一種四氟化碳氣體濃度檢測校正方法，包括：
通過雙光路檢測系統(tǒng)利用雙波長紅外差分檢測法測量出不同溫度下的四氟化碳氣體濃度值；
將測量出的所述四氟化碳氣體濃度值和對應的溫度值輸入至RBF神經網絡進行訓練；
將對測試樣本測量所得的四氟化碳氣體濃度值輸入至訓練好的所述RBF神經網絡進行測試并開展反演計算，得到校正后的四氟化碳氣體實際濃度值。
推薦地，在本發(fā)明實施例提供的上述四氟化碳氣體濃度檢測校正方法中，通過雙光路檢測系統(tǒng)利用雙波長紅外差分檢測法測量出四氟化碳氣體濃度值，包括：所述紅外光源發(fā)出的紅外光束經準直后進入內置有四氟化碳氣體的所述氣體采樣室；被四氟化碳氣體吸收特定波長的紅外光束作為測量光；波長不受四氟化碳氣體影響的紅外光束作為參考光；
在所述測量光經所述濾光片透射后，檢測所述測量光的光強；在所述參考光經所述第二濾光片透射后，檢測所述參考光的光強；
與可燃性氣體一起燃燒時，發(fā)生分解，產生的氧化物。***四氟化碳廠家供貨
由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲烷與氟化氫反應，或四氯化碳與氟化銀反應，或四氯化碳與氟化氫反應，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，經精餾而得成品。
預先稱取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾合金反應管中，向反應管內通入氟氣，氟氣先和單質硅反應，反應放熱后，氟開始和碳化硅進行反應，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應繼續(xù)進行，生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到**終產品。
華東節(jié)能四氟化碳不燃氣體，遇高熱后容器內壓增大，有開裂、危險。
半導體電子特氣行業(yè)具有較高的技術壁壘。半導體電子特種氣體在生產過程中涉及合成、純化、混合氣配制、充裝、分析檢測、氣瓶處理等多項工藝技術，每一步均有嚴格的技術參數要求和質量控制措施。為了保證半導體器件的質量與成品率，特種氣體產品要同時滿足“超純”和“超凈”的要求，“超純”要求氣體純度達到 4.5N、5N 甚至 6N、7N（N 是 Nine 的簡寫，幾個 N 就有幾個 9“超凈”即要求嚴格控制粒子與金屬雜質的含量。作為特種氣體的參數，純度每提升一個 N，粒子、金屬雜質含量濃度每降低一個數量級，都將帶來工藝復雜度和難度的提升。
工業(yè)上把常溫常壓下呈氣態(tài)的產品統(tǒng)稱為工業(yè)氣體產品，工業(yè)氣體是現代工業(yè)的基礎原材料，在國民經濟中有著重要的地位和作用。根據制備方式和應用領域的不同，可分為大宗氣體和特種氣體，大宗氣體主要包括氧、氮、氬等空分氣體及乙炔、二氧化碳等合成氣體，對氣體純度要求并不高，主要用于冶金、石化、煤化工、鋼鐵，而特種氣體品種較多，主要包括高純氣體、混合氣體等，主要用于電子、光伏、醫(yī)療等新興領域，制作半導體所用的電子氣體就屬于特種氣體。
只有在1000℃以上，才能和二氧化碳進行反應。
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。由于化學穩(wěn)定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。
氟代烴的低層大氣中比較穩(wěn)定，而在上層大氣中可被能量更大的紫外線分解。華東安全四氟化碳價格走勢
也要注意使用四氟化碳的注意事項。***四氟化碳廠家供貨
作為關鍵性原材料，特種電子氣體的產品質量對下游產業(yè)影響很大，例如對晶圓加工生產商而言，若生產用的氣體產品發(fā)生質量問題，將導致整條生產線產品報廢，造成巨額損失。因此，精密化程度非常高的大規(guī)模集成電路廠商對氣體供應商的選擇都會非常審慎和嚴格。國內外企業(yè)市場份額占比懸殊的主要緣由之一便是難以在短期內彌補的技術差距。特種電子氣體生產是一個系統(tǒng)工程，涉及到氣體的深度提純技術、痕量雜質分析檢測技術、氣瓶的內表面處理技術、尾氣的處理技術等。
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