而射頻濺射的使用范圍更為***,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
三.真空鍍膜中靶材中毒會(huì)出現(xiàn)哪些想象,如何解決?
1、靶面金屬化合物的形成。
由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子,通常是放熱反應(yīng),反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑,否則,該化學(xué)反應(yīng)無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo),所以,化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。 為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。常州鋅鋁靶功能
鈀,是銀白色過(guò)渡金屬,較軟,有良好的延展性和可塑性,能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積***脹大,變脆乃至破裂成碎片。 原 子 量:106.4 密 度(20℃)/g?cm-3:12.02 熔 點(diǎn)/℃:1552 蒸發(fā)溫度/℃:1460 沸 點(diǎn)/℃:3140 汽化溫度/℃:1317 比 熱 容(25℃)J?(g?K)-1:0.2443 電 阻 率(0℃)/uΩ?cm:10.6 熔 化 熱/kJ?mol-1:16.7 汽 化 熱/ kJ?mol-1:361.7 熱 導(dǎo) 率(0~100℃)/J?(cm?s?℃)-1:0.753 電阻溫度系數(shù)(0~100℃)/℃-1:0.0038 外 觀:銀白色 蒸 發(fā) 源(絲、片):W(鍍Al2O3) 坩 堝:Al2O3 性 質(zhì):與難溶金屬形成合金,閃爍蒸發(fā),在EB***內(nèi)激烈飛濺,鈀是銀白色過(guò)渡金屬,較軟,有良好的延展性和可塑性,能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣,使體積***脹大,變脆乃至破裂成碎片?;瘜W(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下在空氣和潮濕環(huán)境中穩(wěn)定,加熱至 800℃,鈀表面形成一氧化鈀薄膜。 二、主要產(chǎn)品: 1、鈀 顆粒 99.99%(點(diǎn)擊查看詳情) 常規(guī)尺寸:φ3*6mm;量大可定做。 蘇州錳酸鑭靶圖片陽(yáng)極消失:靶中毒時(shí),接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達(dá)陽(yáng)極的電子無(wú)法進(jìn)入陽(yáng)極,形成陽(yáng)極消失現(xiàn)象。
什么是DLC薄膜?類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜,是英文詞匯DiamondLikeCarbon的簡(jiǎn)稱,它是一類性質(zhì)近似于金剛石,具有高硬度,高電阻率。良好光學(xué)性能等,同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式,從而使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì):金剛石(diamond)—碳碳以sp3鍵的形式結(jié)合;石墨(graphite)—碳碳以sp2鍵的形式結(jié)合。而類金剛石(DLC)—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合,生成的無(wú)定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài),它沒(méi)有嚴(yán)格的定義,可以包括很寬性質(zhì)范圍的非晶碳,因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性;所以由類金剛石而來(lái)的DLC膜同樣是一種亞穩(wěn)態(tài)長(zhǎng)程無(wú)序的非晶材料,碳原子間的鍵合方式是共價(jià)鍵,主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵,而在含氫的DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。
6. 起輝濺射真空度與前次的差別?
---------更換不同的靶材,起輝壓強(qiáng)不盡相同。
換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的,只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。 五.磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎?磁控濺射過(guò)程中,等離子體的離子撞擊靶材,濺射出靶材的原子、原子團(tuán)、離子、電子、光子等,原子、離子、原子團(tuán)沉積到基材上形成薄膜。
濺射發(fā)生在靶材表面,靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒(méi)有關(guān)系,濺射的時(shí)候會(huì)先濺射凸起,濺射時(shí)間長(zhǎng)了,靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。 影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶中毒。
玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別,大概分為以下幾種: 1、皇冠金(crown gold),黃金含量在22K(91.667%),由英國(guó)亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見(jiàn)的也是典型的18K玫瑰金,黃金含量也在18K(75%),但其它另含有約4%的銀和21%的銅,呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金,黃金含量在14K(58.33%),其它添加金屬為銅(41.67%)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用來(lái)達(dá)到不同的色調(diào)或用來(lái)改變鍍層的性能,這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子。蘇州錳酸鑭靶圖片
不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。常州鋅鋁靶功能
PECVD制備氫化非晶硅薄膜本實(shí)驗(yàn)采用單晶硅片為襯底,按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干,然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃,工作氣壓120Pa,射頻功率100W,氣體流量SiH4/H2=15/5sccm,沉積時(shí)間30min,制備得到a-Si:H薄膜樣品。(1)非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨著濺射功率的增大而增大,膜的均勻性將會(huì)變差;(2)非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小,非晶硅薄膜均勻性變好;(3)在0.5Pa至2.0Pa范圍內(nèi),隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大;(4)隨著濺射時(shí)間的增加,膜的厚度成非線性增加,沉積速率開(kāi)始較快,之后逐漸減慢,膜的表面粗糙度逐漸變大;(5)隨著濺射氣壓的增大,沉積速率有所降低。常州鋅鋁靶功能
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。