湖南高分辨率Nanoscribe微光學(xué)

來源: 發(fā)布時間:2023-03-01

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應(yīng)用,可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性??茖W(xué)家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設(shè)備制造了復(fù)雜的微孔膜結(jié)構(gòu)。湖南高分辨率Nanoscribe微光學(xué)

湖南高分辨率Nanoscribe微光學(xué),Nanoscribe

Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。德國微納光刻NanoscribeQuantum XNanoscribe的打印設(shè)備具有高度3D設(shè)計自由度的特點且具備人性化的操作系統(tǒng)。

湖南高分辨率Nanoscribe微光學(xué),Nanoscribe

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應(yīng)用,可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,需要權(quán)衡對準(zhǔn)、效率和寬帶方面的種種要求。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實驗室應(yīng)用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長、遷移和干細(xì)胞分化。此外,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,結(jié)合Nanoscribe的3D微加工技術(shù)可直接在光子芯片上進(jìn)行3D打印制作。

湖南高分辨率Nanoscribe微光學(xué),Nanoscribe

為了探索待測物微納米表面形貌,探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實驗項目。然而,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進(jìn)展,這也限制了基于力傳感反饋的測量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級,并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復(fù)雜的3D微支架。廣東Nanoscribe上海

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    Nanoscribe設(shè)備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,通常為160納米至毫米范圍。此外,使用GT2,用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,基板,材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求。 湖南高分辨率Nanoscribe微光學(xué)

納糯三維科技(上海)有限公司是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的****,公司位于上海市徐匯區(qū)桂平路391號3號樓11層1106A室,成立于2017-11-08。公司秉承著技術(shù)研發(fā)、客戶優(yōu)先的原則,為國內(nèi){主營產(chǎn)品或行業(yè)}的產(chǎn)品發(fā)展添磚加瓦。在孜孜不倦的奮斗下,公司產(chǎn)品業(yè)務(wù)越來越廣。目前主要經(jīng)營有PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)等產(chǎn)品,并多次以儀器儀表行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、客戶需求定制多款多元化的產(chǎn)品。我們以客戶的需求為基礎(chǔ),在產(chǎn)品設(shè)計和研發(fā)上面苦下功夫,一份份的不懈努力和付出,打造了Nanoscribe產(chǎn)品。我們從用戶角度,對每一款產(chǎn)品進(jìn)行多方面分析,對每一款產(chǎn)品都精心設(shè)計、精心制作和嚴(yán)格檢驗。納糯三維科技(上海)有限公司以市場為導(dǎo)向,以創(chuàng)新為動力。不斷提升管理水平及PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)品質(zhì)量。本公司以良好的商品品質(zhì)、誠信的經(jīng)營理念期待您的到來!