什么是負(fù)離子,沃壹小編給大家分析一下
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【負(fù)離子科普二】自然界中的負(fù)離子從哪里來(lái)的?
多地呼吸道ganran高發(fā),門診爆滿,秋冬呼吸道疾病高發(fā)期的易踩誤區(qū)
負(fù)離子發(fā)生器的原理是什么呢?
負(fù)離子到底是什么,一般涉及到的行業(yè)、產(chǎn)品有哪些?
負(fù)離子空氣凈化器去除PM2.5
關(guān)于負(fù)離子的常見(jiàn)十問(wèn)
運(yùn)動(dòng),需要選對(duì)時(shí)間和地點(diǎn)
負(fù)離子給我們生活帶來(lái)的好處-空氣凈化負(fù)離子發(fā)生器制造商
非晶硅薄膜的制備方法 非晶硅薄膜的制備方法有很多,如低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD),等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD),直流(射頻)磁控濺射等。生長(zhǎng)多晶硅薄膜的方法有:化學(xué)氣相沉積包括低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、大氣壓強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(APCVD)、等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)以及液相生長(zhǎng)、激光再晶化和固相晶化法(SPC)等。固相晶化法是指在(高溫)退火的條件下,使固態(tài)非晶硅薄膜的硅原子被、重組,從而轉(zhuǎn)化為多晶硅薄膜。它的特點(diǎn)是非晶固體發(fā)生晶化的溫度低于其熔融后結(jié)晶的溫度。常規(guī)高溫爐退火、快速熱退火、金屬誘導(dǎo)晶化、微波誘導(dǎo)晶化等都屬于固相晶化的范疇。本文采用PECVD 和磁控濺射方法在不同的條件下制備了a- Si: H 和a- Si 薄膜,并采取高溫退火和激光誘導(dǎo)晶化的方式,利用X- 射線衍射及拉曼光譜,對(duì)制備的非晶硅薄膜晶化過(guò)程進(jìn)行了系統(tǒng)地研究。
不拋光去除表面變質(zhì)部分,沉積到基材上的膜層性質(zhì)就是表面變質(zhì)的雜質(zhì)。福建Li4Ti5O12靶材
有一部分靶材在安裝之前需要拋光,比如鋁靶材等活性金屬靶材,長(zhǎng)期暴露在大氣中,表面容易形成一層氧化皮,在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮,所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。一般靶材拋光后,濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定,容易控制。所以結(jié)論就是,活性金屬靶材要求表面拋光,不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。靶材安裝及注意事項(xiàng)有哪些?濺射靶材安裝過(guò)程中重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射頭冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開(kāi)裂或彎曲,背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會(huì)受到很大的影響,導(dǎo)致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散發(fā)終會(huì)造成靶材開(kāi)裂或脫靶。福建鋯銅靶材因?yàn)橛锰幉灰粯?,所以不同用途的靶材?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。
靶材拋光裝置100還包括:防護(hù)層400,所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。防護(hù)層400為彈性材料,能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖,避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。防護(hù)層400的厚度為30mm~35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)小,所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差,難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)大,使得所述防護(hù)層400的體積過(guò)大,進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過(guò)大,對(duì)操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來(lái)不必要的困難。防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu),所述防護(hù)層與所述拋光片間通過(guò)所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。九.什么是靶材綁定主要從靶材綁定的定義,適用范圍和背靶的選擇三個(gè)方面來(lái)為大家介紹一下靶材綁定。一.靶材綁定的定義靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)。主要由三種方式:壓接、釬焊和導(dǎo)電膠。1.壓接:采用壓條,一般為了提高接觸的良好性,會(huì)增加石墨紙、Pb或In皮;
不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。
靶材磁控濺射的原理是什么?磁控濺射原理:在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng),濺射靶材在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場(chǎng),同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負(fù)高壓,從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更大,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。許多用戶在采購(gòu)靶材時(shí)沒(méi)有從專業(yè)的角度去考慮,下面為大家指出購(gòu)買靶材時(shí)需要注意的事項(xiàng)。北京硅鋁靶材
在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮。福建Li4Ti5O12靶材
磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al(AZO)薄膜的工藝探討 目前主要的薄膜太陽(yáng)能電池有:碲化鎘(CdTe)系薄膜太陽(yáng)能電池、硒銦銅(CIS)系薄膜太陽(yáng)能電池、非晶硅系薄膜太陽(yáng)能電池、晶硅系薄膜太陽(yáng)能電池。研究人員研制出了價(jià)格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al陷光結(jié)構(gòu)來(lái)作為薄膜太陽(yáng)能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結(jié)構(gòu)的AZO透明導(dǎo)電薄膜可以增強(qiáng)太陽(yáng)光的散射作用,改善陷光效果,增加電池對(duì)太陽(yáng)能的吸收量,提高薄膜太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導(dǎo)電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優(yōu)點(diǎn),是較為合適的生產(chǎn)AZO薄膜的工藝方法。 目前由磁控濺射工藝生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜AZO時(shí)所用靶材有兩種類型:①陶瓷AZO靶材;②合金鋅鋁靶材。應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況,選擇適合本企業(yè)的靶材產(chǎn)品。 作為一種新的TCO材料,AZO相對(duì)于ITO和FTO有很大優(yōu)勢(shì),要大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化還必須在如何降低設(shè)備及工藝成本上進(jìn)一步研發(fā)。從根本上說(shuō),AZO薄膜的結(jié)構(gòu)性能的好壞決定了其光電性能的優(yōu)劣,必須在工藝參數(shù)上多做研究,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量和低成本的雙贏。福建Li4Ti5O12靶材
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。