Nanoscribe稱,Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作納米尺度結(jié)構制造,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。浙江進口Nanoscribe多少錢
作為微納加工和3D打印領域的帶領者,Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區(qū)客戶服務范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,結(jié)構分類上更明確。首頁導航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應用數(shù)據(jù)庫,公司資訊和技術支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應用?!?nbsp;海南微納Nanoscribe子公司更多有關雙光子聚合技術和產(chǎn)品咨詢,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構增材制造公司,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。
3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現(xiàn)具有特定光子,機械,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。 快速原型制作,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。
基于雙光子聚合(2PP)原理的雙光子灰度光刻(2GL®)是Nanoscribe技術,具備體素動態(tài)控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時,調(diào)制曝光劑量會改變光敏樹脂內(nèi)的體素大小,從而實現(xiàn)對聚合體素尺寸的精細可控變化。這是激光功率調(diào)制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運動同步的結(jié)果。為此,將灰度圖像轉(zhuǎn)換為曝光級別的空間變化,從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優(yōu)勢? 雙光子灰度光刻 技術(2GL®)使用激光束調(diào)制和高速振鏡的高頻同步進行單體素調(diào)節(jié),從而實現(xiàn)光學質(zhì)量表面結(jié)構。通過高精度定位單元和自校準程序,可在拼接相鄰打印區(qū)域時以出色準確性進行打印,以制造大型結(jié)構。2GL動態(tài)調(diào)整打印場邊界處的激光劑量,以補償光敏聚合物的化學誘導收縮和定位缺陷。通過這種功能組合,可以在幾平方厘米的區(qū)域內(nèi)打印出真正的無縫結(jié)構,消除所有拼接痕跡。多組柱狀體3D復雜微結(jié)構支架是用Nanoscribe自行研發(fā)的IP-Dip光刻膠進行3D打印。浙江雙光子NanoscribePhotonic Professional GT
使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),德國科學家們一起研發(fā)了由管道相連接的多組柱狀體3D復雜微結(jié)構支架。浙江進口Nanoscribe多少錢
對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合(2PP)的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結(jié)構自動對準到光纖和光子芯片上,例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征,確保對3D打印進行高度精確的對準。 Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX,一種基于場景圖概念的軟件工具,可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織,用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征,例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標記,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標配。浙江進口Nanoscribe多少錢