上海Nanoscribe無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。Nanoscribe一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)。上海Nanoscribe無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團(tuán)成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術(shù)能夠在亞細(xì)胞尺度上對(duì)血管微環(huán)境進(jìn)行生物打印，適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。該技術(shù)未來(lái)也將助力集團(tuán)的相關(guān)產(chǎn)品線開發(fā)，用于制造植入體、微針、微孔膜和組學(xué)應(yīng)用耗材等。CELLINK集團(tuán)的前列宏觀結(jié)構(gòu)生物打印技術(shù)與Nanoscribe公司的微觀結(jié)構(gòu)生物打印技術(shù)相結(jié)合做到了強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手的協(xié)作效應(yīng)，可以實(shí)現(xiàn)更逼真的組織結(jié)構(gòu)，例如血管化和細(xì)胞支持體等。2PP技術(shù)將實(shí)現(xiàn)CELLINK集團(tuán)所有三個(gè)業(yè)務(wù)的跨領(lǐng)域應(yīng)用，并增強(qiáng)集團(tuán)的耗材產(chǎn)品開發(fā)和供應(yīng)。“借助Nanoscribe特別先進(jìn)的2PP技術(shù)，我們可以實(shí)現(xiàn)擴(kuò)大補(bǔ)充我們的產(chǎn)品組合，為我們的客戶提供更加廣的產(chǎn)品?！盋ELLINK首席執(zhí)行官ErikGatenholm強(qiáng)調(diào)說(shuō)，“為了改善全球人民的健康狀況，我們正在以此為目標(biāo)導(dǎo)向，不斷強(qiáng)大公司擴(kuò)大規(guī)模，持續(xù)開發(fā)研究開創(chuàng)性生物融合技術(shù)?！焙Ｄ蠠o(wú)掩膜光刻技術(shù)Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)及技術(shù)的發(fā)展前景。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過(guò)激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的無(wú)掩膜光刻歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。無(wú)掩膜光刻是一種直接將信息轉(zhuǎn)移到襯底上的技術(shù)。湖北工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻設(shè)備

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)的運(yùn)用。上海Nanoscribe無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同上海Nanoscribe無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)