每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中，閥門開關60設置在每一***子管道301上。在一些實施例中，閥門開關60設置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中，...

氟化液因其具有極好的惰性、高密度、低粘度、低表面張力、低介電常數(shù)等優(yōu)良性能；而且具有不燃、無毒、無腐蝕性、揮發(fā)無殘留等特性，廣泛應用于電子精密清洗、電子元件測漏液或氣密性測試液、絕緣液、導熱冷卻液、溶劑稀釋劑等 我們致力于創(chuàng)造一個更健康更美好的未來，...

以及一設置于基板下方的第二風刀，其中***風刀與第二風刀分別吹出一氣體至基板。如上所述的蝕刻設備，其中蝕刻設備可進一步設置有一噴灑裝置，噴灑裝置相對于風刀裝置一端而設置于擋液板結構的另一端部。如上所述的蝕刻設備，其中噴灑裝置噴灑一藥液至基板上。如上所述...

光刻作為IC制造的關鍵一環(huán)常常被人重視，但是光刻膠***都是作為**層被去掉的，如何快速、干凈的去除工藝后的光刻膠是一個經(jīng)常被疏忽的問題，但是很重要，直接影響了產(chǎn)品質(zhì)量。如何快速有效的去除光刻膠。筆者**近就碰到一些去膠的問題，比如正膠和負膠去除需要的工藝有差...

光刻膠又稱光致抗蝕劑，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細圖形從掩模版轉移至加工的...

1、半導體、液晶生產(chǎn)設備：干法蝕刻裝置、探頭、離子噴射裝置、信息處理機等裝置的控溫冷媒。2、電氣、電子：精密清洗電子零件的顆粒雜質(zhì)。氣密性測試、耐電壓測試的媒介物。清洗CCD\CMOS圖像感應芯片及模塊。清洗LCD\OLED顯示器、光學零件、鏡片。清洗、干燥M...

裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲罐21，裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構件11，裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10，連接構件11的內(nèi)側固定連接有過濾部件9，裝置主體1的內(nèi)部底端另一側固定連接有收集倉8，收集倉8的...

松香助焊劑陜西凱利清洗有限公司1年陜西省西安市生產(chǎn)廠家立即詢價￥16光學清洗劑五金清洗劑電子清洗劑超聲波清洗劑工業(yè)碳氫清洗劑8060上海巨勃實業(yè)有限公司2年上海市市轄區(qū)經(jīng)銷批發(fā)立即詢價￥360電子清洗劑松香助焊劑電路板清洗劑pcb清洗劑洗板水陜西凱利清...

本實用涉及電子化學品生產(chǎn)設備技術領域，具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術：近年來，人們對半導體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時，對于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴格，而蝕刻的效果能直接導致電路板制...

這些溶纖劑可以使用1種或組合使用2種以上。本發(fā)明剝離液中的溶纖劑的含量沒有特別限定，例如，推薦～，更推薦～，特別推薦～。本發(fā)明剝離液中，為了抑制對金屬的浸蝕性，推薦還含有硅酸鹽。硅酸鹽沒有特別限定，例如，可以舉出硅酸鉀、硅酸鈉等。這些之中推薦硅酸鉀。本...

操作人員的手會與連接構件11接觸，海綿層12可以將操作人員手上的水分進行吸收，避免連接構件11的兩側與操作人員的手接觸的時候，會因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況，有效的保證了裝置內(nèi)部構件的連接工作能正常的進行；然后，通過連接構件11將裝置主體1內(nèi)部構件...

且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進行拆卸更換，有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，連接構件，連接構件設置在攪拌倉的底部，連接構件與攪拌倉固定連接，連接構件能將裝置主體內(nèi)部的兩個構件進行連接并固定，且在將兩構件進行連接或...

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在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下，能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化，且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導體工序的去離子水，推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以...

將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應的原料罐，備用；第三步：根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量，按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐，將上述混料充分攪拌，攪拌時間為3～5h；第四步：在第...

將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進行清洗，具有很好的清理作用。工作原理：對于這類的回收處理裝置，首先將蝕刻液倒入進液漏斗6并由過濾網(wǎng)7過濾到進液管8中，之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合連接桿...

