江蘇德國(guó)NanoscribePPGT

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-12

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,機(jī)械,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō),在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。納米尺度結(jié)構(gòu)制造,咨詢(xún)納糯三維科技(上海)有限公司。江蘇德國(guó)NanoscribePPGT

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕澹úA?,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿(mǎn)足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。德國(guó)高精度NanoscribeQuantum X更多有關(guān)3D微納加工的咨詢(xún),歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司。

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Nanoscribe稱(chēng),Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項(xiàng)目,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_(kāi)始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。例如,可接受高達(dá)32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造

QuantumXshape平臺(tái)系統(tǒng)共有四套打印套件,為您提供不同規(guī)模制作可能性:從小特征尺寸(SF),中特征尺寸(MF)到大特征尺寸(LF)和如今的超大特征尺寸(XLF)。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫(xiě)場(chǎng)直徑,為我們提供了更多新應(yīng)用可能性。完美實(shí)現(xiàn)在一步操作中打印>10mm高度的毫米或厘米級(jí)大小的零件。由于18.5毫米的較大工作距離,因此對(duì)包裝密度沒(méi)有限制。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)50x50mm2的全定位打印面積,一次打印至多30立方厘米的體積,或在一個(gè)批次處理過(guò)程中在大面積上打印多個(gè)較小的對(duì)象。更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢(xún),歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。

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IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司為您淺析增材制造技術(shù)在制造業(yè)中的特點(diǎn)與應(yīng)用。北京進(jìn)口Nanoscribe上海

Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級(jí)別的精確打印,為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性。江蘇德國(guó)NanoscribePPGT

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶(hù)設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿(mǎn)足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的。江蘇德國(guó)NanoscribePPGT