浙江新型濕法制絨

電池濕法去PSG設(shè)備主要是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗處理，雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能、安全性升級(jí)。去PSG工藝首先將繞擴(kuò)層PSG進(jìn)行去除，利用背面PSG保護(hù)，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸，整機(jī)設(shè)計(jì)為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu)，料臺(tái)歸正寬度可調(diào)，兼容更多規(guī)格的硅片，并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口；去PSG設(shè)備布局前后通透，給設(shè)備使用者提供了便捷性；上料臺(tái)搭配了大流量全新滴液泵；電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過程中，需要進(jìn)行多次溝通和協(xié)調(diào)，保持生產(chǎn)和管理的順暢。浙江新型濕法制絨

電池濕法設(shè)備是一種用于電池制造的設(shè)備，操作時(shí)需要注意以下安全事項(xiàng)：1.確保設(shè)備處于良好狀態(tài)：在操作設(shè)備之前，需要檢查設(shè)備是否處于良好狀態(tài)，如有損壞或故障應(yīng)及時(shí)維修或更換。2.穿戴個(gè)人防護(hù)裝備：在操作設(shè)備時(shí)，應(yīng)穿戴適當(dāng)?shù)膫€(gè)人防護(hù)裝備，如手套、護(hù)目鏡、口罩等，以保護(hù)自身安全。3.遵守操作規(guī)程：在操作設(shè)備時(shí)，應(yīng)嚴(yán)格遵守操作規(guī)程，按照正確的操作步驟進(jìn)行操作，不得擅自更改或調(diào)整設(shè)備。4.防止電解液泄漏：電池濕法設(shè)備中使用的電解液具有腐蝕性，操作時(shí)應(yīng)注意防止電解液泄漏，如發(fā)現(xiàn)泄漏應(yīng)及時(shí)清理。5.防止電池短路：在操作設(shè)備時(shí)，應(yīng)注意防止電池短路，如電池短路可能導(dǎo)致火災(zāi)等危險(xiǎn)。6.禁止吸煙和使用明火：在操作設(shè)備時(shí)，應(yīng)禁止吸煙和使用明火，以防止火災(zāi)等危險(xiǎn)。7.定期維護(hù)設(shè)備：定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)，保持設(shè)備的良好狀態(tài)，以確保設(shè)備的安全性和穩(wěn)定性?？傊?，操作電池濕法設(shè)備時(shí)，應(yīng)注意安全事項(xiàng)，保護(hù)自身安全，確保設(shè)備的正常運(yùn)行。智能濕法設(shè)備太陽(yáng)能光伏電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）可去除背面BSG和拋光處理。

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì)：閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。

濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法設(shè)備擁有多種型號(hào)，滿足不同規(guī)格硅片、各種類型電池片制造的需求，靈活性高。

濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無(wú)金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。濕法技術(shù)在紙漿和造紙工業(yè)中起著關(guān)鍵作用，可以用于紙漿制備、紙張加工和廢紙回收等過程。山東HJT濕法去BSG

濕法的發(fā)展和應(yīng)用對(duì)于推動(dòng)工業(yè)化進(jìn)程和經(jīng)濟(jì)發(fā)展具有重要意義。浙江新型濕法制絨

要優(yōu)化濕法設(shè)備的壓力設(shè)置，可以考慮以下幾個(gè)方面：1.確定合適的工作壓力范圍：根據(jù)濕法設(shè)備的設(shè)計(jì)和工藝要求，確定一個(gè)合適的工作壓力范圍。過高的壓力可能導(dǎo)致設(shè)備損壞或過度耗能，而過低的壓力可能影響設(shè)備的正常運(yùn)行。2.定期檢查和維護(hù)設(shè)備：定期檢查設(shè)備的壓力傳感器、閥門和管道等部件，確保其正常工作。清潔和更換損壞的部件，以保證設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。3.調(diào)整壓力控制系統(tǒng)：根據(jù)實(shí)際情況，調(diào)整濕法設(shè)備的壓力控制系統(tǒng)。可以通過增加或減少壓力傳感器的靈敏度，或調(diào)整閥門的開度來實(shí)現(xiàn)。4.優(yōu)化供氣系統(tǒng)：確保濕法設(shè)備的供氣系統(tǒng)穩(wěn)定可靠。檢查氣源管道、過濾器和調(diào)壓閥等部件，確保其正常工作。如果供氣系統(tǒng)存在問題，可能會(huì)導(dǎo)致設(shè)備壓力不穩(wěn)定。5.監(jiān)測(cè)和記錄壓力數(shù)據(jù)：定期監(jiān)測(cè)和記錄濕法設(shè)備的壓力數(shù)據(jù)，以便及時(shí)發(fā)現(xiàn)異常情況并采取相應(yīng)措施?？梢允褂脡毫鞲衅骱蛿?shù)據(jù)記錄儀等設(shè)備進(jìn)行監(jiān)測(cè)和記錄。浙江新型濕法制絨