廣西體視金相研磨

真空鑲嵌機(jī)MC-30001、一款專門于樣品冷鑲嵌的設(shè)備。通過對樣品和鑲嵌樹脂抽真空，可除去樣品和鑲嵌樹脂中的氣體。這樣樣品中的空洞將可被鑲嵌樹脂填充，樣品和鑲嵌樹脂之間不出現(xiàn)縫隙。該設(shè)備緊湊、快速、使用方便?？赏瑫r鑲嵌6個直徑為30mm的樣品。2、該設(shè)備可用于各種樣品的冷鑲嵌，尤其是線路板、粉末冶金材料等的鑲嵌。在電子行業(yè)中，還可與染色劑配合，用于焊接缺陷的檢查。真空鑲嵌機(jī)MC-30001、一款專門于樣品冷鑲嵌的設(shè)備。通過對樣品和鑲嵌樹脂抽真空，可除去樣品和鑲嵌樹脂中的氣體。這樣樣品中的空洞將可被鑲嵌樹脂填充，樣品和鑲嵌樹脂之間不出現(xiàn)縫隙。該設(shè)備緊湊、快速、使用方便?？赏瑫r鑲嵌6個直徑為30mm的樣品。2、該設(shè)備可用于各種樣品的冷鑲嵌，尤其是線路板、粉末冶金材料等的鑲嵌。在電子行業(yè)中，還可與染色劑配合，用于焊接缺陷的檢查。精密金相切割機(jī) 哪個廠家好？廣西體視金相研磨

全自動鑲嵌機(jī)HC-300產(chǎn)品特點(diǎn)：1、電動液壓系統(tǒng)精細(xì)控制壓力，確保脆性試樣。2、預(yù)熱功能可以縮短制樣加熱時間。3、制樣單元也控制系統(tǒng)隔離設(shè)計，方便清理維護(hù)。4、直觀觸摸屏的操作，參數(shù)設(shè)置方便，一鍵啟動，同時可以看到制樣溫度與壓力變化。5、***總制樣剩余時間與進(jìn)度條過程進(jìn)度顯示。6、支持中英文語言切換，屏幕顯示亮度設(shè)置，3種提示音選擇。7、強(qiáng)大用戶自定義方法數(shù)據(jù)庫，支持中英文輸入，可存儲25條方法數(shù)據(jù)，特殊需求可擴(kuò)展。8、三種制樣方法模式，適合不同材料試樣。北京金屬金相檢測儀器金屬金剛石切割片 大口徑的排水管道，解決易堵的問題。

冷鑲嵌用模一、用途冷鑲嵌用模配合冷鑲嵌料使用，根據(jù)不同直徑和不同形狀，選擇適用模具進(jìn)行鑲嵌。一次性用模此產(chǎn)品主要使用在PCB廠做金相切片分析時起承載切片的作用,特點(diǎn)是透明度高,美觀實用,節(jié)省冷鑲嵌料。大鑲嵌模滿足鑲嵌大樣品的需要，小鑲嵌模節(jié)約冷鑲嵌料，共有4種形狀規(guī)格。二、規(guī)格參數(shù)1、FMM1冷鑲嵌用模：12個/盒直徑：Φ20內(nèi)高：18mm硅橡膠，配合冷鑲嵌，可反復(fù)使用；2、FMM2冷鑲嵌用模：12個/盒直徑：Φ25內(nèi)高：18mm硅橡膠，配合冷鑲嵌，可反復(fù)使用；3、FMM3冷鑲嵌用模：12個/盒直徑：Φ30內(nèi)高：18mm硅橡膠，配合冷鑲嵌，可反復(fù)使用；4、FMM4冷鑲嵌用模：12個/盒直徑：Φ40內(nèi)高：21mm硅橡膠，配合冷鑲嵌，可反復(fù)使用；

樣品電刻筆一、用途電刻筆適用于金屬及玻璃、瓷器、大理石等非金屬等材料上的雕刻。二、使用方法：1、接通電源，右手握住電刻筆；2、像拿筆一樣的姿勢，稍微傾斜一個角度（45度角），并將手?jǐn)R在臺面上，手指按住微動開關(guān)即可刻寫，松開即停止刻寫?？虒憰r不要硬往下壓，比平常書寫速度稍慢。3、電刻筆上部有一旋鈕可調(diào)整刻寫深度，通過多次反復(fù)刻寫掌握它的性能，以滿足您所需刻寫材料的字體大小及深度要求。4、電刻筆出廠時配有硬質(zhì)合金刻頭，它能滿足玻璃、金屬、陶瓷以及其它較硬材料的刻寫，然而對于工業(yè)化的邊續(xù)刻寫則需用**的金剛石刻頭。5、刻頭磨損后，電刻筆擰開螺釘裝卸旋鈕，重新?lián)Q上刻頭。金相試樣自動鑲嵌機(jī)冷腐蝕。

金剛石拋光膏一、使用方法拋光膏由油料和粉料兩部分按照科學(xué)配比制成。使用時，須先把拋光膏順著拋光輪轉(zhuǎn)動的方向擦拭均勻，然后將被拋工件拿來與拋光輪做拋物線運(yùn)動。二、規(guī)格：粒度：0.5um,1um,1.5um,2.5um,3um,3.5um,5um,6um,7um,9um,10um,14um,15um,20um,28um,40um金剛石拋光膏一、使用方法拋光膏由油料和粉料兩部分按照科學(xué)配比制成。使用時，須先把拋光膏順著拋光輪轉(zhuǎn)動的方向擦拭均勻，然后將被拋工件拿來與拋光輪做拋物線運(yùn)動。二、規(guī)格：粒度：0.5um,1um,1.5um,2.5um,3um,3.5um,5um,6um,7um,9um,10um,14um,15um,20um,28um,40um自動金相鑲嵌機(jī)支持定制。江西實驗金相腐蝕一體

倒置金相顯微鏡 四孔轉(zhuǎn)換、五孔轉(zhuǎn)換。廣西體視金相研磨

二氧化硅懸浮拋光液一、產(chǎn)品用途二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。***用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。二、產(chǎn)品特點(diǎn)：高拋光速率、高純度，有效減小對電子類產(chǎn)品玷污、高平坦度三、規(guī)格：：0.02um、0.05um二氧化硅懸浮拋光液一、產(chǎn)品用途二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。***用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。二、產(chǎn)品特點(diǎn)：高拋光速率、高純度，有效減小對電子類產(chǎn)品玷污、高平坦度三、規(guī)格：：0.02um、0.05um廣西體視金相研磨