上海超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

    Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。 雙光子灰度光刻技術多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。上海超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

國際上，激光直寫設備是光掩模制備的主要工具，尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形，面積可達110英寸（瑞典MICRONIC）單價高于1.5億元/套，制備一個線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價500萬RMB；然而，這種激光直寫設備并不適用于微納3Ｄ形貌結構和深紋圖形制備。已有的基于藍光405nm直接成像光刻（DIL）適合光刻分辨率較低的圖形，也不適用于3D結構的灰度光刻。因此，面向柔性光電子材料與器件的需求，必須攻克大面積3D形貌的微結構的高效高精度制備，解決海量數據高效率轉化、高精度數據迭代與疊加曝光，高速率飛行直寫技術的難題。上海超高速灰度光刻無掩膜激光直寫Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻的發(fā)展。

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統Quantum X實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統，雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用。江蘇工業(yè)級灰度光刻微納加工系統

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。上海超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

現代光電設備在系統的復雜化與小型化得到了巨大改進。一種應用需求為使用定制的透鏡陣列來準直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復合激光線。消費類相機和投影模塊中的微型光學元件通常需要多個元件才能滿足性能規(guī)格。復雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn)。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會導致高度彎曲的表面產生球面像差，從而抑制準直性能。硅灰度光刻技術可以在單個高折射率表面上實現復雜的透鏡形狀，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準和間距。多孔徑透鏡陣列設計用于沿快軸準直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線。上海超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著先進的發(fā)展理念，先進的管理經驗，在發(fā)展過程中不斷完善自己，要求自己，不斷創(chuàng)新，時刻準備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中匯聚了大量的人脈以及**，在業(yè)界也收獲了很多良好的評價，這些都源自于自身不努力和大家共同進步的結果，這些評價對我們而言是比較好的前進動力，也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強、一往無前的進取創(chuàng)新精神，努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個新高度，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同納糯三維科技供應和您一起攜手走向更好的未來，創(chuàng)造更有價值的產品，我們將以更好的狀態(tài)，更認真的態(tài)度，更飽滿的精力去創(chuàng)造，去拼搏，去努力，讓我們一起更好更快的成長！