山東ICU連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制儀

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-09-21

早期國(guó)外VBM廠家研發(fā)出手捏式充氣測(cè)壓機(jī)械表,但是不能實(shí)時(shí)監(jiān)控,由于氣囊位于氣管部位,醫(yī)護(hù)人員不能直接看出氣囊的壓力,迫使醫(yī)護(hù)人員經(jīng)常要到病床邊檢測(cè)囊內(nèi)壓力,但是每次再次檢測(cè)時(shí),由于囊的氣密性不達(dá)標(biāo)等問題,發(fā)現(xiàn)壓力已經(jīng)過低,易發(fā)生誤吸的風(fēng)險(xiǎn),從而使得病人容易有***性肺炎。本公司目前采用MCU依據(jù)預(yù)設(shè)壓力值及壓力傳感器探測(cè)的值,通過對(duì)微型氣泵、微型放氣電磁閥的控制來實(shí)時(shí)控制氣囊的充氣、放氣及內(nèi)部壓力。外部氣體連接管路具有氣壓穩(wěn)定壺,其目的是用于穩(wěn)定氣壓,減少容積較小的管道系統(tǒng)中充放氣導(dǎo)致的壓力瞬間大的波動(dòng)。軟件開發(fā)過程使用螺旋模型,將高風(fēng)險(xiǎn)、高難度模塊放置在軟件開發(fā)前期,合理避免軟件風(fēng)險(xiǎn),其風(fēng)險(xiǎn)等級(jí)較低。從系統(tǒng)使用安全性角度來說,系統(tǒng)提供手工操作方式,避免再次插入氣囊而對(duì)患者產(chǎn)生二次傷害。從軟件自身的信息安全,系統(tǒng)提供實(shí)時(shí)壓力數(shù)據(jù),并實(shí)時(shí)顯示,具有操作權(quán)限的護(hù)工方可使用,能夠確保數(shù)據(jù)的保密性、完整性和可得性。傳統(tǒng)VBM的手捏方式產(chǎn)品很難達(dá)到這個(gè)要求,也無法滿足目前發(fā)展的需要。因此,改善傳統(tǒng)充氣測(cè)壓方式的缺失,研發(fā)生產(chǎn)出智能精細(xì)、性能、品質(zhì)優(yōu)異的產(chǎn)品遂成為醫(yī)護(hù)器械使用人員的期望,也是患者的福音;設(shè)備工作時(shí)在氣囊壓力穩(wěn)定狀態(tài)下(電磁閥關(guān)閉、氣泵不啟動(dòng)的狀態(tài)下)每分鐘系統(tǒng)壓力下降小于2cmH20。山東ICU連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制儀

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呼吸機(jī)相關(guān)性肺炎(VAP),如何防患于未然常用的護(hù)理措施(與機(jī)械通氣相關(guān)的護(hù)理)●口咽部管理由于口腔內(nèi)細(xì)菌繁殖迅速,氣管導(dǎo)管可以妨礙會(huì)厭關(guān)閉,因此細(xì)菌隨口咽分泌物由導(dǎo)管周圍經(jīng)聲門下漏進(jìn)呼吸道等可增加VAP的發(fā)生率。護(hù)理措施:在氣管插管前用呋喃西林、洗必泰交替漱口或擦洗2次;氣管插管后,口腔內(nèi)導(dǎo)管周圍用呋喃西林紗布堵塞;氣管切開者切口周圍需要進(jìn)行每日換藥及口腔護(hù)理,并及時(shí)清理口腔分泌物。呼吸機(jī)管路及相關(guān)物品的管理●呼吸機(jī)管道是患者呼吸道細(xì)菌寄居的重要部位,而管路的冷凝水是重要污染源。護(hù)理措施:應(yīng)加強(qiáng)呼吸機(jī)管路系統(tǒng)的管理及消毒,呼吸機(jī)設(shè)備需要由專人管理;濕化罐和霧化器內(nèi)霧化液應(yīng)及時(shí)傾倒,冷凝水集結(jié)瓶應(yīng)置于管路較低位置并及時(shí)傾倒,以防反流。浙江醫(yī)用連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制儀招標(biāo)防止氣囊壓力過大造成氣管損傷及并發(fā)癥。

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我們都知道氣囊的作用是妥善固定,預(yù)防脫管;封閉氣道,防止漏氣;防止誤吸,減少肺部發(fā)生率。而且氣囊壓力要維持在25-30cmH2O,那如果氣囊壓力過低或者過高會(huì)有什么危害呢?●若氣囊壓力過低,則易導(dǎo)致微誤吸,而套囊上滯留物為呼吸機(jī)相關(guān)性肺炎(VAP)病原的重要來源。而且還會(huì)導(dǎo)致氣道漏氣,降低機(jī)械通氣質(zhì)量,影響臨床診治效果?!袢魵饽页錃饬窟^大,氣囊過高會(huì)影響氣道黏膜供血,研究結(jié)果顯示,氣囊壓超過25cmH2O(1cmH2O=0.098kPa)時(shí),黏膜血管血流開始減少;當(dāng)氣囊壓超過50cmH2O時(shí),血流完全被阻斷。氣囊黏膜壓迫超過一定時(shí)間,將導(dǎo)致氣管黏膜缺血性損傷甚至壞死,嚴(yán)重時(shí)可發(fā)生氣管食管瘺。

