晶間腐蝕試驗方法:在特定介質(zhì)條件下檢驗金屬材料晶間腐蝕敏感性的加速金屬腐蝕試驗方法,目的是了解材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。其原理是采用可使金屬的腐蝕電位處在恒電位陽極極化曲線特定區(qū)間的各種試驗溶液,利用金屬的晶粒和晶界在該電位區(qū)間腐蝕電流的明顯差異加速顯示晶間腐蝕。不銹鋼、鋁合金等的晶間腐蝕試驗方法在許多國家均已標(biāo)準(zhǔn)化。產(chǎn)生晶間腐蝕的不銹鋼,當(dāng)受到應(yīng)力作用時,即會沿晶界斷裂、強(qiáng)度幾乎完全消失,這是不銹鋼的一種很危險的破壞形式。低倍腐蝕酸蝕槽采用特殊材料制作,耐酸耐高溫,封閉的酸蝕槽確保腐蝕溶液的揮發(fā)對環(huán)境的污染和人體的傷害。遼寧低倍加熱腐蝕企業(yè)
電解拋光腐蝕安全規(guī)程:使用含高氯酸電解液時,必須通循環(huán)水冷卻,配制溫度低于15。C,使用溫度應(yīng)低于200C注意安全,防止燃燒;使用電壓超過60V時,要注意安全,應(yīng)先放好試樣,再調(diào)電壓到所需值,后進(jìn)行電解拋光,結(jié)束后將電壓調(diào)到零位再取試樣;當(dāng)電源接通后,直流檔無論有無負(fù)載,要嚴(yán)防短路,尤其使用外電解浸蝕時更應(yīng)注意;接通負(fù)載后(即拋光或腐蝕進(jìn)行時),嚴(yán)禁轉(zhuǎn)換電壓調(diào)整器。每次拋光后,應(yīng)關(guān)閉電源防止過熱;拋光結(jié)束后,將電解液倒入其它容器中,用水清洗電解槽及冷卻循環(huán)系統(tǒng)。湖南金屬拋光腐蝕價格多少晶間腐蝕,會破壞晶粒間的結(jié)合,大幅降低金屬的機(jī)械強(qiáng)度。
電解拋光腐蝕,該電源是高穩(wěn)定度的穩(wěn)壓穩(wěn)流自動轉(zhuǎn)換的高精度穩(wěn)壓電源。輸出電壓能夠從零到標(biāo)稱值內(nèi)任意選擇, 而且在穩(wěn)壓狀態(tài)時限流保護(hù)點也可任意設(shè)定。在穩(wěn)流狀態(tài)時,穩(wěn)流輸出電流在額定范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。輸出電壓、輸出電流指示為3位半LED數(shù)碼顯示。電源是由整流及濾波電路,輔助電源及基準(zhǔn)電壓電路,電壓電流取樣檢測電路,比較放大電路,單片機(jī)控制電路以及調(diào)整電路等組成。當(dāng)輸出電壓由于電源電壓或負(fù)載電流變化引起變動時,則變動的信號經(jīng)電壓取樣電路與基準(zhǔn)電壓相比較,其所得誤差信號經(jīng)比較放大后,由單片機(jī)控制系統(tǒng)控制調(diào)整電路使輸出電壓高速調(diào)整為給定值。從而達(dá)到高穩(wěn)定輸出的目的。
電解拋光腐蝕儀利用電化學(xué)原理進(jìn)行金相樣品的制備,該設(shè)備工作電壓、電流范圍大,功能齊全,既可用于金相試樣的拋光,也可用于金相試樣的腐蝕,具備制樣快、重復(fù)性好等優(yōu)點,是鋼鐵,尤其是不銹鋼及有色金屬試樣制備的理想設(shè)備,用戶的計算機(jī)可直接讀取所有歷史數(shù)據(jù),可對所有數(shù)據(jù)進(jìn)行分析、存檔、打印處理。電壓、電流范圍大,可同時滿足各種材料的拋光和腐蝕,主要用于各大中院校、環(huán)保、科研、衛(wèi)生、防疫、石油、治金、化工、醫(yī)療等設(shè)備,本儀器性能好,無噪聲。電解拋光腐蝕,該設(shè)備工作電壓、電流范圍大,功能齊全。
低倍組織熱腐蝕,項目介紹:低倍組織檢驗是用肉眼或放大適當(dāng)?shù)谋稊?shù)來觀察試樣浸蝕面的宏觀組織缺陷及斷口形貌的一種檢測方法。低倍檢驗常用的方法有酸蝕、斷口形貌、硫印、塔形發(fā)紋等,其中酸蝕又包括熱酸腐蝕法、冷酸腐蝕法及電解腐蝕法,如需仲裁是推薦使用熱酸腐蝕法。低倍檢驗所需設(shè)備簡單,操作簡便迅速結(jié)果直觀,易于掌握。它是鑒定制品品質(zhì)的一種重要方法,也是研究工藝制造以及對制品進(jìn)行品質(zhì)分析時普遍采用的一種手段。低倍檢驗時試樣的粗糙度要保證,不得有油污和加工傷痕;酸洗時的溫度和時間要適宜;清洗時試樣表面的腐蝕產(chǎn)物要刷干凈,并及時吹干;酸洗后需立即評定。電解拋光腐蝕,電流、電壓精度高,精確到小數(shù)點后兩位。遼寧低倍加熱腐蝕企業(yè)
晶間腐蝕,用于檢驗各種類型的不銹鋼、鋁合金等材料在特定的溫度和腐蝕試劑下晶間腐蝕的狀況。遼寧低倍加熱腐蝕企業(yè)
晶間腐蝕是什么?以晶間腐蝕為起源,在應(yīng)力和介質(zhì)的共同作用下,可使不銹鋼、鋁合金等誘發(fā)晶間應(yīng)力腐蝕,所以晶間腐蝕有時是應(yīng)力腐蝕的先導(dǎo),在通常腐蝕條件下,鈍化合金組織中的晶界活性不大,但當(dāng)它具有晶間腐蝕的敏感性時,晶間活性很大,即晶格粒與晶界之間存在著一定的電位差,這主要是合金在受熱不當(dāng)時,組織發(fā)生改變而引起的。所以晶間腐蝕是一種由組織電化學(xué)不均勻性引起的局部腐蝕蝕。此外晶界存在雜質(zhì)時,在一定介質(zhì)也也會引起晶間腐蝕。遼寧低倍加熱腐蝕企業(yè)