湖北一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式

來源: 發(fā)布時間:2023-06-26

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多級逆流萃取該廠用TY-1絡(luò)合萃取劑,采用CWL450-M型離心萃取機對含酚廢水進(jìn)行處理。該工藝操作簡單,開停車方便,設(shè)備維修方便,CWL450-M型離心萃取機理論處理量為15m3/h,混合效果較好,分離速度較快廢水量為6m3/h。。操作溫度為45℃,逆流萃取后萃取液中酚含量為80mg/L左右,處理后的萃取液滿足生化處理的要求,直接進(jìn)入生化段進(jìn)行處理。采用18%的堿液(NaOH溶液)進(jìn)行反萃,反萃后的有機相能夠滿足萃取的要求,直接進(jìn)入萃取段繼續(xù)脫酚,二堿液循環(huán)使用至游離堿含量低于5%左右送至酚鈉回收工段。磷酸是一種重要的無機酸,中強酸,是化肥工業(yè)生產(chǎn)中重要的中間產(chǎn)品,主要用于化學(xué)肥料、工業(yè)磷酸鹽、飼料級磷酸鹽、磷酸鹽、食品磷酸及電子級磷酸等的生產(chǎn)。湖北一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式維信諾用的哪家的BOE蝕刻液?

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蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線路版(PCB)蝕刻過程中,蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到的蝕刻效果,每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽(NH4CI)及氨水(NH3)。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度水平,蝕刻用過后的(以下稱[用后蝕刻液])溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補充劑及氨水,補償因運作時被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液,既可達(dá)到蝕刻工藝的要求。

 PCB行業(yè)制作工序中產(chǎn)生大量微蝕液、蝕刻液、硝酸銅等含有不同濃度的銅等金屬,回收價值高,且外排廢水中也會有少量的銅重金屬存在,如不能合理的進(jìn)行環(huán)保處理,一方面造成資源的嚴(yán)重浪費,另一方面重金屬排放后滲入至土壤及水源之中,即會對我們賴以生存的自然環(huán)境及自身的健康產(chǎn)生嚴(yán)重的污染和危害。近年來隨著環(huán)保意識的增強,法規(guī)對于印制電路板工廠排放廢水的各項指標(biāo)限制日趨嚴(yán)謹(jǐn),因此,印制電路板產(chǎn)業(yè)廢水處理為達(dá)到銅離子的穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放標(biāo)準(zhǔn),均以大量加藥的手段來獲得解決BOE蝕刻液的的性價比、質(zhì)量哪家比較好?

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BOE蝕刻液適用于哪些行業(yè)。湖北一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式

Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位,此時蝕刻速率慢,即應(yīng)考慮蝕刻液的更新。一般工廠很少分析和測定蝕刻液中的含銅量,多以蝕刻時間和蝕刻質(zhì)量來確定蝕刻液的再生與更新。蝕刻銅箔的同時,還伴有一些副反應(yīng),就是CuCl2和FeCl3的水解反應(yīng):FeCl3+3H2O→Fe(OH)3↓+3HClCuCl2+2H2O→Cu(OH)2↓+2HCl生成的氫氧化物很不穩(wěn)定,受熱后易分解:2Fe(OH)3→Fe2O3↓+3H2OCu(OH)2→CuO↓+H2O結(jié)果生成了紅色的氧化鐵和黑色的氧化銅微粒,懸浮于蝕刻液中,對抗蝕層有一定的破壞作用。2.影響蝕刻速率的因素Fe3+的濃度和蝕刻液的溫度蝕刻液溫度越高,蝕刻速率越快,溫度的選擇應(yīng)以不損壞抗蝕層為原則。Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加,對銅的蝕刻速率相應(yīng)加快。當(dāng)所含F(xiàn)e3+超過某一濃度時,由于溶液粘度增加,蝕刻速率反而有所降低。湖北一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式

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