揚(yáng)州SnO2靶材貼合

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-21

在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征,在不矛盾的情況下,可以通過(guò)任何合適的方式進(jìn)行組合,為了避免不必要的重復(fù),本發(fā)明對(duì)各種可能的組合方式不再另行說(shuō)明。此外,本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合,只要其不違背本發(fā)明的思想,其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開(kāi)的內(nèi)容。本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域,具體涉及一種長(zhǎng)壽命靶材組件。目前,現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限,為提高靶材的使用壽命,節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性?,F(xiàn)有的技術(shù)都是通過(guò)磁場(chǎng)強(qiáng)度,把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來(lái)延長(zhǎng)壽命,包括靶材本體及基體,所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體,所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過(guò)等離子弧噴涂機(jī)噴涂熔焊在所述基體上。所述基體與所述靶材本體的結(jié)合面為呈內(nèi)凹的圓弧面。所述基體為矩形體或圓形。所述靶材的制造方法步驟如下:(1)準(zhǔn)備合金粉體;(2)準(zhǔn)備基體;(3)等離子轉(zhuǎn)移弧噴涂成型;(4)、清理被噴涂層表面,按照步驟(3)的要求再次噴涂處理,直至獲得要求厚度的靶材。本發(fā)明有益效果在于:一是生產(chǎn)的靶材無(wú)氣孔殘留;二是生產(chǎn)設(shè)備簡(jiǎn)單、投資??;三是靶材可以修復(fù)再利用。導(dǎo)電膠:采用的導(dǎo)電膠要耐高溫,厚度在0.02-0.05um。揚(yáng)州SnO2靶材貼合

陶瓷靶材:ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、濺射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。南京鎵靶材價(jià)錢(qián)純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。

靶材的雜質(zhì)含量。在經(jīng)過(guò)一系列的靶材工藝處理后靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。因?yàn)橛锰幉灰粯樱圆煌猛镜陌胁膶?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。比如現(xiàn)在的半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響,并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。

有一部分靶材在安裝之前需要拋光,比如鋁靶材等活性金屬靶材,長(zhǎng)期暴露在大氣中,表面容易形成一層氧化皮,在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮,所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。一般靶材拋光后,濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定,容易控制。所以結(jié)論就是,活性金屬靶材要求表面拋光,不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。靶材安裝及注意事項(xiàng)有哪些?濺射靶材安裝過(guò)程中重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射頭冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開(kāi)裂或彎曲,背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會(huì)受到很大的影響,導(dǎo)致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散發(fā)終會(huì)造成靶材開(kāi)裂或脫靶。如果反應(yīng)氣體量增加過(guò)度,化合物覆蓋面積增加。

氧化物鍍膜技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 近年來(lái),迅速發(fā)展微波加熱技術(shù)給微波食品包裝及需經(jīng)微波殺 菌消毒的一類(lèi)商品的包裝提出了新的要求,即包裝材料不要具有優(yōu)良的阻隔性能,而且還要耐高溫、微波透過(guò)性好等特性,傳統(tǒng)的包裝材料很難具備這些特點(diǎn)。因此,近年來(lái)日本、德國(guó)、美國(guó)等國(guó)家大力研究開(kāi)發(fā)新型的高阻隔性包裝材料——SiOX和其它金屬氧化物鍍膜復(fù)合材料。這類(lèi)材料除了阻隔性能可以與鋁塑復(fù)合材料相媲美外,同時(shí)還具有微波透過(guò)性好、耐高溫、透明、受環(huán)境溫度濕度影響小等優(yōu)點(diǎn)。 非金屬鍍膜可采用蒸鍍?cè)峡刹捎肧iOX、SiO2,也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等,其中常用的是SiOX、AlOx。氧化物鍍膜的蒸發(fā)源有電阻式和電子束兩種,電阻式蒸發(fā)源以電阻通過(guò)發(fā)熱的原理來(lái)加熱蒸鍍?cè)?,高加熱溫度可達(dá)1700℃。電子束蒸發(fā)源利用加速電子碰撞蒸鍍?cè)隙蛊湔舭l(fā),蒸發(fā)源配有電子,在材料局部位置上而形成加熱束斑,束斑溫度可達(dá)3000~6000℃,能量密度高可達(dá)20KW/cm2。 實(shí)驗(yàn)表明只有PP、PET、PA等材料才能較適合氧化物鍍膜加工。此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。揚(yáng)州SnO2靶材貼合

晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。揚(yáng)州SnO2靶材貼合

鋁鈧合金靶材(AlSc),尺寸按需求定制,比列按需求定制,含鈧比較高能做到AlSc45wt%,質(zhì)量?jī)?yōu)異,雜質(zhì)含量低,歡迎新老客戶來(lái)電咨詢洽談。江陰典譽(yù)新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧,品質(zhì)優(yōu)異,**全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久,擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業(yè)大型廠商采用。相關(guān)靶材清單如下:稀土合金靶材:鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe;鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;釔鋁YAl;釔銅YCu;釔鐵YFe;釔鎂YMg;釔鎳YNi;釔鋯ZrY揚(yáng)州SnO2靶材貼合

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類(lèi)靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類(lèi)機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。

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