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QuantumXbio是具有高分辨率的多功能生物打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)擁有的**技術(shù)是以雙光子聚合(2PP)為關(guān)鍵,以出色的工程設(shè)計(jì)為基礎(chǔ),通過(guò)生物學(xué)家的想法定制并且重新設(shè)計(jì)的。作為2019年推出的First臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制、無(wú)菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點(diǎn),可讓生物打印達(dá)到一個(gè)新的高度,并有效加速組織工程、細(xì)胞生物學(xué)和方方面面生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用等關(guān)鍵應(yīng)用的創(chuàng)新。雙光子灰度光刻敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。江蘇Nanoscribe灰度光刻激光直寫
超高速灰度光刻技術(shù)是一項(xiàng)帶領(lǐng)科技發(fā)展的重大突破,為我們帶來(lái)了無(wú)限可能。這項(xiàng)技術(shù)的出現(xiàn),將徹底改變我們對(duì)光刻的認(rèn)知,為各行各業(yè)帶來(lái)了巨大的創(chuàng)新機(jī)遇。超高速灰度光刻技術(shù)主要是利用高能激光束對(duì)材料進(jìn)行精確的刻蝕,從而實(shí)現(xiàn)微米級(jí)甚至納米級(jí)的精細(xì)加工。相比傳統(tǒng)的光刻技術(shù),超高速灰度光刻技術(shù)具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時(shí)間內(nèi)完成更復(fù)雜的加工任務(wù),提高了生產(chǎn)效率。超高速灰度光刻技術(shù)在電子、光電子、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。在電子領(lǐng)域,它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板,推動(dòng)電子產(chǎn)品的迭代升級(jí)。在光電子領(lǐng)域,它可以用于制造高精度的光學(xué)元件,提高光學(xué)設(shè)備的性能。在生物醫(yī)藥領(lǐng)域,它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器,實(shí)現(xiàn)更精確的醫(yī)學(xué)診斷。北京超高速灰度光刻微納光刻灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合,如直接激光寫入(Direct Laser Writing)等。
傳感器對(duì)可控技術(shù)的重要性,在眾多領(lǐng)域都是顯而易見(jiàn)的,無(wú)論是從簡(jiǎn)單的家用電器,還是到可穿戴設(shè)備,甚至到航空應(yīng)用,只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,不易故障,并且易于集成到流程中等優(yōu)點(diǎn)。光纖端面的微型傳感器在這個(gè)方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小,可以輕松多路復(fù)用,并且不需要額外的外部能源供應(yīng)。對(duì)于這些基于光纖的傳感器的加工,雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實(shí)上,任何設(shè)計(jì)模型都能在微觀尺寸上被實(shí)現(xiàn)。然而,大多數(shù)設(shè)計(jì)都是靜態(tài)的,打印出來(lái)的部件在被加工出來(lái)后不能進(jìn)行進(jìn)一步的活動(dòng)。
Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及非常廣的材料-基板選擇。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,超過(guò)1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。歡迎咨詢灰度光刻技術(shù)可用于制造復(fù)雜掩膜版。
微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似,但是原理不同,我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu),對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具,但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))。微透鏡陣列也是類似,可以通過(guò)劑量分布的控制來(lái)控制其輪廓形態(tài)。成本低:無(wú)掩膜光刻技術(shù)無(wú)需制作昂貴的掩膜版,因此可以降低光刻成本。重慶高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)
Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù)。江蘇Nanoscribe灰度光刻激光直寫
Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄,擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者,推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無(wú)掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng),在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí),一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件,達(dá)到所見(jiàn)即所得。江蘇Nanoscribe灰度光刻激光直寫