正規(guī)四氟化碳高性價比的選擇

來源: 發(fā)布時間:2020-03-01

隨著我國經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)調(diào)整,新興產(chǎn)業(yè),特別是計算機(jī)、消費電子、通信等產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)增長,拉動了對上游集成電路需求。近幾年我國從國家信息安全戰(zhàn)略層面不斷加大對集成電路產(chǎn)業(yè)的政策支持力度,同時,伴隨國內(nèi)集成電路技術(shù)的積累,國內(nèi)近幾年集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模持續(xù)增長,2014年至2019年期間復(fù)合增長率達(dá)到13.45%,2019年的產(chǎn)值已達(dá)到1494.8億。另一方面,隨著半導(dǎo)體制程節(jié)點的進(jìn)一步縮小,每片晶圓的成本越來越高,特種氣體的消耗量也逐漸增多。邏輯芯片隨著制程節(jié)點的縮小,特種氣體消耗量增長率達(dá)20%,存儲芯片特種氣體消耗量增長率為1%。


之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干,等工藝。正規(guī)四氟化碳高性價比的選擇

作為關(guān)鍵性原材料,特種電子氣體的產(chǎn)品質(zhì)量對下游產(chǎn)業(yè)影響很大,例如對晶圓加工生產(chǎn)商而言,若生產(chǎn)用的氣體產(chǎn)品發(fā)生質(zhì)量問題,將導(dǎo)致整條生產(chǎn)線產(chǎn)品報廢,造成巨額損失。因此,精密化程度非常高的大規(guī)模集成電路廠商對氣體供應(yīng)商的選擇都會非常審慎和嚴(yán)格。國內(nèi)外企業(yè)市場份額占比懸殊的主要緣由之一便是難以在短期內(nèi)彌補(bǔ)的技術(shù)差距。特種電子氣體生產(chǎn)是一個系統(tǒng)工程,涉及到氣體的深度提純技術(shù)、痕量雜質(zhì)分析檢測技術(shù)、氣瓶的內(nèi)表面處理技術(shù)、尾氣的處理技術(shù)等。


江浙滬安全四氟化碳常溫常壓下穩(wěn)定,避免強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。

半導(dǎo)體材料屬于高技術(shù)壁壘行業(yè),特別是晶圓制造材料,技術(shù)要求高,生產(chǎn)難度大。目前,半導(dǎo)體材料**產(chǎn)品大多集中在美國、日本、德國、韓國、中國臺灣等國家和地區(qū)生產(chǎn)商。國內(nèi)由于起步晚,技術(shù)積累不足,整體處于相對落后的狀態(tài)。目前,國內(nèi)半導(dǎo)體材料主要集中在中低端領(lǐng)域,**產(chǎn)品基本被國外生產(chǎn)商壟斷。如硅片,2017年全球五大硅片廠商占據(jù)了全球94%的市場份額。

近年來國內(nèi)半導(dǎo)體材料生產(chǎn)商加大了研發(fā)投入,大力推進(jìn)半導(dǎo)體材料的研發(fā)及生產(chǎn),力爭實現(xiàn)國產(chǎn)替代。目前在部分細(xì)分領(lǐng)域,已經(jīng)突破國外壟斷,實現(xiàn)規(guī)?;┴?。如CMP拋光材料的**企業(yè)安集科技,公司化學(xué)機(jī)械拋光液已在130-28nm技術(shù)節(jié)點實現(xiàn)規(guī)?;N售,主要應(yīng)用于國內(nèi)8英寸和12英寸主流晶圓產(chǎn)線;濺射靶材**江豐電子,16納米技術(shù)節(jié)點實現(xiàn)批量供貨,同時7納米技術(shù)節(jié)點也實現(xiàn)供貨。


四氟化碳和氧氣瓶在高溫下不反映,四氟化碳是現(xiàn)階段電子光學(xué)制造業(yè)中使用量較大的低溫等離子蝕刻工藝汽體,其高純度氣及四氟化碳高純度氣配高純氧氣的混合體,可市場應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢塑料薄膜原材料的蝕刻工藝。針對硅和二氧化硅管理體系,選用CF4-H2反映正離子刻蝕時,根據(jù)調(diào)整二種汽體的占比,能夠得到45:1的可選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅塑料薄膜時很有效。不良影響簡述危險因素類型:GB2.2類不燃?xì)怏w入侵方式:吸進(jìn)身心健康傷害:吸進(jìn)高濃的四氟化碳出現(xiàn)呼吸不暢、嘔吐等室息病癥。目前對于R14制冷劑的生產(chǎn)、銷售以及在新制冷設(shè)備上的初裝、售后設(shè)備上的再添加均沒有限制。

國內(nèi)空分企業(yè)與特氣企業(yè)分明,業(yè)務(wù)上構(gòu)筑各自壁壘。國內(nèi)氣體公司包括氣體為的空分企業(yè),主要是以管道氣為主的現(xiàn)場制氣項目,可能更適合林德模式切入特種氣體,作為氣體綜合服務(wù)商的角色,進(jìn)行空分和特氣資源的整合。作為空分巨頭,內(nèi)生進(jìn)行特氣技術(shù)和產(chǎn)品的開發(fā),難度相對較大且所需時間周期較長,未來更多或以業(yè)務(wù)合作或收購的模式開展相關(guān)業(yè)務(wù),相關(guān)企業(yè)的優(yōu)勢在于資金實力和體量優(yōu)勢。特氣企業(yè)的優(yōu)勢在于對細(xì)化特氣產(chǎn)品的技術(shù)積淀,以及對相應(yīng)產(chǎn)品在下游客戶的認(rèn)證壁壘,目前來看,國內(nèi)空分企業(yè)和特氣企業(yè)不存在直接的競爭。


然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產(chǎn)生氟化物。華東正規(guī)四氟化碳優(yōu)化價格

用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑。正規(guī)四氟化碳高性價比的選擇

四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量比較大的等離子蝕刻氣體,也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗,太陽能電池的生產(chǎn),鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài),印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。同時,由于四氟化碳的化學(xué)穩(wěn)定性,四氟化碳可用于金屬冶煉,例如:銅、不銹鋼,碳鋼、鋁、蒙乃爾等;還可用于塑料行業(yè);如:合成橡膠、氯丁橡膠、聚氨基甲酸乙酯。正規(guī)四氟化碳高性價比的選擇