什么是負(fù)離子,沃壹小編給大家分析一下
負(fù)離子室內(nèi)呼吸健唐解決方案燃爆國際綠色建博覽會(huì)
【負(fù)離子科普二】自然界中的負(fù)離子從哪里來的?
多地呼吸道ganran高發(fā),門診爆滿,秋冬呼吸道疾病高發(fā)期的易踩誤區(qū)
負(fù)離子發(fā)生器的原理是什么呢?
負(fù)離子到底是什么,一般涉及到的行業(yè)、產(chǎn)品有哪些?
負(fù)離子空氣凈化器去除PM2.5
關(guān)于負(fù)離子的常見十問
運(yùn)動(dòng),需要選對(duì)時(shí)間和地點(diǎn)
負(fù)離子給我們生活帶來的好處-空氣凈化負(fù)離子發(fā)生器制造商
靶材的比較大厚度為25mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為5°;所述斜面位于所述平面和第二平面之間;所述平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鋁;所述背板的材質(zhì)包括鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例2提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為6mm;所述靶材表面的硬度為30hv;其中,所述靶材的比較大厚度為30mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為8°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之間;所述***平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鈦;所述背板的材質(zhì)包括銅。熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。常州ZrCu靶材圖片
3D玻璃漸變色的應(yīng)用 3D玻璃漸變色主要應(yīng)用于3C產(chǎn)品,特別是手機(jī)領(lǐng)域。隨著雙玻璃加金屬邊框的盛行,3D后蓋裝飾工藝需要不斷革新?,F(xiàn)有的裝飾工藝主要是在裝飾防爆膜上進(jìn)行鍍膜絲印,再與3D玻璃貼合實(shí)現(xiàn)裝飾效果,外觀裝飾主要還是防爆膜紋理和鍍膜顏色搭配實(shí)現(xiàn)。漸變色效果可以通過多種途徑實(shí)現(xiàn),包括:印刷、轉(zhuǎn)印、真空鍍膜、噴涂等。由于技術(shù)的瓶頸問題,現(xiàn)在量產(chǎn)的3D玻璃漸變主要有印刷和真空鍍膜兩種途徑。 漸變效果可大致分為同色漸變、鄰近色漸變、對(duì)比色漸變。漸變顏色的選擇對(duì)于印刷工藝的限制會(huì)小一些,選擇范圍更加寬。印刷工藝可以選擇對(duì)應(yīng)顏色及對(duì)應(yīng)顏色帶范圍進(jìn)行印刷,能夠?qū)崿F(xiàn)較為多元化的色彩沖撞效果,滿足設(shè)計(jì)者的不同變色需求;作為手機(jī)多會(huì)選擇的真空鍍膜裝飾工藝,對(duì)于漸變色的裝飾效果也可以達(dá)到夢(mèng)幻流暢的效果,但色彩變化會(huì)有一定限制。 真空鍍膜漸變只能遵循顏色光譜變化規(guī)律:紅橙黃綠藍(lán)靛紫順序漸變,難以實(shí)現(xiàn)顏色的跨越,當(dāng)然,有的設(shè)計(jì)者也會(huì)通過其他工藝的疊加實(shí)現(xiàn)更多元化的漸變效果。上海SiCr靶材調(diào)試ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材。
基于非晶IGZO真空材料的阻變存儲(chǔ)器與憶阻器 從真空材料結(jié)構(gòu)及電子結(jié)構(gòu)角度入手,將In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料,由于球?qū)ΨQ的In 5s 軌道交疊較大,使得該材料具有形變對(duì)電學(xué)輸運(yùn)影響較小且遷移率較高的特點(diǎn)。 利用上述材料優(yōu)勢(shì),采用室溫工藝,在塑料襯底上制作了高性能IGZO 柔性阻變存儲(chǔ)器。器件在連續(xù)十萬次大角度彎折測(cè)試中,性能穩(wěn)定,存儲(chǔ)信息未丟失。變溫電學(xué)輸運(yùn)特性的研究表明:阻變行為與氧離子移動(dòng)密切相關(guān),該存儲(chǔ)器的低阻導(dǎo)電通道由缺氧局域結(jié)構(gòu)組成,而缺氧態(tài)的局部氧化導(dǎo)致了存儲(chǔ)器由低阻態(tài)向高阻態(tài)的轉(zhuǎn)變。 在此基礎(chǔ)上,利用IGZO 非晶薄膜的電學(xué)性質(zhì)可調(diào)節(jié)性及其對(duì)激勵(lì)信號(hào)可作出動(dòng)態(tài)反應(yīng)等特點(diǎn),設(shè)計(jì)并制備了由兩層不同含氧量IGZO 薄層構(gòu)成的憶阻器件;實(shí)現(xiàn)了對(duì)人腦神經(jīng)突觸多種基本功能的仿生模擬,涉及興奮性突觸后電流、非線性傳輸特性、長時(shí)程/短時(shí)程可塑性、刺激頻率響應(yīng)特性、STDP 機(jī)制、經(jīng)驗(yàn)式學(xué)習(xí)等多個(gè)方面。