含有的胺化合物的質(zhì)量分為：1％-2％。進一步技術方案中，所述的添加劑中含有醇醚化合物的質(zhì)量分為：30％-50％；含有胺化合物的質(zhì)量分為：35％-55％；含有緩蝕劑的質(zhì)量分為：6％-12％；含有潤濕劑的質(zhì)量分為：1％-7％。進一步技術方案中，所述的步驟s...

按照組成成分和應用工藝不同，濕電子化學品可分為通用性和功能性濕電子化 學品。通用濕電子化學品以超凈高純試劑為主，一般為單組份、單功能、被大量使 用的液體化學品，按照性質(zhì)劃分可分為：酸類、堿類、有機溶劑類和其他類。酸類 包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等；堿類...

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工業(yè)清洗劑,超聲波清洗劑價格：港聯(lián)環(huán)保清洗劑工業(yè)清洗行業(yè)是清洗行業(yè)下的一個分支行業(yè)深圳港聯(lián)環(huán)保清洗劑廠佛山供應精密電子硅油清洗劑帶你一起見證去硅科研實力價格：佛山供應精密電子硅油清洗劑主營產(chǎn)品：中性清洗劑環(huán)保清洗劑水性清洗劑東莞南城毅誠經(jīng)營部硅油清洗劑...

在PCB電路板“三防”處理要求上，三防漆涂覆同樣具備不導電、不可燃、穩(wěn)定性高的特點，可以達到“三防”要求，但氟化液涂覆相比三防漆涂覆，具有以下明顯優(yōu)勢：一、三防漆在使用中需要配合稀釋劑，工藝過程會產(chǎn)生有毒物質(zhì)揮發(fā)，需要采取一定的防護措施，否則會影響人體健康，而...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設計為5°，進液管8的形狀設計為l型，且進液管8貫穿分隔板2設置在進液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過伸縮桿...

散熱器相變散熱介質(zhì)有哪些？顏色透明沸點55美國進口現(xiàn)在什么情況是否進口否產(chǎn)地美國型號4310品牌杜邦貨號12312-1631比重主營產(chǎn)品：HCFC141B正溴丙烷科幕制冷劑蒸發(fā)冷卻介質(zhì)上海銳一環(huán)?？萍加邢薰舅诘兀荷虾Ｆ謻|新區(qū)在線詢價平板壁掛家庭裝太...

剝離液是一種通用濕電子化學品，主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì)，同時防止對襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關鍵性電子化工材料，下游應用領域***，但整體應用需求較低，因此市場規(guī)模偏...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅，工藝體系，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝，在生產(chǎn)過程中...

月）所屬分類：[上海]上海合志貿(mào)易有限公司|查看聯(lián)系方式報價:1元點此詢價大量供應3MNovecHFE-7100電子氟化液、清洗液品牌：3M型號：HFE-7100主要成分：C4F9OCH3所屬分類：[廣東深圳]深圳市恩訊浦科技有限公司|查看聯(lián)系方式報價...

產(chǎn)地)深圳主營產(chǎn)品：硅膠模具硅膠電子灌封膠模具矽膠￥深圳市紅葉杰科技有限公司所在地：廣東深圳在線詢價云康電熱化工管道式電加熱器空氣加熱器液體管式道加熱器是否進口否產(chǎn)地中國江蘇加工定制是品牌云康型號YKDR-G訂貨號YKDR-G主營產(chǎn)品：防爆加熱器導熱油...

不易燃,不含CFC和、對塑膠塑料和橡膠無腐蝕,快干不殘留.3、迅速***灰塵、油污、助焊劑、濕氣、靜電、金屬粉末等其它污垢.電子設備清洗劑是什么?——英文名cleaningagentforelectronicequipment別名電子儀器清洗劑;電氣裝...

silane)系偶聯(lián)劑和水，上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外，提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜...

例如即使為50/50μm以下的線/間距、推薦10/10～40/40μm的線/間距也能除去抗蝕劑。實施例以下，舉出實施例對本發(fā)明進行詳細說明，但本發(fā)明不受這些實施例任何限定。實施例1抗蝕劑的剝離液的制備：將以下的表1中記載的成分在水中混合、溶解而制備抗蝕...