吉林陶瓷靶材價格咨詢

來源: 發(fā)布時間:2023-07-14

靶材主要用于生成太陽能薄膜電池的背電極,晶體硅太陽能電池較少用到濺射靶材。太陽能電池主要包括晶體硅太陽能電池和薄膜太陽能電池,晶體硅太陽能電池轉(zhuǎn)化效率較高、性能穩(wěn)定,且各個產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)比較成熟,占據(jù)了太陽能電池市場的主導(dǎo)地位。而晶體硅太陽能電池按照生產(chǎn)工藝不同可分為硅片涂覆型太陽能電池以及PVD工藝高轉(zhuǎn)化率硅片太陽能電池,其中硅片涂覆型太陽能電池的生產(chǎn)不使用濺射靶材,目前靶材主要用于太陽能薄膜電池領(lǐng)域。靶材濺射鍍膜形成的太陽能薄膜電池的背電級主要有三個用途:一,它是各單體電池的負(fù)極;二,它是各自電池串聯(lián)的導(dǎo)電通道;三,它可以增加太陽能電池對光的反射。太陽能薄膜電池用濺射靶材主要為方形板狀,對純度要求沒有半導(dǎo)體芯片用靶材要求高,一般在99.99%以上。目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。其中鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。吉林陶瓷靶材價格咨詢

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陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點:1.導(dǎo)電性:金屬靶材都具有導(dǎo)電性,可以適應(yīng)各種不同電源類型機臺,而陶瓷靶材因為大部分不具備導(dǎo)電性,只能使用射頻電源. 2.導(dǎo)熱性:金屬靶材導(dǎo)熱性能好,濺射時可以大功率運行.陶瓷靶材導(dǎo)熱性較差,濺射時功率不宜過高.復(fù)合性:3. 金屬靶材內(nèi)很難摻入其他陶瓷類物質(zhì),濺射后膜層功能比較單一.陶瓷靶材可以根據(jù)需要摻入不同金屬及陶瓷類物質(zhì),濺射后可以形成多種物質(zhì)組成的復(fù)合膜層,這點陶瓷靶材比金屬靶材占優(yōu).貴州功能性陶瓷靶材多少錢目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。

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靶材間隙對大面積鍍膜的影響除了致密化,如果靶材在生產(chǎn)過程中出現(xiàn)異常,大顆粒會因受熱而脫落或縮孔。結(jié)果會形成更多的氣孔(內(nèi)部缺陷),靶材中更大或更密的氣孔會因電荷集中而放電,影響使用。靶材密度低,加工、運輸或安裝時氣孔易破裂。相對密度高、孔隙少的靶材具有良好的導(dǎo)熱性。濺射靶材表面的熱量很容易快速傳遞到靶材或襯板內(nèi)表面的冷卻水中,保證了成膜過程的穩(wěn)定性。濺射靶材的純度對薄膜的性能有很大的影響。當(dāng)潔凈的基材進(jìn)入高真空鍍膜室時,如果在電場和磁場的作用下靶材純度不夠。那樣的話,靶材中的雜質(zhì)粒子會在濺射過程中附著在玻璃表面,導(dǎo)致某些位置的膜層不牢固,出現(xiàn)剝離現(xiàn)象。因此,靶材的純度越高,薄膜的性能就越好。

透明導(dǎo)電薄膜的種類很多,主要有 ITO,TCO,AZO 等,其中 ITO的性能比較好,ITO具有高透光率,低電阻率。目前 ITO 的制備方法主要是磁控濺射,要獲得高質(zhì)量的 ITO薄膜,制備高密度、高純度和高均勻性的 ITO 靶材是關(guān)鍵。高質(zhì)量的成品 ITO 濺射靶應(yīng)具有99%的相對密度。這樣的靶材才具有較低電阻率、較高導(dǎo)熱率及較高的機械強度。高密度靶可以在溫度較低條件下在玻璃基片上濺射,獲得較低電阻率和較高透光率的導(dǎo)電薄膜。甚至可以在有機材料上濺射 ITO 導(dǎo)電膜。目前ITO靶材的制備方法主要有熱壓法、冷等靜壓-燒結(jié)法、熱等靜壓法。其中采用冷等靜壓-燒結(jié)法,其相對密度能達(dá)到 99%以上,燒結(jié)溫度高,保溫時間長,制備工藝復(fù)雜。放電等離子燒結(jié)(SPS)是在脈沖電流作用下,粉末顆粒間放電,產(chǎn)生瞬間高溫進(jìn)行燒結(jié)。SPS技術(shù)具有快速、低溫、高效率等優(yōu)點。能在很低的燒結(jié)溫度下,保溫很短的時間制備高密度的材料。


靶材是半導(dǎo)體、顯示面板、異質(zhì)結(jié)光伏領(lǐng)域等的關(guān)鍵材料,存在工藝不可替代性。

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氧化鋁薄膜是一種重要的功能薄膜材料,由于具有較高的介電常數(shù)、高熱導(dǎo)率、抗輻照損傷能力強、抗堿離子滲透能力強以及在很寬的波長范圍內(nèi)透明等諸多優(yōu)異的物理、化學(xué)性能,使其在微電子器件、電致發(fā)光器件、光波導(dǎo)器件以及抗腐蝕涂層等眾多領(lǐng)域有著廣的應(yīng)用。磁控濺射具有濺射鍍膜速度快,膜層致密,附著性好等特點,很適合于大批量,高效率工業(yè)生產(chǎn)等明顯優(yōu)點應(yīng)用日趨廣,成為工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中主要的技術(shù)之一。濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,對陰極靶材表面進(jìn)行轟擊,把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定的動能,沿一定的方向射向基體表面,在基體表面形成鍍層。用這種技術(shù)制備氧化鋁膜時一般都以純鋁為靶材,濺射用的惰性氣體通常選擇氬氣(Ar),因為它的濺射率比較高。用氬離子轟擊鋁靶并通入氧氣,濺射出的鋁離子和電離得到的氧離子沉積到基片上從而得到氧化鋁膜。按磁控濺射中使用的離子源不同,磁控濺射方法有以下幾種:①直流反應(yīng)磁控濺射;②脈沖磁控濺射;③射頻磁控濺射;④微波-ECR等離子體增強磁控濺射;⑤交流反應(yīng)磁控濺射等。濺射靶材開裂原因生產(chǎn)中使用的冷卻水溫度與鍍膜線實際水溫存在差異,導(dǎo)致使用過程中靶材開裂。安徽陶瓷靶材推薦廠家

ITO靶材是將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后經(jīng)過生產(chǎn)加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。吉林陶瓷靶材價格咨詢

制備一種同質(zhì)雙層氧化鉿減反膜,屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明在透明或半透明基底上依次沉積高折射率的致密氧化鉿層和低折射率的多孔氧化鉿層。兩層氧化鉿的折射率由電子束蒸鍍的入射角度控制,厚度根據(jù)基底不同而調(diào)節(jié)。本發(fā)明采用電子束蒸鍍方法,并且雙層減反膜由同種材料制成,制備成本低、效率高。該雙層氧化鉿減反膜對于可見光范圍內(nèi)的多角度入射光均具有很好的減反增透能力,可用于降低窗板、觸屏電極或液晶顯示屏等表面的反射,具有廣的應(yīng)用前景。吉林陶瓷靶材價格咨詢

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