韓國(guó)MAK,等離子清洗,Plasma

韓國(guó)MAK AIK等離子清洗Plasma 超聲波清洗USC

Plasma 

等離子體是一種由自由電子和帶電離子為主要成分的物質(zhì)形態(tài)，廣泛存在于宇宙中，常被視為是物質(zhì)的第四態(tài)，被稱為等離子態(tài)，或者“超氣態(tài)”，也稱“電漿體”。等離子體具有很高的電導(dǎo)率，與電磁場(chǎng)存在極強(qiáng)的耦合作用。 它是部分電離的氣體, 由電子, 離子, 自由基, 中性粒子, 及光子組成. 等離子體本身是含有物理和化學(xué)活潑粒子的電中性混合物. 這些活潑自由基粒子能夠做化學(xué)功, 而帶電原子和分子通過(guò)濺射能夠做物理功, 結(jié)果, 通過(guò)物理轟擊和化學(xué)反應(yīng), 等離子工藝能夠完成各種材料表面改性, 包括表面活化、 污染物去除、刻蝕等功效.

適用于半導(dǎo)體集成電路及微電子產(chǎn)業(yè)，LCD液晶、LED,OLED封裝，PCB板制造，手機(jī)觸摸屏，平板電腦玻璃蓋板清洗活化，印制線路板行業(yè)，3C,半導(dǎo)體IC領(lǐng)域，硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。

1、印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污，軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。

2、半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗

3、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域：硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化