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    潔普士?zepoos致力于開(kāi)發(fā)高效、環(huán)保的清洗劑產(chǎn)品，是幕阜科技公司旗下的清洗劑品牌。是全球的工業(yè)清洗劑產(chǎn)品生產(chǎn)商和服務(wù)商，公司通過(guò)zepoos?（潔普士）品牌提供了230多種清洗劑產(chǎn)品和清洗工藝解決方案。從推出工業(yè)清洗劑產(chǎn)品銷售以來(lái)，“潔普士”產(chǎn)品在全世界所開(kāi)展的清洗劑產(chǎn)品的研究和生產(chǎn)業(yè)務(wù)中取得了巨大的成功。為了更進(jìn)一步服務(wù)好廣大的客戶，“潔普士清洗劑”在中國(guó)江蘇、浙江和上海建立了生產(chǎn)基地和銷售網(wǎng)絡(luò)，以較低的成本向客戶提供的產(chǎn)品和高效率的服務(wù)。“潔普士”清洗產(chǎn)品目前有：環(huán)保電子清洗劑、松香清洗劑、噴淋超聲波清洗劑，松香錫膏助焊劑清潔劑、強(qiáng)油污清洗劑、錫膏清洗劑、助焊劑清洗劑、回流焊清洗劑、波峰焊清洗劑、鋼網(wǎng)清洗劑、絲網(wǎng)印刷清洗劑、電子清洗劑、表面活性清洗劑、爐膛清洗劑、硅片清洗劑、夾具清洗劑、貼片元器件清洗劑、LED清洗劑、精密儀器清洗劑、水基清洗劑、半水基清洗劑、溶劑清洗劑、電子儀器清洗劑、電氣設(shè)備清洗劑、IC清洗劑、多功能水基清洗、電容電阻清洗劑、二極管清洗劑、大功率封裝器件清洗劑、植球BGA清洗劑、誤印鋼網(wǎng)/絲網(wǎng)清洗劑、半導(dǎo)體清洗劑機(jī)械零件清洗劑、電子元器件清洗劑、環(huán)保溶劑清洗劑、環(huán)保水基清洗。嘉興性價(jià)比高的減薄用清洗劑替代選擇高效減薄用清洗劑，為您的生產(chǎn)線注入新活力。

    所述支撐條431和所述第二支撐條432一一平行對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述連接部433活動(dòng)連接所述支撐條431和所述第二支撐條432，所述支撐條431固定設(shè)置于所述底座41上，所述接觸部434均勻設(shè)置在所述第二支撐條432上。同時(shí)可通過(guò)設(shè)置所述支撐條431的高度或所述支撐條431的固定位置從而調(diào)節(jié)所述底支撐件43的高度，如通過(guò)將上述支撐條431的兩端固定在兩所述豎直平板421上。較佳的，所述支撐條431和所述第二支撐條432上設(shè)置有磁性組，所述支撐條431和所述第二支撐條432在所述磁性組提供的磁性斥力作用下具有調(diào)節(jié)間隙。所述磁性組包括磁性件435和第二磁性件436，所述磁性件435和所述第二磁性件436分別設(shè)置于所述支撐條431和所述第二支撐條432上，且所述磁性件435和所述第二磁性件436之間具有磁性斥力，從而使所述第二支撐條432懸浮于所述支撐條431的上方。所述連接部433設(shè)置有限位孔437，所述限位孔437設(shè)置為腰型孔，所述支撐條431的水平兩側(cè)均設(shè)置有若干限位塊438，所述第二支撐條432的水平兩側(cè)均設(shè)置有若干第二限位塊439，所述限位塊438和所述第二限位塊439一一對(duì)應(yīng)設(shè)置，對(duì)應(yīng)設(shè)置的所述限位塊438和所述第二限位塊439均設(shè)置在同一所述連接部433的所述限位孔437內(nèi)。

    在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，拋光液110的主要成分包括：碳化硅顆粒，顆粒直徑為50nm～200nm，體積比為3％～5％；次氯酸鹽，體積比為30％～40％；氫溴酸，體積比為5％～7％，di水，體積比50～60％。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖3所示，磁轉(zhuǎn)子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結(jié)構(gòu)120和位于柱狀磁性結(jié)構(gòu)120的底部平面的研磨層121，以通過(guò)研磨層121對(duì)待加工部件20的待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨。當(dāng)然，本發(fā)明并不僅限于此，在其他實(shí)施例中，可以根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的磁轉(zhuǎn)子形狀?？蛇x地，研磨層121為金屬氧化物層，進(jìn)一步可選地，金屬氧化物層包括三氧化二鋁層?？蛇x地，研磨層121的厚度為10μm。本發(fā)明實(shí)施例中，如圖4所示，磁轉(zhuǎn)子12沿箭頭所示方向旋轉(zhuǎn)，如沿逆時(shí)針或順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)，并且，磁轉(zhuǎn)子12的長(zhǎng)度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑，以對(duì)整個(gè)待加工表面進(jìn)行研磨。本發(fā)明實(shí)施例中，拋光減薄裝置還包括控制部件?？刂撇考c磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11相連，用于控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作，以對(duì)待加工表面交替進(jìn)行拋光和減薄。其中，控制部件通過(guò)脈沖方式控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作?？蛇x地，控制部件控制磁轉(zhuǎn)子12的轉(zhuǎn)速為80rpm～200rpm。質(zhì)量比較好的減薄用清洗劑的公司找誰(shuí)？

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