天津金相拋光潤(rùn)滑冷卻液磨拋耗材操作簡(jiǎn)單

磨拋耗材，二氧化硅拋光液(VK-SP50W)使用范圍：可用于微晶玻璃的表面拋光加工中；用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工；用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過(guò)程；普遍用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工；本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護(hù)液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。磨拋耗材，金相拋光潤(rùn)滑冷卻液，切割時(shí)，降低樣品溫度，以減少樣品受到熱影響。天津金相拋光潤(rùn)滑冷卻液磨拋耗材操作簡(jiǎn)單

磨拋耗材，粗磨細(xì)磨粗磨，去除切割造成的損傷整平試樣，形成合適的形狀，快速接近目標(biāo)細(xì)磨，去除粗磨的劃痕和變形層，減薄變形層以利于下一步的拋光每道研磨砂紙的粒度*從盡可能細(xì)的顆粒開始研磨*每步遞減1/2磨粒尺寸*SiC P180＞P400＞P800＞P1200 ＞P2000 ＞P2500 ＞P4000手動(dòng)研磨一般試樣300rpm為宜，過(guò)快試樣易脫手飛出；在磨制試樣前應(yīng)將試樣磨制面的邊緣進(jìn)行圓弧倒角，以避免磨制面的直邊刮削砂紙；不可太用力，否則就會(huì)偏離平衡。輕輕拿，慢慢放，穩(wěn)穩(wěn)找平；快到欲觀察面時(shí)應(yīng)不時(shí)觀察磨面以防過(guò)磨；在兩相鄰的研磨中，旋轉(zhuǎn)樣品90°，研磨時(shí)間為磨掉前道的磨痕的時(shí)間的1~3倍；杭州特氟龍防粘盤磨拋耗材經(jīng)濟(jì)實(shí)用磨拋材料，金剛石懸浮研磨拋光液中含一定劑量的冷卻潤(rùn)滑組分。

磨拋耗材，氧化鋁拋光粉，特點(diǎn)如下：具有活性，無(wú)毒無(wú)味，不溶于水和難溶于酸堿。粒度均勻、化學(xué)性能穩(wěn)定，經(jīng)特殊工藝加工處理，具有良好的研磨拋光性能，以滿足各種材料拋光用途的需求。產(chǎn)品粒度比較均勻，具備硬度高，磨削力強(qiáng)，拋光效果快，效率高，光度亮等特點(diǎn)。粒度分布范圍窄，研磨效率高，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削能力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的光澤。

磨拋耗材，氧化鋁：難溶于水的白色固體，無(wú)臭、無(wú)味、質(zhì)極硬，易吸潮而不潮解（灼燒過(guò)的不吸濕）。兩性氧化物，能溶于無(wú)機(jī)酸和堿性溶液中，幾乎不溶于水及非極性有機(jī)溶劑；相對(duì)密度(d204）4.0；熔點(diǎn)2050℃。用作分析試劑、有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、有機(jī)反應(yīng)催化劑、研磨劑、拋光劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。碳化硅：碳化硅（SiC）是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽）等原料通過(guò)電阻爐高溫冶煉而成。比重為3.20～3.25，顯微硬度為2840～3320kg/mm2。其韌性高于綠碳化硅，大多用于加工抗張強(qiáng)度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、鑄鐵和有色金屬等。磨拋材料，氧化鋁拋光粉用于不銹鋼的拋光。

磨拋耗材，鑄鐵及非金屬夾雜物試樣的拋光鑄鐵中的石墨及金屬中的非金屬夾雜物，在拋制中極易拖尾、擴(kuò)大和剝落，因此多采用手工細(xì)磨，磨制時(shí)應(yīng)加肥皂作潤(rùn)滑劑；亦可用蠟盤代替手工細(xì)磨，但必須選用短纖維拋光布，如尼龍，滌綸布，絲綢等。拋光時(shí)應(yīng)不斷轉(zhuǎn)動(dòng)試樣，以防單向拖尾，還應(yīng)盡量縮短磨拋時(shí)間。對(duì)鑄鐵試樣，因表面易產(chǎn)生麻點(diǎn)、斑痕和氧化，可在拋光盤上加入微量鉻酸酐，可加入防氧化溶液，并用防氧化溶液清洗試樣。防氧化溶液配方如下：亞硝酸鈉/0.010~0.015kg，蘇打灰（200℃焙燒的Na2CO3）/0.003kg，蒸餾水/1000ml。磨拋材料，多晶金剛石懸浮液磨拋光過(guò)程中能夠保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷。杭州特氟龍防粘盤磨拋耗材經(jīng)濟(jì)實(shí)用

磨拋材料，金剛石懸浮研磨拋光液還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料。天津金相拋光潤(rùn)滑冷卻液磨拋耗材操作簡(jiǎn)單

磨拋耗材，綜合拋光單一的拋光方法都不易得到理想的拋光表面，機(jī)械拋光雖然能得到平滑表面，但易產(chǎn)生金屬擾亂層和劃痕，電解拋光和化學(xué)拋光雖可消除金屬擾亂層，但表面不平整，為取長(zhǎng)補(bǔ)短發(fā)展了綜合拋光技術(shù)，如化學(xué)機(jī)械拋光、電解機(jī)械拋光等。若濕度過(guò)大，會(huì)減弱磨削作用，增大滾壓作用，使金屬擾亂層加厚，并易將非金屬夾雜和石黑拖出；若濕度過(guò)小，潤(rùn)滑條件極差，因摩擦生熱而使試樣溫度升高，磨面失去光澤，甚至形成黑斑。故懸浮液的滴入量應(yīng)該是“量少次數(shù)多，中心向外擴(kuò)展”。天津金相拋光潤(rùn)滑冷卻液磨拋耗材操作簡(jiǎn)單

無(wú)錫歐馳檢測(cè)技術(shù)有限公司坐落于長(zhǎng)江路16號(hào)軟件園B棟8607-1室，是集設(shè)計(jì)、開發(fā)、生產(chǎn)、銷售、售后服務(wù)于一體，儀器儀表的生產(chǎn)型企業(yè)。公司在行業(yè)內(nèi)發(fā)展多年，持續(xù)為用戶提供整套切割機(jī)、鑲嵌機(jī)、磨拋機(jī)，低倍腐蝕儀、晶間腐蝕儀，電解拋光腐蝕儀、金相耗材，金相顯微鏡、通風(fēng)系統(tǒng)的解決方案。公司主要經(jīng)營(yíng)切割機(jī)、鑲嵌機(jī)、磨拋機(jī)，低倍腐蝕儀、晶間腐蝕儀，電解拋光腐蝕儀、金相耗材，金相顯微鏡、通風(fēng)系統(tǒng)等，我們始終堅(jiān)持以可靠的產(chǎn)品質(zhì)量，良好的服務(wù)理念，優(yōu)惠的服務(wù)價(jià)格誠(chéng)信和讓利于客戶，堅(jiān)持用自己的服務(wù)去打動(dòng)客戶。無(wú)錫歐馳以符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品質(zhì)量為目標(biāo)，并始終如一地堅(jiān)守這一原則，正是這種高標(biāo)準(zhǔn)的自我要求，產(chǎn)品獲得市場(chǎng)及消費(fèi)者的高度認(rèn)可。無(wú)錫歐馳檢測(cè)技術(shù)有限公司通過(guò)多年的深耕細(xì)作，企業(yè)已通過(guò)儀器儀表質(zhì)量體系認(rèn)證，確保公司各類產(chǎn)品以高技術(shù)、高性能、高精密度服務(wù)于廣大客戶。歡迎各界朋友蒞臨參觀、 指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。