無錫國(guó)產(chǎn)減薄用清洗劑推薦廠家

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-03-27

    在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,拋光液110的主要成分包括:碳化硅顆粒,顆粒直徑為50nm~200nm,體積比為3%~5%;次氯酸鹽,體積比為30%~40%;氫溴酸,體積比為5%~7%,di水,體積比50~60%。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,如圖3所示,磁轉(zhuǎn)子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結(jié)構(gòu)120和位于柱狀磁性結(jié)構(gòu)120的底部平面的研磨層121,以通過研磨層121對(duì)待加工部件20的待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨。當(dāng)然,本發(fā)明并不僅限于此,在其他實(shí)施例中,可以根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的磁轉(zhuǎn)子形狀。可選地,研磨層121為金屬氧化物層,進(jìn)一步可選地,金屬氧化物層包括三氧化二鋁層。可選地,研磨層121的厚度為10μm。本發(fā)明實(shí)施例中,如圖4所示,磁轉(zhuǎn)子12沿箭頭所示方向旋轉(zhuǎn),如沿逆時(shí)針或順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn),并且,磁轉(zhuǎn)子12的長(zhǎng)度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑,以對(duì)整個(gè)待加工表面進(jìn)行研磨。本發(fā)明實(shí)施例中,拋光減薄裝置還包括控制部件??刂撇考c磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11相連,用于控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作,以對(duì)待加工表面交替進(jìn)行拋光和減薄。其中,控制部件通過脈沖方式控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作。可選地,控制部件控制磁轉(zhuǎn)子12的轉(zhuǎn)速為80rpm~200rpm。減薄清洗劑,采用科技,為您帶來好的清潔效果。無錫國(guó)產(chǎn)減薄用清洗劑推薦廠家

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    用于將空氣噴射到玻璃的將被暴露于激光束的預(yù)定部分并因此瞬時(shí)去除噴淋液,從而可得到更準(zhǔn)確地玻璃厚度測(cè)量數(shù)據(jù)。一般的,所述目標(biāo)厚度為減薄處理后所需求玻璃的理論厚度值,所述理論厚度值為具有公差的范圍值。所述玻璃減薄生產(chǎn)線還包括輔助厚度測(cè)量?jī)x,所述輔助厚度測(cè)量?jī)x設(shè)置在所述沖洗區(qū)2中并用于再次測(cè)量經(jīng)減薄處理后的玻璃厚度,所述輔助厚度測(cè)量?jī)x將測(cè)得玻璃厚度發(fā)送到所述控制器。所述輔助厚度測(cè)量?jī)x的設(shè)置可降低所述主厚度測(cè)量?jī)x32失靈或因所述蝕刻區(qū)3中的阻礙因素不能正確測(cè)量玻璃厚度時(shí)異常操作而造成的玻璃減薄缺陷,所述阻礙因素可以為噴淋液的噴淋阻礙或所述玻璃加工治具4的振動(dòng)。所述控制器基于所述輔助厚度測(cè)量?jī)x測(cè)得的玻璃厚度確定在所述蝕刻區(qū)3中是否正常執(zhí)行減薄處理或者所述主厚度測(cè)量?jī)x32是否正確工作。一般的,從所述輔助厚度測(cè)量?jī)x接收的玻璃的厚度超出目標(biāo)厚度的公差范圍,則所述控制器確定所述主厚度測(cè)量?jī)x32無法正確工作或者在所述蝕刻區(qū)3中沒有正常執(zhí)行減薄處理。在這種情況下,所述控制器發(fā)出警報(bào)來通知管理者,所述主厚度測(cè)量?jī)x32失靈或者所述蝕刻區(qū)3中的減薄處理異常。所述主厚度測(cè)量?jī)x32失靈或所述者蝕刻區(qū)3中的減薄處理異??赡苁菚簳r(shí)的。廣州清洗效果好的減薄用清洗劑替代品選擇專業(yè)減薄用清洗劑,為您的產(chǎn)品質(zhì)量保駕護(hù)航。

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    將待加工部件固定在托盤上包括:采用光刻膠將待加工部件固定在托盤上。具體地,將待加工部件背面噴涂厚度約為2μm的光刻膠,如az4620光刻膠,然后在托盤表面噴涂厚度約為3μm的光刻膠,如az4620光刻膠,之后,將托盤光刻膠面向上放于溫度為90℃的熱板上,將待加工部件光刻膠面和托盤光刻膠面貼合,在2×10-2mabr真空下,施加1bar壓強(qiáng)于待加工部件上進(jìn)行鍵合,鍵合時(shí)間20min。s102:通過噴頭向待加工部件的待加工表面噴涂拋光液,來對(duì)待加工表面進(jìn)行拋光;s103:通過磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)對(duì)待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨,來對(duì)待加工表面進(jìn)行減薄??蛇x地,本發(fā)明實(shí)施例中,s102和s103可以交替進(jìn)行,也就是說,控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)一段時(shí)間后,控制磁轉(zhuǎn)子停止旋轉(zhuǎn),并控制噴頭噴涂拋光液,停止噴涂拋光液后,再次控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn),以此類推。本發(fā)明實(shí)施例中,通過磁轉(zhuǎn)子和噴頭交替工作,實(shí)現(xiàn)了減薄和拋光兩種工藝交替作用,使得減薄和拋光一體化完成,整個(gè)過程穩(wěn)定,速度快,控制性好,重復(fù)度高,無粉塵污染,襯底減薄終厚度達(dá)到20μm,拋光面ra<2nm。由于減薄過程中待加工部件20如inp基晶圓本身不旋轉(zhuǎn),因此,可以降低拋光減薄過程中對(duì)待加工部件20如inp基晶圓的擠壓應(yīng)力。高效、環(huán)保的減薄用清洗劑,為您的生產(chǎn)帶來綠色變化。

