湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工

來源: 發(fā)布時間:2024-04-01

德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統,該系統是first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統,可應用于折射和衍射微光學。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。下面講講在衍射微光學中的應用:多級衍射光學元件雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。灰度光刻技術可以相當于二元套刻的多次曝光,提高了光刻效率。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工

湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工,灰度光刻

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。另外,QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作重慶雙光子灰度光刻微納加工系統Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ?)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。

湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工,灰度光刻

該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統Quantum X產品系列的第二臺設備,可實現在25 cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點在于:這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點灰度光刻技術作為一種新型的光刻技術,具有突破傳統光刻技術的優(yōu)勢。

湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工,灰度光刻

Nanoscribe的Quantum X打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術 (2GL ®)的Quantum X打印系統可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用?;叶裙饪踢x擇納糯三維科技(上海)有限公司。浙江超高速灰度光刻3D打印

灰度光刻技術可實現掩膜版的自適應優(yōu)化。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工