深圳新型電鍍銅技術(shù)路線(xiàn)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-04

電鍍銅的整平性是指在電鍍過(guò)程中,銅離子在電解液中被還原成金屬銅并沉積在基材表面時(shí),銅層的表面平整度和厚度均勻性。整平性是電鍍銅的重要性能之一,對(duì)于電子元器件、印刷電路板等高精度電子產(chǎn)品的制造具有重要意義。整平性的好壞直接影響到電鍍銅層的質(zhì)量和性能。如果電鍍銅層的整平性不好,表面會(huì)出現(xiàn)凸起、凹陷、孔洞等缺陷,這些缺陷會(huì)影響到電鍍銅層的導(dǎo)電性、耐腐蝕性和可焊性等性能,從而影響到整個(gè)電子產(chǎn)品的性能和可靠性。為了提高電鍍銅的整平性,需要采取一系列措施,如優(yōu)化電解液配方、控制電鍍工藝參數(shù)、加強(qiáng)基材表面處理等。此外,還可以采用化學(xué)鍍銅、真空鍍銅等新型電鍍技術(shù),以提高電鍍銅層的整平性和均勻性。電鍍銅工藝簡(jiǎn)單,易于操作和維護(hù),可以在短時(shí)間內(nèi)完成高質(zhì)量的表面處理。深圳新型電鍍銅技術(shù)路線(xiàn)

深圳新型電鍍銅技術(shù)路線(xiàn),電鍍銅

電鍍銅導(dǎo)電性與發(fā)電效率雙重提升金屬柵線(xiàn)電極與透明導(dǎo)電膜之間形成一個(gè)非整流的接觸——?dú)W姆接觸,歐姆接觸效果決定電池導(dǎo)電性與發(fā)電效率能否達(dá)到適合。影響歐姆接觸效果的因素有接觸面緊密結(jié)合度、柵線(xiàn)材料電阻率,電阻率越大,電池片對(duì)電子或載流子的負(fù)荷越高,電子或載流子的通過(guò)率越差。銅柵線(xiàn)導(dǎo)電性強(qiáng)于銀漿。銅的導(dǎo)電性與銀相近,但銀漿屬于混合物膠體,銅柵線(xiàn)是純銅,因此銅柵線(xiàn)的電阻率更低,銅柵線(xiàn)電阻率是1.7Ω/m,銀漿的電阻率大約為5-10Ω/m。浙江自動(dòng)化電鍍銅后綴PVD鍍膜設(shè)備的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)可延伸至HJT電鍍銅工藝。

適用電鍍銅工藝的光伏電池片產(chǎn)能:當(dāng)前PERC生產(chǎn)成本相對(duì)較低,且由于具備更高效率的N型電池,如TOPCon、HJT、IBC出現(xiàn),我們認(rèn)為未來(lái)PERC電池會(huì)被逐步替代,PERC電池不具有采用電鍍銅工藝的必要性。N型電池作為新技術(shù)路線(xiàn),降本是其規(guī)?;l(fā)展邏輯,電鍍銅工藝作為降本增效的技術(shù),為其降本可選技術(shù)路線(xiàn)之一。根據(jù)CPIA對(duì)各類(lèi)電池技術(shù)市場(chǎng)占比變化趨勢(shì)的預(yù)測(cè),我們計(jì)算得出2022年到2030年,適用電鍍銅工藝的全球N型電池(TOPCon、HJT、IBC)產(chǎn)能自13.87GW增長(zhǎng)至504.28GW。

全新的電鍍銅工藝旨在進(jìn)一步針對(duì)低成本電池的需求,光伏銅電鍍技術(shù)采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線(xiàn)電極,實(shí)現(xiàn)整片電池的工藝轉(zhuǎn)換,打破瓶頸,創(chuàng)新行業(yè)發(fā)展。光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對(duì)光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實(shí)現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差,甚至可以實(shí)現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。        電鍍銅技術(shù)更適用于HJT。

銅柵線(xiàn)更細(xì),線(xiàn)寬線(xiàn)距尺寸小,發(fā)電效率更高。柵線(xiàn)細(xì)、線(xiàn)寬線(xiàn)距小意味著柵線(xiàn)密度更大,更多的柵線(xiàn)可以更好地將光照產(chǎn)生的內(nèi)部載流子通過(guò)電流形式導(dǎo)出電池片,從而提高發(fā)電效率,銅電鍍技術(shù)電池轉(zhuǎn)化效率比絲網(wǎng)印刷高0.3%~0.5%。①低溫銀漿較為粘稠,印刷寬度更寬。高溫銀漿印刷線(xiàn)寬可達(dá)到20μm,但是低溫銀漿印刷的線(xiàn)寬大約為40μm。②銅電鍍銅離子沉積只有電子交換,柵線(xiàn)寬度更小。銅電鍍的線(xiàn)寬大約為20μm,采用類(lèi)半導(dǎo)體的光刻技術(shù)可低于20μm。電鍍銅種子層制備:PVD對(duì)工藝溫度要求較低,為目前主流方案。鄭州異質(zhì)結(jié)電鍍銅產(chǎn)線(xiàn)

電鍍銅可以提高金屬的抗腐蝕性和耐磨性,延長(zhǎng)其使用壽命。深圳新型電鍍銅技術(shù)路線(xiàn)

電鍍銅各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類(lèi)光刻/LDI 激光直寫(xiě)/激光 開(kāi)槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。深圳新型電鍍銅技術(shù)路線(xiàn)