氣囊充氣測(cè)壓的方法間斷壓力測(cè)量固定充氣法:臨床常在高容量低壓導(dǎo)管時(shí)選用。氣囊充氣一般5~10ml。操作簡(jiǎn)便快捷,適應(yīng)于緊急搶救。因病人個(gè)體和導(dǎo)管型號(hào)不同而充氣量不一。不能精確控制氣囊壓力的大小。指觸法(TJM):手捏壓力感覺“比鼻尖軟,比口唇硬”為適宜。因不同的個(gè)體感覺存在很大差異。適用于有豐富臨床經(jīng)驗(yàn)者。操作簡(jiǎn)便易行,適用于緊急判斷。無明確參照標(biāo)準(zhǔn),有欠準(zhǔn)確。目前臨床上大部分病房還是用手觸摸氣囊,來感受壓力大小。用手觸摸,估計(jì)氣囊壓力,通常會(huì)導(dǎo)致壓力過大。「人工氣道氣囊的管理**共識(shí)」推薦意見:不能采用根據(jù)經(jīng)驗(yàn)判定充氣的指觸法給予氣囊充氣(推薦級(jí)別:C級(jí))氣囊壓力監(jiān)控儀主要優(yōu)點(diǎn)是減少臨床護(hù)理工作量,進(jìn)一步規(guī)范人工氣囊的管理。

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呼吸機(jī)相關(guān)性肺炎(VAP),如何防患于未然常用的護(hù)理措施(一般性的護(hù)理措施)●共用器械的消毒滅菌污染的器械如呼吸機(jī)、纖支鏡、霧化器等是VAP發(fā)生的又一重要傳播途徑。纖支鏡檢查后病發(fā)肺部***的發(fā)生率約0.5%-3.0%,部分與纖支鏡消毒不徹底有關(guān)。呼吸機(jī)管路的污染是VAP病原體的重要來源。這主要是醫(yī)務(wù)人員在常規(guī)更換呼吸管道時(shí),污染了管道系統(tǒng),從而傳播來源于其它患者或醫(yī)務(wù)人員的病原體。呼吸機(jī)霧化器及氧化濕化瓶的污染也是VAP發(fā)病的一個(gè)重要***源。呼吸機(jī)濕化器是應(yīng)用熱濕化原理,溫度應(yīng)在50℃左右。較高的溫度可預(yù)防幾乎所有病原菌在濕化器中的定植和生長(zhǎng)。但許多醫(yī)療機(jī)構(gòu)使用濕化器溫度常偏低。一般應(yīng)保持在45℃-50℃之間為宜。濕化器和波紋管、濕化水每日至少徹底更換1次?!癫》抗芾韺⒉∪税仓迷趩稳吮O(jiān)護(hù)病房,醫(yī)護(hù)人員進(jìn)入病房應(yīng)衣帽穿戴整齊;嚴(yán)格控制探視,必要時(shí)家屬應(yīng)穿隔離衣,帶口罩、帽子,換拖鞋,避免交叉***;病房定時(shí)開窗通風(fēng),每日紫外線消毒2次,地面用消毒靈拖擦3次;潮濕是各種細(xì)菌滋生的良好環(huán)境。醫(yī)院環(huán)境,特別是重癥監(jiān)護(hù)室內(nèi)應(yīng)保持干爽,監(jiān)護(hù)室內(nèi)不應(yīng)設(shè)洗手池、放置鮮花和存放拖把等物品。用于機(jī)械通氣時(shí),人工氣道套囊壓力的連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制,以降低呼吸機(jī)相關(guān)性肺炎的發(fā)病率,減輕患者氣管損傷。浙江醫(yī)用連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制儀招標(biāo)

壓力值通常是指接受有創(chuàng)機(jī)械通氣的患者,經(jīng)口或者經(jīng)鼻氣管插管,或者氣管切開導(dǎo)管外氣囊的壓力。山東ICU連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制儀

氣囊作用是什么?控制呼吸或輔助呼吸時(shí)提供無漏氣條件,防止嘔吐物等沿導(dǎo)管壁與導(dǎo)管壁之間的空隙流入呼吸道。氣囊壓力監(jiān)測(cè)的意義1.氣囊內(nèi)壓力過高會(huì)對(duì)氣道黏膜形成壓迫,當(dāng)壓力超過氣管環(huán)和氣道黏膜毛細(xì)**正常平均動(dòng)脈壓時(shí),局部黏膜和纖毛出現(xiàn)壓迫性缺血,造成缺血性損害,拔管后局部可形成潰瘍、瘢痕,嚴(yán)重者造成穿孔。2.充氣不足導(dǎo)致漏氣引起潮氣量損失、誤吸等并發(fā)癥。氣囊到底該不該放氣?1患者只要存在防止漏氣或誤吸的需求,氣囊就應(yīng)完全充氣。2對(duì)于氣管插管的患者,由于氣管導(dǎo)管的存在影響其咳嗽和吞咽,因此氣囊需要始終保持合理的氣壓以防誤吸。3.若患者已接受氣管切開并撤機(jī),神志清楚、可自主進(jìn)食無咳嗽等,就可以將氣囊完全放氣或更換為無氣囊的氣管切開套管,好處是患者可部分通過上氣道呼吸,氣道阻力下降;將氣管切開開口堵塞后還可滿足患者發(fā)聲需求。4對(duì)自主氣道保護(hù)能力較好且撤機(jī)的氣管切開患者,將氣囊完全充氣可明顯縮短撤機(jī)時(shí)間、降低呼吸系統(tǒng)VAP發(fā)生率以及促進(jìn)患者吞咽能力恢復(fù)。山東ICU連續(xù)監(jiān)測(cè)與控制儀

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