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    潔普士?zepoos致力于開發(fā)高效、環(huán)保的清洗劑產(chǎn)品,是幕阜科技公司旗下的清洗劑品牌。是全球的工業(yè)清洗劑產(chǎn)品生產(chǎn)商和服務(wù)商,公司通過zepoos?(潔普士)品牌提供了230多種清洗劑產(chǎn)品和清洗工藝解決方案。從推出工業(yè)清洗劑產(chǎn)品銷售以來,“潔普士”產(chǎn)品在全世界所開展的清洗劑產(chǎn)品的研究和生產(chǎn)業(yè)務(wù)中取得了巨大的成功。為了更進(jìn)一步服務(wù)好廣大的客戶,“潔普士清洗劑”在中國(guó)江蘇、浙江和上海建立了生產(chǎn)基地和銷售網(wǎng)絡(luò),以較低的成本向客戶提供的產(chǎn)品和高效率的服務(wù)?!皾嵠帐俊鼻逑串a(chǎn)品目前有:環(huán)保電子清洗劑、松香清洗劑、噴淋超聲波清洗劑,松香錫膏助焊劑清潔劑、強(qiáng)油污清洗劑、錫膏清洗劑、助焊劑清洗劑、回流焊清洗劑、波峰焊清洗劑、鋼網(wǎng)清洗劑、絲網(wǎng)印刷清洗劑、電子清洗劑、表面活性清洗劑、爐膛清洗劑、硅片清洗劑、夾具清洗劑、貼片元器件清洗劑、LED清洗劑、精密儀器清洗劑、水基清洗劑、半水基清洗劑、溶劑清洗劑、電子儀器清洗劑、電氣設(shè)備清洗劑、IC清洗劑、多功能水基清洗、電容電阻清洗劑、二極管清洗劑、大功率封裝器件清洗劑、植球BGA清洗劑、誤印鋼網(wǎng)/絲網(wǎng)清洗劑、半導(dǎo)體清洗劑機(jī)械零件清洗劑、電子元器件清洗劑、環(huán)保溶劑清洗劑、環(huán)保水基清洗。蘇州好的減薄用清洗劑的公司。上海什么是減薄用清洗劑推薦貨源

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    圖2為所述蝕刻區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為所述玻璃加工治具的種結(jié)構(gòu)正視圖;圖4為所述玻璃加工治具的第二種結(jié)構(gòu)正視圖;圖5為圖3中的局部放大圖;圖6為所述玻璃加工治具的結(jié)構(gòu)俯視圖;圖7為所述底支撐件的結(jié)構(gòu)正視圖;圖8為所述底支撐件的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。圖中數(shù)字表示:1-轉(zhuǎn)換區(qū);2-沖洗區(qū);3-蝕刻區(qū);4-玻璃加工治具;31-腔室;32-主厚度測(cè)量?jī)x;33-噴淋組件;41-底座;42-支撐架;43-底支撐件;44-側(cè)支撐件;421-豎直平板;422-側(cè)板;423-固定板;424-水平槽;425-豎直槽;426-固定槽;427-固定卡塊;428-定位槽;429-定位孔;431-支撐條;432-第二支撐條;433-連接部;434-接觸部;435-磁性件;436-第二磁性件;437-限位孔;438-限位塊;439-第二限位塊。具體實(shí)施方式以下結(jié)合附圖,對(duì)本發(fā)明上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說明。實(shí)施例一如圖1所示,圖1為所述玻璃減薄設(shè)備的結(jié)構(gòu)視圖;本發(fā)明中所述玻璃減薄設(shè)備包括轉(zhuǎn)換區(qū)1、沖洗區(qū)2和蝕刻區(qū)3,所述沖洗區(qū)2設(shè)置于所述轉(zhuǎn)換區(qū)1和所述蝕刻區(qū)3之間,豎直容納在玻璃加工治具4中的多個(gè)玻璃通過所述轉(zhuǎn)換區(qū)1被加載到所述沖洗區(qū)2中,在所述沖洗區(qū)2中進(jìn)行減薄前清潔并且在所述蝕刻區(qū)3中經(jīng)歷減薄處理。無錫國(guó)產(chǎn)減薄用清洗劑推薦廠家