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盤，請?jiān)诓襟E5之后插入托盤。有關(guān)詳細(xì)信息，請參閱“抗體恢復(fù)”部分。 6.在整個表面上涂適量的一抗吸墨紙架的數(shù)量（對于MultiBlot為2.5毫升，對于迷你吸墨紙為5毫升，或10 mL用于Midi印跡）。7.在室溫下孵育10分鐘。解決方案將是吸收到污點(diǎn)固定器中，表面可能會變干。重要提示：請勿在吸塵器清潔后再使用真空吸塵器。孵育10分鐘。8.向下壓框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在連續(xù)運(yùn)行真空的情況下，添加30 mL洗滌緩沖液（MultiBlot為15毫升）。重復(fù)洗滌步驟3次以上（總共4次洗滌）。當(dāng)框架完全為空時(shí)，將TURN真空關(guān)閉。10.在印跡架的表面上涂適量的二抗（對于多印跡，為2.5 mL，5毫升用于迷你印跡，或10毫升用于Midi印跡）。在室溫下孵育10分鐘，然后關(guān)于WB實(shí)驗(yàn)加速器哪家專業(yè)？松江區(qū)Merck手持細(xì)胞計(jì)數(shù)器Merck儀器訂購

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項(xiàng)卡（圖8）創(chuàng)建和啟動自定義協(xié)議。要手動控制流量，使用“手動模式”標(biāo)簽選擇所需的井，壓力，和溫度（如果使用加熱歧管）。有關(guān)自動化協(xié)議或每次融合的手冊，請參閱CellASICO《ONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南》。注意：對于需要快速交換溶液的實(shí)驗(yàn)，請執(zhí)行以下操作可以應(yīng)用以下技術(shù)：高壓（55.2kPa[8psi）下的流量對于初始過渡，然后將流量減小到標(biāo)準(zhǔn)壓力長期暴露于6.9-13.8kPa（1-2psi）。 軟件操作下圖顯示了使用ellAsICEONX2軟件進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的兩種模式，請參閱CllASICEONIX2MicrofuidieSystem用戶有關(guān)軟件功能的詳細(xì)信息的指南。圖7.手動模式降低了ONIX2系統(tǒng)的迭代操作?？梢允謩釉O(shè)置操作參數(shù)，此模式a5o提供了選項(xiàng)運(yùn)行簡短的自動印版設(shè)置序列，這些序列Merck儀器訂購

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