十堰單盤(pán)手動(dòng)金相磨拋機(jī)性價(jià)比高

金相磨拋機(jī)粗磨的特點(diǎn)：修整有些試樣，例如用錘擊法敲下來(lái)的試樣，形狀很不規(guī)則，必須經(jīng)過(guò)粗磨，修整為規(guī)則形狀的試樣；磨平無(wú)論用什么方法取樣，切口往往不十分平滑，為了將觀察面磨平，同時(shí)去掉切割時(shí)產(chǎn)生的變形層，必須進(jìn)行粗磨；倒角在不影響觀察目的的前提下，需將試樣上的棱角磨掉，以免劃破砂紙和拋光織物。黑色金屬材料的粗磨在砂輪機(jī)上進(jìn)行，具體操作方法是將試樣牢牢地捏住，用砂輪的側(cè)面磨制。在試樣與砂輪接觸的一瞬間，盡量使磨面與砂輪面平行，用力不可過(guò)大。由于磨削力的作用往往出現(xiàn)試樣磨面的上半部分磨削量偏大，故需人為地進(jìn)行調(diào)整，盡量加大試樣下半部分的壓力，以求整個(gè)磨面均勻受力。另外在磨制過(guò)程中，試樣必須沿砂輪的徑向往復(fù)緩慢移動(dòng)，防止砂輪表面形成凹溝。金相磨拋機(jī)（全自動(dòng)）試樣規(guī)格：Φ25 Φ30 Φ40 Φ50(標(biāo)配Φ30，其余選配，支持定制)。十堰單盤(pán)手動(dòng)金相磨拋機(jī)性價(jià)比高

金相磨拋機(jī)技術(shù)參數(shù)：工作盤(pán) Φ200mm/Φ230mm/250mm，轉(zhuǎn)速 100-1000r/min，三檔定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定義，旋轉(zhuǎn)方向 順時(shí)針或逆時(shí)針可調(diào)，電機(jī)功率/電源電壓 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水壓 1-10bar/0.1-1Mp，進(jìn)水管 Φ8mm長(zhǎng)2m，排水管 內(nèi)徑Φ40，環(huán)境溫度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。裝箱清單：金相磨拋機(jī) 1臺(tái)，進(jìn)水管（帶接頭） 1根，排水管 1根，電源線（國(guó)標(biāo)插頭） 1根，卡圈 2個(gè)，砂紙（320#、600#、800#、1000#各一張） 4張，植絨 1張，帆布 1張，操作手冊(cè) 1套，合格證 1張 蘇州無(wú)極調(diào)速金相磨拋機(jī)多少錢(qián)一臺(tái)金相磨拋機(jī)可使磨出來(lái)的樣品表面光滑平整。

金相磨拋機(jī)在金相制樣中，如果初次研磨不得當(dāng)，那么很容易使樣品表面出現(xiàn)劃痕。那我們又如何防止制樣過(guò)程中出現(xiàn)劃痕呢，劃痕即是樣品表面上的線性凹槽，是由研磨粒子造成的。應(yīng)對(duì)措施：確定在粗磨后，試樣座上所有樣品的表面都均勻地布滿同樣的磨痕花樣；必要時(shí)重新進(jìn)行粗磨；每一道步聚后均應(yīng)仔細(xì)清潔樣品和試樣座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子對(duì)磨/拋用具的干擾；如果在現(xiàn)行的拋光工序后仍有前面工序留下的磨痕，請(qǐng)先增加25~50%的制樣時(shí)間。

金相磨拋機(jī)裝入所需要制備的樣品，可裝入1-6個(gè)（根據(jù)試樣直徑不同所夾持的數(shù)量會(huì)有變化，根據(jù)實(shí)際確定好夾持盤(pán)規(guī)格）。調(diào)整好冷卻管角度及水流量，確保試樣得到充分冷卻，冷卻水還會(huì)沖走磨盤(pán)上磨削的材料及磨料。檢查一下參數(shù)是否合理，可參考如下建議： 當(dāng)制備單個(gè)試樣時(shí)，不要使用粗磨料進(jìn)行粗磨。一般無(wú)需這么做，使用粗磨料可能導(dǎo)致試樣表面不平整。如果由于某些原因需要使用粗磨料進(jìn)行研磨，可以采納如下建議以改善平整度。試樣的高度應(yīng)該在 8 – 35 mm 之間，且不能超過(guò)試樣直徑的 0.7倍。例如：直徑 30 mm 試樣的高度不應(yīng)該超過(guò) 30 x 0.7 = 21 mm。盡可能使用細(xì)磨料。金相磨拋機(jī)可適應(yīng)各種材料的制樣制備。

金相磨拋機(jī)：化學(xué)拋光和化學(xué)機(jī)械拋光手工化學(xué)拋光是依靠化學(xué)試劑對(duì)樣品的選擇性溶解作用將磨痕去除的一種方法：例如用1～2g草酸、2～3mL氫氟酸、40mL過(guò)氧化氫、50mL蒸餾水的化學(xué)拋光劑。對(duì)碳鋼、一般低合金鋼的退火、淬火組織進(jìn)行化學(xué)拋光(擦拭法)；效果較好。此法適用于沒(méi)有機(jī)械拋光設(shè)備的單位?；瘜W(xué)拋光一般總不是太理想的，若和機(jī)械拋光結(jié)合；利用化學(xué)拋光劑邊腐蝕邊機(jī)械拋光可以提高拋光效率?；瘜W(xué)拋光和化學(xué)機(jī)械拋光手工化學(xué)拋光是依靠化學(xué)試劑對(duì)樣品的選擇性溶解作用將磨痕去除的一種方法：例如用1～2g草酸、2～3mL氫氟酸、40mL過(guò)氧化氫、50mL蒸餾水的化學(xué)拋光劑。對(duì)碳鋼、一般低合金鋼的退火、淬火組織進(jìn)行化學(xué)拋光(擦拭法)；效果較好。此法適用于沒(méi)有機(jī)械拋光設(shè)備的單位?；瘜W(xué)拋光一般總不是太理想的，若和機(jī)械拋光結(jié)合；利用化學(xué)拋光劑邊腐蝕邊機(jī)械拋光可以提高拋光效率。金相磨拋機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、噪音低。寧波手自一體金相磨拋機(jī)按鈕操作

金相磨拋機(jī)（全自動(dòng)）環(huán)境溫度：5-40℃，水壓：1-10bar/0.1-1Mp。十堰單盤(pán)手動(dòng)金相磨拋機(jī)性價(jià)比高

金相磨拋機(jī)：一般把單相合金或純金屬的化學(xué)浸蝕主要看作是化學(xué)溶解過(guò)程。浸蝕劑首先把磨面表層很薄的變形層溶解掉，接著就對(duì)晶界起化學(xué)溶解作用。這是因?yàn)榫Ы缟显优帕械锰貏e紊亂，其自由能也較高，所以晶界處較容易受浸蝕而呈溝凹，見(jiàn)圖(1-15)(b)。這時(shí)顯微鏡下就可看到固溶體或純金屬的多面體晶粒。若繼續(xù)浸蝕則會(huì)對(duì)晶粒產(chǎn)生溶解作用。金屬原子的溶解大都是沿原子排列密的面進(jìn)行的。由于金相試樣一般都是多晶體，各晶粒的取向不會(huì)一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一顆晶粒溶解的結(jié)果不一樣，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蝕后每個(gè)晶粒的面與原磨面各傾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就顯示出亮度不一致的晶粒。十堰單盤(pán)手動(dòng)金相磨拋機(jī)性價(jià)比高