(xiàn)材料的精細控制和定制化生產(chǎn)。增材制造系統(tǒng)

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您解析增材制造的技術(shù)。山東高精度增材制造技術(shù)

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點，這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。山東高精度增材制造技術(shù)