山西plasma等離子清洗機技術指導

來源: 發(fā)布時間:2024-12-21

等離子清洗機在IC封裝中的應用:塑封固化前:IC封裝的注環(huán)氧樹脂過程中,污染物的存在還會導致氣泡的形成,氣泡會使芯片容易在溫度變化中損壞,降低芯片的使用壽命。所以,避免塑封過程中形成氣泡同樣是需解決的問題。芯片與基板在等離子清洗后會更加緊密地和膠體相結合,氣泡的形成將減少,同時也可以顯著提高元件的特性,引線鍵合前:芯片在引線框架基板上粘貼后,要經過高溫固化,如果這時上面存在污染物,這些氧化物會使引線與芯片及基板之間焊接效果不完全或黏附性差,影響鍵合強度。等離子清洗運用在引線鍵合前,會顯著提高其表面活性,從而提高鍵合強度及鍵合引線的拉力均勻性。在IC封裝工藝過程中,芯片表面的氧化物及顆粒污染物會降低產品質量,如果在封裝工藝過程中的裝片前引線鍵合前及塑封固化前進行等離子清洗,則可有效去除這些污染物。射頻等離子清洗機以其高效、環(huán)保清洗的特點,成為了半導體、微電子、航空航天等行業(yè)的關鍵設備。山西plasma等離子清洗機技術指導

等離子清洗機

等離子清洗機通過使用物理或化學方法,可以有效地清潔、活化或改性材料表面。對于陶瓷基板,等離子清洗的主要作用是去除表面的污垢、氧化物、層間介質等雜質,同時通過活化表面,提高其潤濕性和粘合性。陶瓷基板處理后的主要優(yōu)勢:1.提高附著力:通過等離子清洗,陶瓷基板的表面可以得到明顯改善,其粗糙度和清潔度均提高。這不僅可以提高基板與涂層或貼片的附著力,還能有效防止由于附著力不足導致的涂層脫落或翹曲等問題。2.增強潤濕性:等離子清洗處理能夠提高陶瓷基板的表面潤濕性。對于需要液態(tài)材料覆蓋或浸潤的場合,如封接、焊接等,這種改善將極大地提高生產效率和良品率。3.改性表面:等離子清洗還可以對陶瓷基板表面進行改性。例如,通過引入特定的官能團或改變表面的化學組成,可以提高基板的耐腐蝕性、耐磨性等關鍵性能。貴州等離子清洗機品牌線性等離子清洗機適應多種材料,能夠解決薄膜表面處理的難題,是處理薄膜等扁平且較寬材料的不錯的設備。

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芯片在引線框架基板上粘貼后,要經過高溫使之固化。如果芯片表面存在污染物,就會影響引線與芯片及基板間的焊接效果,使鍵合不完全或粘附性差、強度低。在WB工藝前使用等離子處理,可以顯著提高其表面附著力,從而提高鍵合強度及鍵合引線的拉力均勻性,提升WB工藝質量。在FlipChip(FC)倒裝工藝中,將稱為“焊球(SolderBall)”的小凸塊附著在芯片焊盤上。其次,將芯片頂面朝下放置在基板上,完成芯片與基板的連接后,通常需要在在芯片與基板之間使用填充膠進行加固,以提高倒裝工藝的穩(wěn)定性。通過等離子清洗可以改善芯片和基板表面潤濕性,提高其表面附著力,進而影響底部填充膠的流動性,使填充膠可以更好地與基板和芯片粘結,從而達到加固的目的,提高倒裝工藝可靠性。

等離子清洗機在隱形眼睛中清洗的應用:目前使用的隱形眼鏡是用有機玻璃(聚甲基丙烯酸甲酪)制成的,它具有折射率高、硬度合適、生物親和性好等優(yōu)點,但它存在親水性差的缺點,長期佩戴會造成眼睛不適,另外它對氧氣的通透性較差,易造成佩戴時引起眼睛發(fā)炎等問題。研究發(fā)現(xiàn)使用等離子體清洗技術不僅可以去除隱形眼鏡表面的污垢,而且利用乙炔、氮氣和水形成的等離子體聚合物鍍在隱形眼鏡的表面形成--個薄膜,可以改善它的親水性、保濕性和透氣性。用等離子體清洗不僅可將隱形眼鏡上的各種污垢清洗干凈,而且具有對材料性能影響小,可在較長一段時間里有效減少被污染可能的優(yōu)點。等離子體(plasma)是由自由電子和帶電離子為主要成分的物資狀態(tài),被稱為物資的第四態(tài)。

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等離子體技術的特點是不分材料的幾何形狀和類型,均可進行PlaSMA等離子處理,對金屬、半導體、氧化物、PET纖維、PDMS、PTFE、ITO/FTO導電玻璃、硅片和大多數(shù)高分子材料,如液晶高分子、聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、聚四氟乙烯和石墨烯粉末、金屬氧化物粉末、聚乙二醇粉末、碳黑粉末、碳納米管粉末、硼粉、鋁粉、熒光粉等都能很好地處理,可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗、活化、改性、蝕刻。選擇適合的等離子清洗機能保證材料表面不被損傷,也能提升材料物理和化學性能。等離子清洗機對所處理的材料無嚴格要求,無論是金屬、半導體、氧化物,都能進行良好的處理。遼寧半導體封裝等離子清洗機推薦廠家

plasma等離子清洗機是一款通過plasma(等離子體)進行表面處理的設備。山西plasma等離子清洗機技術指導

等離子清洗機(plasmacleaner)是高科技的一款表面處理設備,通過等離子體來達到表面處理的作用;獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應用,解決各種行業(yè)的表面處理難題。1、等離子清洗機原理密閉的反應腔體(真空室、真空腔體)被真空泵不斷抽氣,從1個標準大氣壓下降到設定的壓力值并維持真空度;通入氬、氫、氮氣等工藝氣體,啟動等離子發(fā)生器,讓反應腔體內電極之間產生高壓交變電場,使得自由電子能量加速,去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體,具有高反應活性或高能量的等離子體,會與有機污染物及微顆粒污染物反應、碰撞形成各種揮發(fā)性物質,這些揮發(fā)性物質伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去,從而達到被處理對象表面清潔、活化等目的。山西plasma等離子清洗機技術指導