河南什么是BOE蝕刻液供應(yīng)商

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-01-18

    然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱,待加熱到確定溫度后,放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻;蝕刻完后,取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,使用橢圓偏振光譜儀對(duì)蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測(cè)量,計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值,對(duì)比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比,本發(fā)明的有益效果是:醇醚類(lèi)和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤(rùn)性和降低磷酸溶液的表面張力,有效提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明,對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明,但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85%,蝕刻溫度為160℃,蝕刻時(shí)間為10min。先對(duì)所配制蝕刻液的表面張力進(jìn)行檢測(cè),然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,進(jìn)行接觸角的測(cè)量;蝕刻前使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠?,在氮化硅樣片上?個(gè)不同位置的點(diǎn)對(duì)其厚度進(jìn)行測(cè)量;蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠螅∨c蝕刻前相同位置的6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度測(cè)量。實(shí)施例1本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱(chēng)取濃度為85%的磷酸,然后稱(chēng)取添加劑加入磷酸中。BOE蝕刻液的的性?xún)r(jià)比、質(zhì)量哪家比較好?河南什么是BOE蝕刻液供應(yīng)商

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緩沖氧化物蝕刻液(BOE)又稱(chēng)為緩沖氧化物蝕刻劑,是由氫氟酸(49%)與水或氟化銨與水混合而成。作為一種濕式蝕刻劑,緩沖氧化物蝕刻液具有速率快、蝕刻容易控制、溶解能力高等特點(diǎn)。緩沖氧化物蝕刻液主要用于蝕刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜,下游應(yīng)用涉及到光伏太陽(yáng)能、半導(dǎo)體、平板顯示等多個(gè)領(lǐng)域。

年來(lái),得益于新能源、電子等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,全球緩沖氧化物蝕刻液市場(chǎng)規(guī)模不斷擴(kuò)大,發(fā)展到2020年,全球緩沖氧化物蝕刻液市場(chǎng)規(guī)模已達(dá)到4.2億元。目前緩沖氧化物蝕刻液下游市場(chǎng)處于發(fā)展階段,對(duì)緩沖氧化物蝕刻液的需求仍保持增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),因此未來(lái)緩沖氧化物蝕刻液行業(yè)發(fā)展前景較好。 河南什么是BOE蝕刻液供應(yīng)商BOE蝕刻液的發(fā)展趨勢(shì)如何。

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Buffered Oxide Etch,BOE就是buffer oxide etch, B.O.E 緩沖蝕刻液 BOE是HF與NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蝕刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(體積比)的成分混合而成??涛g速度約10nm每秒。HF為主要的蝕刻液,NH4F則作為緩沖劑使用。利用NH4F固定〔H+〕的濃度,使之保持一定的蝕刻率。HF會(huì)浸蝕玻璃及任何含硅石的物質(zhì),對(duì)皮膚有強(qiáng)烈的腐蝕性,不小心被濺到,應(yīng)用大量水沖洗。

BOE(Buffered Oxide Etch),緩沖氧化物刻蝕液。由氫氟酸(49%)與水或氟化銨與水混合而成。

    verapartado).Enterramientodelastuberíánlastuberíassobreunacamadearenade10centímetrosdeprofundidad,comomínimo,aseguráónentretubosdeberáserde,almenos,lalongitudequivalentealdiáásercomomínimode20centíías,sesometelainstalaciónaunapruebaderesistenciayestanqueidadde2bar(medidarelativa)íassecontrolarán,comomínimovisualmente,paracomprobarlacontinuidadenelencintadoylaexistenciadependientehaciaeltanque,sinformacióíasyaccesoriosdepláíónTécnicaComplementaria,lostubosyaccesoriosdeplásticoreforzadoconfibradevidrio(PRFV),deberánfabricarseapartirdelossiguientesmateriales:resinaepoxireforzadaconfibradevidrio,poliésterreforzadoconfibradevidriouotrosmaterialesdesimilarescaracteríóndelastuberíasyaccesoriosseemplearánresinassintéticasepoxi,depoliésteresinstauradosuotrostiposderesinasconcaracterísticasanálogas,segúáánconlosextremosmachihembradosparasuposteriorunióónseráporadhesivo。京東方用的哪家的BOE蝕刻液?

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    所述的磷酸濃度為82-87%。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,醇醚類(lèi)的含量為%。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,表面活性劑的含量為%。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,所述的醇醚類(lèi)為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種;表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進(jìn)一步地,在使用本發(fā)明的蝕刻液進(jìn)行氮化硅層蝕刻時(shí),蝕刻溫度為152-165℃,蝕刻時(shí)間為5-60min。通過(guò)在磷酸中添加醇醚類(lèi)和表面活性劑,改善了磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力,明顯提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕和蝕刻均勻性。為了便于驗(yàn)證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性,本發(fā)明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后,先使用表面張力儀檢測(cè)該蝕刻液的表面張力;然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片,采用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,使用接觸角測(cè)量?jī)x檢測(cè)蝕刻液對(duì)氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前,使用橢圓偏振光譜儀對(duì)氮化硅樣片取不同位置共6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度的測(cè)量。河南什么是BOE蝕刻液供應(yīng)商