鎮(zhèn)江碳化鉬靶選型

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-04-30

塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積脹大,變脆乃至破裂成碎片?;瘜W(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下在空氣和潮濕環(huán)境中穩(wěn)定,加熱至 800℃,鈀表面形成一氧化鈀薄膜。 二、主要產(chǎn)品: 1、鈀 顆粒 99.99% 常規(guī)尺寸:φ3*6mm;量大可定做 2、鈀 靶材 99.99%?  常規(guī)尺寸:φ50*1mm;φ60*3mm;φ76.2*4mm等,尺寸可定做 3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸:φ57*0.1mm *0.2mm 4、鈀 箔片 99.9 2mm等,尺寸可定做 二、其他 : 打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工 。 回收流程如下: 稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品 高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材 產(chǎn)品編碼 產(chǎn)品名稱 規(guī)格 應(yīng)用 Sc-I4006 鈧 x 真空熔煉 Li-G30610 鋰 顆粒 99.9% φ6*10mm 真空熔煉 Sr-I2011 鍶 塊狀 99% 氮?dú)獍b 真空熔煉 Mg-G3514 鎂 顆粒 99.93% 4mm類球形 真空熔煉 Mg-I3503 鎂 塊狀 99.95%  200g/塊 真空熔煉 Fe-G3533 鐵 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Cr-G3501 mm 真空熔煉 Al-G4066 鋁 顆粒 99.99% φ6*6mm 真空熔煉 Cu-G5033 銅 顆粒 99.999% φ3*3mm 真空熔煉 Cu-G3533 銅 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Ti-G3033 鈦 顆粒 99.9% φ3*3mm 真空熔煉 Ni-G3025 鎳 顆粒 99.9% φ2*5mm 真空熔煉 V-G3015 釩 顆粒 99.9% 樹枝狀


不過在實(shí)際應(yīng)用中,對靶材的純度要求也不盡相同。鎮(zhèn)江碳化鉬靶選型

電致變色智能玻璃的特點(diǎn):電致變色智能玻璃在電場作用下具有光吸收透過的可調(diào)節(jié)性,可選擇性地吸收或反射外界的熱輻射和內(nèi)部的熱的擴(kuò)散,減少辦公大樓和民用住宅在夏季保持涼爽和冬季保持溫暖而必須消耗的大量能源。同時(shí)起到改善自然光照程度、防窺的目的。解決現(xiàn)代不斷惡化的城市光污染問題。是節(jié)能建筑材料的一個(gè)發(fā)展方向。調(diào)光玻璃的調(diào)光原理是:在自然狀態(tài)下(斷電不加電場),它內(nèi)部液晶的排列是無規(guī)則的,液晶的折射率比外面聚合物的折射率低,入射光在聚合物上發(fā)生散射,呈乳白色,即不透明。當(dāng)加上電場(通電)以后,有彌散分布液晶的聚合物內(nèi)液滴重新排列,液晶從無序排列變?yōu)槎ㄏ蛴行蚺帕?,使液晶的折射率與聚合物的折射率相等,入射光完全可以通過,形成透明狀態(tài)。成都氧化鋅靶調(diào)試1. 靶材安裝準(zhǔn)確否? 2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì),打磨清理干凈后即可。

涂布技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 將涂布技術(shù)與真空鍍鋁技術(shù)結(jié)合起來,通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層,以達(dá)到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等,滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的要求。 一.經(jīng)過等離子預(yù)處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高,但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高,或者需要用于水煮殺 菌條件時(shí)仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求,通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學(xué)涂層,該涂層不對鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能,同時(shí)可以滿足后續(xù)的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求,其鍍鋁層不會因?yàn)樗蠖l(fā)生氧化。  二.為進(jìn)一步提高鍍鋁膜的阻隔性能,同時(shí)保護(hù)鍍鋁層在后續(xù)的印刷、復(fù)合等加工過程中不被破壞,可以通過在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來實(shí)現(xiàn)。 三.為提高鍍鋁膜的裝飾性能,在基材薄膜鍍鋁前或鍍鋁后進(jìn)行各種顏色的涂布,或模壓后再進(jìn)行鍍鋁,使得鍍鋁膜具有多彩的顏色或具有鐳射效果。此類產(chǎn)品可分為三種:包裝用膜、裝飾用膜、標(biāo)示用膜。主要應(yīng)用于禮品、禮盒的裝飾或防偽包裝用途,如食品、藥品、玩具等的外包裝以及酒等的防偽包裝。

真空離子鍍的耐腐蝕性:   金屬零件是要銹蝕的,但如果零件上鍍有一層防蝕鍍層,就能防止零件生銹。由于離子鍍所獲得的鍍層致密度高,少,耐腐蝕性能好,并能沉積許多其他工藝至今不能沉積的優(yōu)良防腐蝕鍍層。因此,離子鍍目前在鍍防腐蝕材料方面應(yīng)用廣。如水上飛機(jī)的壁板及其他外表零件,可用此法鍍復(fù)防止鹽霧和海水腐蝕的防蝕鍍層;與鋁合金零件相配合的其他材料零件也可用此法鍍鋁,以防止電位差腐蝕。此外,隨著飛機(jī)飛行速度和高度的提高以及宇宙探索的進(jìn)展,鈦合金的應(yīng)用越來越多,如果仍象鋁合金零件那樣采用鍍鎘防腐蝕,使用中就有鎘脆的危險(xiǎn);但如若鍍以三氧化二鋁,則能完全滿足要求。不過電鍍等工藝是無法鍍這種材料的。離子鍍卻能大顯神通。到目前為止,適合于用離子鍍的防蝕材料除氧化鋁以外,還有鉻、鈦、鉭、不銹鋼等。所鍍的航空零件有螺釘、螺帽、鉚釘、銷釘、導(dǎo)管、接頭、陀螺轉(zhuǎn)子、精密齒輪、金屬密封環(huán)等。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。

(2)金屬靶材與化合物靶材本來濺射速率就不一樣,一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高,所以靶中毒后濺射速率低。(3)反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低,所以反應(yīng)氣體比例增加后,綜合濺射速率降低。5、靶中毒的解決辦法(1)采用中頻電源或射頻電源。(2)采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。(3)采用孿生靶(4)控制鍍膜模式的變換:在鍍膜前,采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線,使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。而是堆積在靶面上,容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧,使陰極濺射無法進(jìn)行下去。杭州氟化鐿靶廠家

不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。鎮(zhèn)江碳化鉬靶選型

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘R射速率有著很大的影響,并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。是晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。


鎮(zhèn)江碳化鉬靶選型

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結(jié)爐一臺,真空熔煉設(shè)備兩臺,等靜壓設(shè)備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺,檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。

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