與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。通過上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知,本發(fā)明中,通過調(diào)整靶材表面的高度差及硬度,保證濺射強(qiáng)度,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明,本發(fā)明通過上述實(shí)施例來說明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,但本發(fā)明并不局限于上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征才能實(shí)施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了,對(duì)本發(fā)明的任何改進(jìn),對(duì)本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等,均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的 實(shí)施方式,但是,本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡單變型,這些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。對(duì)材質(zhì)的要求:一般選用無氧銅和鉬靶,厚度在3mm左右。
等離子預(yù)處理工藝在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成,其中電子和離子的電荷總數(shù)基本相等,故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前,通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面,一方面,可以打開材料的長分子鏈,出現(xiàn)高能基團(tuán);另一方面,經(jīng)打擊使薄膜表面出現(xiàn)細(xì)小的凹陷,同時(shí)還可使表面雜質(zhì)離解、重解。電離時(shí)放出的臭氧有強(qiáng)氧化性,附著的雜質(zhì)被氧化而除去,使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高,達(dá)到提高鍍鋁層附著牢度的目的。 等離子預(yù)處理技術(shù)在不同公司其稱呼不同,如英國Bobst公司、德國Leybold Optic萊寶光電等稱之為等離子預(yù)處理,美國Applied Material公司稱之為輝光放電,英國Rexam公司為其注冊(cè)商標(biāo)為Camplus技術(shù)。另外,不同公司其使用的工藝氣體的組分也有所不同,多數(shù)公司使用氧氣和氬氣的組合,也有少數(shù)公司使用氮?dú)饣蜓鯕馀c氮?dú)獾慕M合。實(shí)踐證明經(jīng)過等離子處理后的薄膜其鍍鋁層附著牢度可以提高30-50%,且表現(xiàn)為非極性材料提高幅度高于極性材料。貴金屬靶材,一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料,建議墊一片銅片。合肥氧化銦靶材作用
靶材綁定的定義。濺射靶材的分類有哪些?常州ZrCu靶材圖片
中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個(gè)顯巨優(yōu)點(diǎn): (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象,中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比,膜面缺 陷要少幾個(gè)數(shù)量級(jí); (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率; (3)中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射的整個(gè)濺射沉積過程,可以始終穩(wěn)定在所設(shè)定的工作點(diǎn)上,為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。 選用非對(duì)稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同,使用單個(gè)磁控靶進(jìn)行反應(yīng)磁控濺射,調(diào)節(jié)相應(yīng)的鍍膜工藝參數(shù),可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實(shí)現(xiàn)長時(shí)間穩(wěn)定的薄膜沉積,可以達(dá)到上述“中頻-雙靶反應(yīng)磁控濺射”的同樣效果。常州ZrCu靶材圖片
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂兩套,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。