常州五氧化二鉭靶材工廠

ITO薄膜制作過程中的影響因素    ITO薄膜在濺鍍過程中會產(chǎn)生不同的特性，有時候表面光潔度比較低，出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象，有時候會出現(xiàn)高蝕間隔帶，在蝕刻時還會出現(xiàn)直線放射型缺劃或電阻偏高帶，有時候會出現(xiàn)微晶溝縫。         常用的ITO靶材是通過燒結(jié)法生產(chǎn)的，就是由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）粉末按照一定的比例進(jìn)行混合，通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2，形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體（氧化銦錫，ITO）。一般通過外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量，深灰色是好的，相反越黑質(zhì)量越差，我國生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。         研究顯示，在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺鍍過程中，使用磁控濺射的方式，基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見光透過率下，電阻率達(dá)到低，而薄膜的結(jié)晶度也隨著基底溫度的提高而提高，晶粒尺寸也逐漸增大，超過200℃后透射率趨于減弱；使用電子束蒸鍍的方式，隨著退火溫度升高，晶粒尺寸變大，表面形貌均一穩(wěn)定，超過600℃后顆粒變得大小不一，形狀各異，小顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重，薄膜表面形貌破壞。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當(dāng)發(fā)生靶中毒時，濺射電壓會降低。常州五氧化二鉭靶材工廠

靶材拋光裝置100還包括：防護(hù)層400，所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。防護(hù)層400為彈性材料，能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖，避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。防護(hù)層400的厚度為30mm～35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過小，所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差，難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過大，使得所述防護(hù)層400的體積過大，進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過大，對操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來不必要的困難。防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中，所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。防護(hù)層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中，所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)，所述防護(hù)層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。常州五氧化二鉭靶材工廠換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。

中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射與直流反應(yīng)磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優(yōu)點(diǎn)：   (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象，中頻反應(yīng)磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應(yīng)磁控濺射鍍制的同種膜相比，膜面缺 陷要少幾個數(shù)量級;   (2)可以得到比直流反應(yīng)磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率;   (3)中頻雙靶反應(yīng)磁控濺射的整個濺射沉積過程，可以始終穩(wěn)定在所設(shè)定的工作點(diǎn)上，為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。   選用非對稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同，使用單個磁控靶進(jìn)行反應(yīng)磁控濺射，調(diào)節(jié)相應(yīng)的鍍膜工藝參數(shù)，可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實(shí)現(xiàn)長時間穩(wěn)定的薄膜沉積，可以達(dá)到上述“中頻-雙靶反應(yīng)磁控濺射”的同樣效果。

靶材的比較大厚度為30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為8°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.8mm；所述靶材表面的硬度為22hv；其中，所述靶材的比較大厚度為28mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鉭；所述背板的材質(zhì)包括銅。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。

玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來達(dá)到不同的色調(diào)或用來改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。

導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。常州五氧化二鉭靶材工廠

磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？常州五氧化二鉭靶材工廠

本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中，所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中，所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出)，所述防護(hù)層與所述拋光片間通過所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層，所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。常州五氧化二鉭靶材工廠

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。