浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-03

伴隨著光纖通信技術(shù)的快速發(fā)展,小到芯片間,大到數(shù)據(jù)中心間的大規(guī)模數(shù)據(jù)交換處理,都迫切需求高速,可靠,低成本,低功耗的互聯(lián)。當(dāng)前,我們把主流的光互聯(lián)技術(shù)分為兩類。一類是基于III-V族半導(dǎo)體材料,另一類是基于硅等與現(xiàn)有的成熟的微電子CMOS工藝兼容的材料?;贗II-V族半導(dǎo)體材料的光互聯(lián)技術(shù),在光學(xué)性能方面較好,但是其成本高,工藝復(fù)雜,加工困難,集成度不高的缺點(diǎn)限制了未來(lái)大規(guī)模光電子集成的發(fā)展。硅光芯片器件可將光子功能和智能電子結(jié)合在一起以及提供潛力巨大的高速光互聯(lián)的解決方案。利用硅的高折射率差和成熟的制造工藝,硅光子學(xué)被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)高集成度光子芯片的較佳選擇。浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好

浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好,硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)

既然提到硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng),我們就認(rèn)識(shí)一下硅光子集。所謂硅光子集成技術(shù),是以硅和硅基襯底材料(如SiGe/Si、SOI等)作為光學(xué)介質(zhì),通過(guò)互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)兼容的集成電路工藝制造相應(yīng)的光子器件和光電器件(包括硅基發(fā)光器件、調(diào)制器、探測(cè)器、光波導(dǎo)器件等),并利用這些器件對(duì)光子進(jìn)行發(fā)射、傳輸、檢測(cè)和處理,以實(shí)現(xiàn)其在光通信、光互連、光計(jì)算等領(lǐng)域中的實(shí)際應(yīng)用。硅光技術(shù)的中心理念是“以光代電”,即采用激光束代替電子信號(hào)傳輸數(shù)據(jù),將光學(xué)器件與電子元件整合至一個(gè)單獨(dú)的微芯片中。在硅片上用光取代傳統(tǒng)銅線作為信息傳導(dǎo)介質(zhì),較大提升芯片之間的連接速度。吉林光子晶體硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)廠家因?yàn)楣韫庑酒怨枳鳛榧尚酒囊r底,所有能集成更多的光器件。

浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好,硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)

硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)是由激光器與硅光芯片集成結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)包括:激光器芯片,激光器芯片包括第1波導(dǎo);硅光芯片,硅光芯片包括第二波導(dǎo),第二波導(dǎo)及第1波導(dǎo)將激光器芯片發(fā)出的光耦合至硅光芯片內(nèi);第1波導(dǎo)包括依次一體連接的第1倒錐形波導(dǎo)部,矩形波導(dǎo)部及第二倒錐形波導(dǎo)部;第二波導(dǎo)包括第1氮化硅光芯片,第二氮化硅光芯片及硅光芯片;其中,第1氮化硅光芯片,第二氮化硅光芯片及硅光芯片均包括依次一體連接的第1倒錐形波導(dǎo)部,矩形波導(dǎo)部及第二倒錐形波導(dǎo)部。相比于現(xiàn)有技術(shù)中的端面耦合,本實(shí)用新型的耦合方式對(duì)倒裝焊過(guò)程中的對(duì)準(zhǔn)精度要求更低,即使在對(duì)準(zhǔn)有誤差的實(shí)際工藝條件下,仍然具有較高的耦合效率。

硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)系統(tǒng),該設(shè)備主要由極低/變溫控制子系統(tǒng)、背景強(qiáng)磁場(chǎng)子系統(tǒng)、強(qiáng)電流加載控制子系統(tǒng)、機(jī)械力學(xué)加載控制子系統(tǒng)、非接觸多場(chǎng)環(huán)境下的宏/微觀變形測(cè)量子系統(tǒng)五個(gè)子系統(tǒng)組成。其中極低/變溫控制子系統(tǒng)采用GM制冷機(jī)進(jìn)行低溫冷卻,實(shí)現(xiàn)無(wú)液氦制冷,并通過(guò)傳導(dǎo)冷方式對(duì)杜瓦內(nèi)的試樣機(jī)磁體進(jìn)行降溫。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):1、可視化杜瓦,可實(shí)現(xiàn)室溫~4.2K變溫環(huán)境下光學(xué)測(cè)試根據(jù)測(cè)試。2、背景強(qiáng)磁場(chǎng)子系統(tǒng)能夠提供高達(dá)3T的背景強(qiáng)磁場(chǎng)。3、強(qiáng)電流加載控制子系統(tǒng)采用大功率超導(dǎo)電源對(duì)測(cè)試樣品進(jìn)行電流加載,較大可實(shí)現(xiàn)1000A的測(cè)試電流。4、該測(cè)量系統(tǒng)不與極低溫試樣及超導(dǎo)磁體接觸,不受強(qiáng)磁場(chǎng)、大電流及極低溫的影響和干擾,能夠高精度的測(cè)量待測(cè)試樣的三維或二維的全場(chǎng)測(cè)量。圖像處理軟件能自動(dòng)測(cè)量出各項(xiàng)偏差,然后軟件驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)和運(yùn)動(dòng)平臺(tái)來(lái)補(bǔ)償偏差,以及給出提示。

浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好,硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)

提到硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng),我們來(lái)認(rèn)識(shí)一下硅光子集。硅光子集成的工藝開(kāi)發(fā)路線和目標(biāo)比較明確,困難之處在于如何做到與CMOS工藝的較大限度的兼容,從而充分利用先進(jìn)的半導(dǎo)體設(shè)備和工藝,同時(shí)需要關(guān)注個(gè)別工藝的特殊控制。硅光子芯片的設(shè)計(jì)目前還未形成有效的系統(tǒng)性的方法,設(shè)計(jì)流程沒(méi)有固化,輔助設(shè)計(jì)工具不完善,但基于PDK標(biāo)準(zhǔn)器件庫(kù)的設(shè)計(jì)方法正在逐步形成。如何進(jìn)行多層次光電聯(lián)合仿真,如何與集成電路設(shè)計(jì)一樣基于可重復(fù)IP進(jìn)行復(fù)雜芯片的快速設(shè)計(jì)等問(wèn)題是硅光子芯片從小規(guī)模設(shè)計(jì)走向大規(guī)模集成應(yīng)用的關(guān)鍵。硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn):整合性高。浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好

硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn):操作方便。浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好

硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)的測(cè)試站包含自動(dòng)硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)客戶端程序,其程序流程如下:首先向自動(dòng)耦合臺(tái)發(fā)送耦合請(qǐng)求信息,并且信息包括待耦合芯片的通道號(hào),然后根據(jù)自動(dòng)耦合臺(tái)返回的相應(yīng)反饋信息進(jìn)入自動(dòng)耦合等待掛起,直到收到自動(dòng)耦合臺(tái)的耦合結(jié)束信息后向服務(wù)器發(fā)送測(cè)試請(qǐng)求信息,以進(jìn)行光芯片自動(dòng)指標(biāo)測(cè)試。自動(dòng)耦合臺(tái)包含輸入端、輸出端與中間軸三部分,其中輸入端與輸出端都是X、Y、Z三維電傳式自動(dòng)反饋微調(diào)架,精度可達(dá)50nm,滿足光芯片耦合精度要求。特別的,為監(jiān)控調(diào)光耦合功率,完成自動(dòng)化耦合過(guò)程,測(cè)試站應(yīng)連接一個(gè)PD光電二極管,以實(shí)時(shí)獲取當(dāng)前光功率。浙江保偏硅光芯片耦合測(cè)試系統(tǒng)哪家好