湖北高精度Nanoscribe激光直寫

來源: 發(fā)布時間:2021-12-05

Nanoscribe 公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,例如光電應用中,他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng),內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。更多有關3D雙光子無掩模光刻技術的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。湖北高精度Nanoscribe激光直寫

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Nanoscribe首屆線上用戶大會于九月順利召開,在微流控研究中,通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會結合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(RWTHUniversityofAachen)和不來梅大學(UniversityofBremen)的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學研究的驅動力是三維打印模擬人類細胞形狀和大小的支架,以推動細胞培養(yǎng)和組織工程學。丹麥技術大學(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就,并強調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學和光子學研究中,布魯塞爾自由大學的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學的研究團隊3D打印了一個超小型單纖光鑷,以實現(xiàn)集成微納光學系統(tǒng)。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學(WWU)研究人員所示,Nanoscribe微納加工技術正在驅動研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學院(MIT)的科學家們正在使用Nanoscribe的2PP技術制造用于高密度集成光子學的光學自由形式耦合器。湖北高精度Nanoscribe激光直寫Nanoscribe的打印設備具有高度3D設計自由度的特點,而且具備人性化的操作系統(tǒng)。

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來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計??茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心,共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進行內(nèi)窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動脈內(nèi)的斑塊、血栓和膽固醇晶體,因此對于醫(yī)學檢測極其重要,可以有助于減少中風和心臟病發(fā)作的風險。

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。 Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。更多有關3D微納加工的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,結合Nanoscribe的3D微加工技術可直接在光子芯片上進行3D打印制作。湖北雙光子聚合Nanoscribe三維光刻

Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀。湖北高精度Nanoscribe激光直寫

光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不光可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,包括光子集成電路,光纖頂端和預制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。湖北高精度Nanoscribe激光直寫

納糯三維科技(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家生產(chǎn)型公司。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,努力學習行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。納糯三維立足于全國市場,依托強大的研發(fā)實力,融合前沿的技術理念,飛快響應客戶的變化需求。