景德鎮(zhèn)膜厚儀價格走勢

來源: 發(fā)布時間:2023-12-18

光纖白光干涉測量使用的是寬譜光源。光源的輸出光功率和中心波長的穩(wěn)定性是光源選取時需要重點考慮的參數。論文所設計的解調系統(tǒng)是通過檢測干涉峰值的中心波長的移動實現的,所以光源中心波長的穩(wěn)定性將對實驗結果產生很大的影響。實驗中我們所選用的光源是由INPHENIX公司生產的SLED光源,相對于一般的寬帶光源具有輸出功率高、覆蓋光譜范圍寬等特點。該光源采用+5V的直流供電,標定中心波長為1550nm,且其輸出功率在一定范圍內是可調的,驅動電流可以達到600mA。白光干涉膜厚測量技術的研究主要集中在實驗方法的優(yōu)化和算法的改進上。景德鎮(zhèn)膜厚儀價格走勢

采用峰峰值法處理光譜數據時,被測光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長信息即可得出光程差,不必關心此波長處的光強大小,從而降低數據處理的難度。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對應的波長來分別求出光程差,然后再求平均值作為測量光程差,這樣可以提高該方法的測量精度。但是,峰峰值法存在著一些缺點:當使用寬帶光源作為輸入光源時,接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光,從而引起峰值處波長的改變,引入測量誤差。同時,當兩干涉信號之間的光程差很小,導致其干涉光譜只有一個干涉峰的時候,此法便不再適用。合肥膜厚儀源頭直供廠家白光干涉膜厚測量技術可以實現對薄膜厚度的在線檢測和自動控制。

論文所研究的鍺膜厚度約300nm,導致其白光干涉輸出光譜只有一個干涉峰,此時常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調的方案(如峰峰值法等)將不再適用。為此,我們提出了一種基于單峰值波長移動的白光干涉測量方案,并設計搭建了膜厚測量系統(tǒng)。溫度測量實驗結果表明,峰值波長與溫度變化之間具有良好的線性關系。利用該測量方案,我們測得實驗用鍺膜的厚度為338.8nm,實驗誤差主要來自于溫度控制誤差和光源波長漂移。論文通過對納米級薄膜厚度的測量方案研究,實現了對鍺膜和金膜的厚度測量。論文主要的創(chuàng)新點是提出了白光干涉單峰值波長移動的解調方案,并將其應用于極短光程差的測量。

基于表面等離子體共振傳感的測量方案,利用共振曲線的三個特征參量—共振角、半高寬和反射率小值,通過反演計算得到待測金屬薄膜的厚度。該測量方案可同時得到金屬薄膜的介電常數和厚度,操作方法簡單。我們利用Kretschmann型結構的表面等離子體共振實驗系統(tǒng),測得金膜在入射光波長分別為632.8nm和652.1nm時的共振曲線,由此得到金膜的厚度為55.2nm。由于該方案是一種強度測量方案,測量精度受環(huán)境影響較大,且測量結果存在多值性的問題,所以我們進一步對偏振外差干涉的改進方案進行了理論分析,根據P光和S光之間相位差的變化實現厚度測量。白光干涉膜厚測量技術可以應用于電子顯示器中的薄膜厚度測量。

    薄膜作為改善器件性能的重要途徑,被廣泛應用于現代光學、電子、醫(yī)療、能源、建材等技術領域。受薄膜制備工藝及生產環(huán)境影響,成品薄膜存在厚度分布不均、表面粗糙度大等問題,導致其光學及物理性能達不到設計要求,嚴重影響成品的性能及應用。隨著薄膜生產技術的迅速發(fā)展,準確測量和科學評價薄膜特性作為研究熱點,也引起產業(yè)界的高度重視。厚度作為關鍵指標直接影響薄膜工作特性,合理監(jiān)控薄膜厚度對于及時調整生產工藝參數、降低加工成本、提高生產效率及企業(yè)競爭力等具有重要作用和深遠意義。然而,對于市場份額占比大的微米級工業(yè)薄膜,除要求測量系統(tǒng)不僅具有百納米級的測量精度之外,還要求具備體積小、穩(wěn)定性好的特點,以適應工業(yè)現場環(huán)境的在線檢測需求。目前光學薄膜測厚方法仍無法兼顧高精度、輕小體積,以及合理的系統(tǒng)成本,而具備納米級測量分辨力的商用薄膜測厚儀器往往價格昂貴、體積較大,且無法響應工業(yè)生產現場的在線測量需求?;谝陨戏治?,本課題提出基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測量解決方案,研制小型化、低成本的薄膜厚度測量系統(tǒng),并提出無需標定樣品的高效穩(wěn)定的膜厚計算算法。研發(fā)的系統(tǒng)可以實現微米級工業(yè)薄膜的厚度測量。 白光干涉膜厚測量技術可以應用于生物醫(yī)學中的薄膜生物學特性分析。合肥膜厚儀廠家

白光干涉膜厚測量技術可以通過對干涉圖像的分析實現對薄膜的表面和內部結構的聯(lián)合測量和分析。景德鎮(zhèn)膜厚儀價格走勢

極值法求解過程計算簡單,速度快,同時確定薄膜的多個光學常數及解決多值性問題,測試范圍廣,但沒有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素,以至于精度不夠高。此外,由于受曲線擬合精度的限制,該方法對膜厚的測量范圍有要求,通常用這種方法測量的薄膜厚度應大于200nm且小于10μm,以確保光譜信號中的干涉波峰數恰當。全光譜擬合法是基于客觀條件或基本常識來設置每個擬合參數上限、下限,并為該區(qū)域的薄膜生成一組或多組光學參數及厚度的初始值,引入適合的色散模型,再根據麥克斯韋方程組的推導。這樣求得的值自然和實際的透過率和反射率(通過光學系統(tǒng)直接測量的薄膜透射率或反射率)有所不同,建立評價函數,當計算的透過率/反射率與實際值之間的偏差小時,我們就可以認為預設的初始值就是要測量的薄膜參數。景德鎮(zhèn)膜厚儀價格走勢