南京什么剝離液配方技術

來源: 發(fā)布時間:2023-04-26

    所述硫脲類緩蝕劑包括硫脲、苯基硫脲或月桂酰基硫脲中的一種。具體的,所述聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑為聚氧乙烯聚氧丙烯單丁基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯醚中的一種。采用上述技術方案,本發(fā)明技術方案的有益效果是:本用于疊層晶圓的光刻膠剝離液具有較快的剝離速度,對金屬的腐蝕率低,而且使用壽命長。具體實施方式本發(fā)明涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,配方包括10~20wt%二甲基亞砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氫氧化銨,~1wt%硫脲類緩蝕劑和~2wt%聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑因為分子中的醚鍵不易被酸、堿破壞,所以穩(wěn)定性較高,水溶性較好,耐電解質(zhì),易于生物降解,泡沫小。硫脲類緩蝕劑呈現(xiàn)弱堿性,所以在酸性介質(zhì)中能夠起到緩蝕的效果,另外與聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑和n-甲基吡咯烷酮配合可以起到提高處理量的作用。下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。哪家的剝離液蝕刻效果好?南京什么剝離液配方技術

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濕電子化學品位于電子信息產(chǎn)業(yè)偏中上游的材料領域。濕電子化學品上游是基 礎化工產(chǎn)品,下游是電子信息產(chǎn)業(yè)(信息通訊、消費電子、家用電器、汽車電子、 LED、平板顯示、太陽能電池、**等領域)。濕電子化學品的生產(chǎn)工藝主要采用物 理的提純技術及混配技術,將工業(yè)級的化工原料提純?yōu)槌瑑舾呒兓瘜W試劑,并按照 特定的配方混配為具有特定功能性的化學試劑。濕電子化學品行業(yè)是精細化工和電 子信息行業(yè)交叉的領域,其行業(yè)特色充分融入了兩大行業(yè)的自身特點,具有品種多、 質(zhì)量要求高、對環(huán)境潔凈度要求苛刻、產(chǎn)品更新?lián)Q代快、產(chǎn)品附加值高、資金投入 量大等特點,是化工領域相當有發(fā)展前景的領域之一。紹興配方剝離液報價如何選擇一家好的做剝離液的公司。

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剝離液是一種通用濕電子化學品,主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì),同時防止對襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關鍵性電子化工材料,下游應用領域***,但整體應用需求較低,因此市場規(guī)模偏小。

剝離液應用在太陽能電池中,對于剝離液的潔凈度要求較低,*需達到G1等級,下游客戶主要要天合、韓華、通威等;應用到面板中,通常要達到G2、G3等級,且高世代線對于剝離液的要求要高于低世代線,下游客戶有京東方、中星光電;在半導體中的應用可分等級,在8英寸及以下的晶圓制造中,對于剝離液的要求達到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等**產(chǎn)品要達到G5水平。

    腔室10及過濾器30可以采用與現(xiàn)有技術相同的設計。處于剝離制程中的玻璃基板,按照玻璃基板傳送方向從當前腔室101開始逐級由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進行剝離制程。剝離液從當前腔室101進入相應的存儲箱20,在剝離液的水平面超過預設高度后流入過濾器30,再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級腔室102內(nèi)。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關60設置在***管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時,關閉位于過濾器30兩側(cè)的***管道40及第二管道50上的閥門開關60,可以保證當前級腔室101對應的存儲箱20內(nèi)剝離液不會流出,同時下一級腔室102內(nèi)的剝離液也不會流出。在一些實施例中,請參閱圖3,圖3為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。過濾器30包括多個并列排布的子過濾器301,所述***管道40包括多個***子管道401,每一所述***子管道401與一子過濾器301連通,且所述多個***子管道401與當前級腔室101對應的存儲箱20連通。在一些實施例中,第二管道50包括公共子管道501及多個第二子管道502,每一所述第二子管道502與一子過濾器301連通。哪家公司的剝離液的是口碑推薦?

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    技術領域:本發(fā)明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法,可用于微納制造,光學領域,電學,生物領域,mems領域,nems領域。技術背景:微納制造技術是衡量一個國家制造水平的重要標志,對提高人們的生活水平,促進產(chǎn)業(yè)發(fā)展與經(jīng)濟增長,保障**安全等方法發(fā)揮著重要作用,微納制造技術是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎。基于半導體制造工藝的光刻技術是**常用的手段之一。對于納米孔的加工,常用的手段是先利用曝光負性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結(jié)構(gòu),再通過金屬的沉積和溶膠實現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)從而得到所需要的納米孔。然而傳統(tǒng)的方法由于光刻過程中的散焦及臨近效應等會造成曝光后的微納結(jié)構(gòu)側(cè)壁呈現(xiàn)一定的角度(如正梯形截面),這會造成蒸發(fā)過程中的掛壁嚴重從而使lift-off困難。同時由于我們常用的高分辨的負膠如hsq,在去膠的過程中需要用到危險的氫氟酸,而氫氟酸常常會腐蝕石英,氧化硅等襯底從而影響器件性能,特別的,對于跨尺度高精度納米結(jié)構(gòu)的制備在加工效率和加工能力方面面臨著很大的挑戰(zhàn)。技術實現(xiàn)要素::為了克服上述技術問題,本發(fā)明公開了一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法。南京什么剝離液配方技術

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