江蘇高分辨率Nanoscribe上海

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-01

   對(duì)于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專(zhuān)有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。


如需了解增材制造技術(shù)的信息,請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。江蘇高分辨率Nanoscribe上海

江蘇高分辨率Nanoscribe上海,Nanoscribe

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ,發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來(lái)打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝,科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見(jiàn)光的龍勃透鏡(15?μm 直徑)。相似于人類(lèi)眼睛晶狀體的梯度,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě),而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。


浙江雙光子聚合Nanoscribe設(shè)備N(xiāo)anoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進(jìn)預(yù)制的二維微流道系統(tǒng)。

江蘇高分辨率Nanoscribe上海,Nanoscribe

Nanoscribe的技術(shù)在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。在光子學(xué)領(lǐng)域,它可以制造光子晶體、超穎材料、激光分布回饋術(shù)(DFB Lasers)等。在微光學(xué)領(lǐng)域,它可以制造微光學(xué)器件和整合型光學(xué)。在微流道技術(shù)領(lǐng)域,它可以應(yīng)用于生醫(yī)芯片系統(tǒng)、物質(zhì)研究開(kāi)發(fā)與分析以及三維基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)等方面。在生命科學(xué)領(lǐng)域,Nanoscribe的技術(shù)可以應(yīng)用于細(xì)胞外數(shù)組結(jié)構(gòu)、干細(xì)胞分離術(shù)、細(xì)胞成長(zhǎng)研究、細(xì)胞遷移研究以及組織工程等方面。此外,Nanoscribe的技術(shù)還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標(biāo)區(qū)域,以及制作極小的手術(shù)工具,用于顯微外科手術(shù)。


Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度,實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線(xiàn)上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè),確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線(xiàn)上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖,實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次,即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿(mǎn)足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí),其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù),非常適用于3D納米和微納加工,在滿(mǎn)足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。Nanoscribe 在2017年底在上海成立了中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

江蘇高分辨率Nanoscribe上海,Nanoscribe

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對(duì)準(zhǔn),例如作為光子封裝的光學(xué)互連,是通過(guò)共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵?shí)現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中,您可以將芯片布局和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中,打印系統(tǒng)會(huì)檢測(cè)標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配,以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時(shí)擁有**小耦合損耗,通過(guò)自由空間微光學(xué)耦合(FSMOC)實(shí)現(xiàn)高效的光耦合,成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案。使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),德國(guó)科學(xué)家們一起研發(fā)了由管道相連接的多組柱狀體3D復(fù)雜微結(jié)構(gòu)支架。浙江雙光子聚合Nanoscribe設(shè)備

這項(xiàng)技術(shù)具有快速、精確和可定制的特點(diǎn)。江蘇高分辨率Nanoscribe上海

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷(xiāo)售活動(dòng),并完善了亞太地區(qū)客戶(hù)服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,結(jié)構(gòu)分類(lèi)上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),公司資訊和技術(shù)支持幾大專(zhuān)欄。比較大化滿(mǎn)足用戶(hù)對(duì)信息的了解和需求。 江蘇高分辨率Nanoscribe上海