鋁鈧合金靶材（AlSc)，尺寸按需求定制，比列按需求定制，含鈧比較高能做到AlSc45wt%，質(zhì)量優(yōu)異，雜質(zhì)含量低，歡迎新老客戶來電咨詢洽談。江陰典譽新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧，品質(zhì)優(yōu)異，**全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久，擁有豐富的經(jīng)驗，目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業(yè)大型廠商采用。相關(guān)靶材清單如下：稀土合金靶材：鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe；鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;釔鋁YAl;釔銅YCu;釔鐵YFe;釔鎂YMg;釔鎳YNi;釔鋯ZrY一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高，所以靶中毒后濺射速率低。無錫鈦鋯靶材圖片
磁控濺射離子鍍 (1)在基體和工件上是否施加(直流或脈沖)負(fù)偏壓，利用負(fù)偏壓對離子的吸引和加速作用，是離子鍍與其它鍍膜類型的一個主要區(qū)別。蒸發(fā)鍍時基體和工件上加有負(fù)偏壓就是蒸發(fā)離子鍍 ;多弧鍍時基體和工件上加有負(fù)偏壓就是多弧離子鍍;磁控濺射時基體和工件上加有負(fù)偏壓就是磁控濺射離子鍍，這是磁控濺射離子鍍技術(shù)的一個重要特點。 (2)磁控濺射離子鍍是把磁控濺射和離子鍍結(jié)合起來的技術(shù)。在同一個真空腔體內(nèi)既可實現(xiàn)氬離子對磁控靶材的穩(wěn)定濺射，又實現(xiàn)了高能靶材離子在基片負(fù)偏壓作用下到達(dá)基片進(jìn)行轟擊、濺射、注入及沉積作用過程。整個鍍膜過程都存在離子對基片和工件表面的轟擊，可有效基片和工件表面的氣體和污物;使成膜過程中，膜層表面始終保持清潔狀態(tài)。 (3) 磁控濺射離子鍍可以在膜-基界面上形成明顯的混合過渡層(偽擴散層)，提高膜層附著強度;可以使膜層與工件形成金屬間化合物和固熔體，實現(xiàn)材料表面合金化，甚至出現(xiàn)新的晶相結(jié)構(gòu)。 (4)磁控濺射離子鍍形成膜層的膜基結(jié)合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數(shù)多、膜層粒子總體能量高，容易進(jìn)行反應(yīng)沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。
上海CuNi靶材調(diào)試密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
高純金屬的概念： 任何金屬都不能達(dá)到純?！案呒儭焙汀俺儭本哂邢鄬Φ暮x，是指技術(shù)上達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)。由于技術(shù)的發(fā)展，也常使“超純”的標(biāo)準(zhǔn)升級。例如過去高純金屬的雜質(zhì)為 ppm級（即百萬分之幾）,而超純半導(dǎo)體材料的雜質(zhì)達(dá)ppb級（十億分之幾）,并將逐步發(fā)展到以ppt級（一萬億分之幾）表示。實際上純度以幾個“9”(N)來表示（如雜質(zhì)總含量為百萬分之一，即稱為6個“9”或6N），是不完整概念，如電子器件用的超純硅以金屬雜質(zhì)計算，其純度相當(dāng)于9 個“9”。 但如計入碳，則可能不到6個“9”?！俺儭钡南鄬γ~是指“雜質(zhì)”，廣義的雜質(zhì)是指化學(xué)雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”，后者是指位錯及空位等，而化學(xué)雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只當(dāng)金屬純度達(dá)到很高的標(biāo)準(zhǔn)時(如純度 9N 以上的金屬)，物理雜質(zhì)的概念才是有意義的， 因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學(xué)雜質(zhì)的含量作為標(biāo)準(zhǔn)，即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬分之幾表示。
拋光片300包括拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330。所述拋光片部分310設(shè)置于所述頂板210的底部。所述拋光片第二部分320設(shè)置于所述頂板210與所述側(cè)板220的拐角處，且在所述拋光片部分310及拋光片第三部分330間平滑的過渡。所述拋光片第三部分330設(shè)置于所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面上，所述拋光片第三部分330表面與拋光片部分310表面垂直。拋光片第二部分320呈弧狀，與經(jīng)圓角處理的靶材側(cè)棱相匹配，可對靶材側(cè)棱進(jìn)行拋光。所述拋光片第三部分330表面為平整的平面，能夠?qū)Π胁膫?cè)壁表面進(jìn)行拋光。因此所述靶材拋光裝置100能夠同時對靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，有助于提高拋光作業(yè)效率。
適用范圍和背靶的選擇三個方面來為大家介紹一下靶材綁定。
釬焊：一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20W/cm2，釬料常用In、Sn、In-Sn；導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。二.綁定的適用范圍：建議綁定的靶材：ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材；錫、銦等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴的情況等。但下列情況綁定有弊端：1.熔點低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時候可能會變軟變形；2.貴金屬靶材，一是實際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料，建議墊一片銅片。三.背靶的選擇對材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；導(dǎo)電性好：常用無氧銅，無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；強度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；結(jié)構(gòu)要求：空心或者實心結(jié)構(gòu)；厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？常州碳化鋯靶材綁定
在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加，化合物生成率增加。無錫鈦鋯靶材圖片
靶材的比較大厚度為25mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為5°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括鋁。所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實施例2提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為6mm；所述靶材表面的硬度為30hv；其中，所述靶材的比較大厚度為30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為8°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括銅。無錫鈦鋯靶材圖片
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設(shè)備七臺，檢驗設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。