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真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國相關(guān)標準研究制造，廣泛應用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實驗室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.烘箱總體由箱體部分，電氣控制柜部分，電加熱部分，風道部分，塵埃物過濾部分，N2進氣排氣及風冷部分等組裝而成，結(jié)構(gòu)合理，功能實用。2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆可防止微塵。3.內(nèi)膽材料：采進口SUS304#2mm不銹鋼板全周氬焊,并經(jīng)堿性蘇打水清潔有效的防止了機臺本身灰塵的產(chǎn)生。4.保溫材料：采用正廠玻璃纖維公司出品的100K級高密度保溫板填充，有效的防止了熱能浪費。5.電熱部分：采用進口覆套式電熱器（SHEATHEDHEATER）無塵無氧化電熱發(fā)生器。6.風道部分：整體結(jié)構(gòu)采用了水平送風的方式由左向右送風后經(jīng)美國進口H.E.P.A，(特殊風道設計)過濾效果可達99.99%,Class100。網(wǎng)帶爐對如今市場的影響。無錫復合網(wǎng)帶爐批發(fā)

光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。無錫復合網(wǎng)帶爐批發(fā)合肥哪家網(wǎng)帶爐值得信賴？

冷熱沖擊試驗箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對于電工，電子產(chǎn)品，以及其元器件及其它材料在高溫，低溫綜合環(huán)境下運輸，使用時的適應性試驗。用于產(chǎn)品設計，改進，鑒定及檢驗等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗箱設備制造廠商，在冷熱沖擊試驗箱設備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面，帶您了解冷熱沖擊試驗箱。一、溫度均勻度舊標準稱均勻度，新標準稱梯度。溫度穩(wěn)定后，在任意時間間隔內(nèi)，工作空間內(nèi)任意兩點的溫度平均值之差的較大值。這個指標比下面的溫度偏差指標更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù)，因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項。一般標準要求指標為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后，在任意時間間隔內(nèi)，工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點的溫度平均值之差。雖然新舊標準對此指標的定義和稱呼相同，但檢測已有所改變，新標準更實際，更苛刻一點，但考核時間短點。一般標準要求指標為2℃，純高溫試驗箱200℃以上可按實際使用溫度攝氏度(℃)2%要求。

1.長方體工作室，增加有效容積，微電腦溫度控制器，精確控溫。2.雙層玻璃視窗觀察工作室內(nèi)物體，一目了然。3.箱體閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度。4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。5.儲存、加熱、試驗和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環(huán)境里進行，所以不會氧化。6.真空程序分段控制，該型號機型，抽真空過程可提供程序化編程，根據(jù)客戶要求編輯設定真空值，保壓時間值?？蓪崿F(xiàn)多段抽真空和保壓編程。合肥真萍科技為您提供網(wǎng)帶爐的詳細介紹。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技精密鼓風烤箱采用進口液晶顯示控制器，產(chǎn)品采用綜合的電磁兼容設計和人性化的菜單設計，使得設備操作完全傻瓜化，控溫效果較好。高亮度寬視窗液晶顯示，示值清晰、直觀。微電腦智能控制。設定溫度和時間后，儀表自行控制加熱功率，并顯示加熱狀態(tài)，控溫精確而穩(wěn)定。超溫報警并自動切斷加熱電源。電器控制系統(tǒng)：1.電氣控制元器件均采用國內(nèi)出名品牌“正泰”2.電氣線路設計新穎，合理布線，安全可靠3.箱體頂部為電氣控制柜，方便于集中檢查維修安全保護系統(tǒng)：1.超溫報警2.欠相缺相保護3.過電流保護4.快速熔斷器5.接地保護網(wǎng)帶爐定制生產(chǎn)，價格從優(yōu)。固化網(wǎng)帶爐保養(yǎng)

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下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設計。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設計特點1.后門設計熱風電機2.降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的。無錫復合網(wǎng)帶爐批發(fā)