而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程，國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%...

而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程，國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%...

升降臺式樣品池送進(jìn)定位及環(huán)境光遮蔽系統(tǒng)，使光子相關(guān)譜探測系統(tǒng)不只體積小，而且具有很強(qiáng)的抗干擾能力。高精度的測試溫度控制系統(tǒng)：單獨(dú)的循環(huán)溫控槽可在2-95℃范圍內(nèi)任意設(shè)定，其控制精度達(dá)0.1℃。微量樣品池/標(biāo)準(zhǔn)樣品池：可以使用3.5ML的標(biāo)準(zhǔn)樣品池外，還有適應(yīng)于...

氧化鋅可以應(yīng)用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問題上有重要的參考價(jià)值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準(zhǔn)確的表征病毒顆粒的團(tuán)聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同...

這個(gè)關(guān)系可以用散點(diǎn)圖顯示，用以觀察樣品粒徑和形狀之間的關(guān)系。形狀過濾功能可以根據(jù)粒徑或形狀特性放大觀察樣品的特定部分?？梢愿鶕?jù)數(shù)據(jù)挖掘，對比分析粒度粒型數(shù)據(jù)分析，給除對比圖與表格。圖像分析軟件的特征：測量過程中可觀察顆粒；對已存圖片或錄像可重新分析；可根據(jù)粒徑...

一般離心式分析儀的動態(tài)范圍為40，但是CPS系統(tǒng)的動態(tài)范圍可以超過1000。過去很多需要消耗整夜時(shí)間而且低精度的測量，現(xiàn)在可以使用示差沉降法快速測量，而得到高精度的結(jié)果。低噪聲光源/檢測頭：CPS納米粒度分析儀的光學(xué)系統(tǒng)和電路經(jīng)過精心設(shè)計(jì)以降低信號中的噪聲，信...

氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)良的常溫發(fā)光性能，在半導(dǎo)體領(lǐng)域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產(chǎn)品中均有應(yīng)用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。粒度仍然是評價(jià)氧化鋅粉末的重要指標(biāo)！CPS納米粒度分析儀是您的較佳選擇！CP...

CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑：金剛石微粉是指顆粒度細(xì)于36/54微米的金剛石顆粒，金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機(jī)械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門，用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復(fù)合片)、陶瓷結(jié)合劑、金屬結(jié)合...

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng)，減少了由于系統(tǒng)污染引起的計(jì)劃外停機(jī)維護(hù)時(shí)間。樣品預(yù)處理系統(tǒng)：正確設(shè)計(jì)和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運(yùn)行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場經(jīng)驗(yàn)針對這種復(fù)雜的工藝樣品，專門為低維護(hù)操作而設(shè)計(jì)。低維護(hù)的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達(dá)到2-3微米，減...

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測量方法SOP，并且可以對SOP進(jìn)行編輯和保存。EyeTech 是一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測量池。更換測量池簡便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測量池模塊都是配...

因此，需要對其粒徑的分布進(jìn)行測試。而目前對炭黑的粒徑測量方法為差速沉淀法。由于常用的炭黑粒徑比較均勻，在測試時(shí)粒徑的分布常呈現(xiàn)正態(tài)曲線分布，但在裂解后炭黑中混有橡膠纖維，導(dǎo)致粒徑變大，不同粒徑炭黑的含量不同，不再呈現(xiàn)均勻的正態(tài)分布。造成樣品的測試比較困難。美國...

顆粒的大小稱作粒度，顆粒的直徑稱做粒徑。通常用粒徑來表示粒度，粒度測量儀可以利用顆粒對激光的散射特性作等效對比，可快速有效測量粒徑，采用會聚光傅立葉變換測試技術(shù)保證在短焦距獲得大量程，有效提高儀器的分辨能力對小顆粒有的測試能力，是工廠、研究所、高等院校等機(jī)構(gòu)進(jìn)...

而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程，國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%...

激光檢測器同時(shí)檢測顆粒對光的散射程度，根據(jù)米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù)：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤...

氧化鋅可以應(yīng)用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問題上有重要的參考價(jià)值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準(zhǔn)確的表征病毒顆粒的團(tuán)聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同...

而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機(jī)械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤上，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞...

為了實(shí)現(xiàn)較佳過程控制，樣品測量時(shí)間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀，專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì)。分析儀配置和操作簡單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線 XRF分析儀可...

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導(dǎo)率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對可見光具有高透過率等特點(diǎn)，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來制作抗靜電涂層、OLED(有機(jī)電激發(fā)光二極管)、有機(jī)薄膜太陽能電池材料、電極材料、...

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導(dǎo)率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對可見光具有高透過率等特點(diǎn)，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來制作抗靜電涂層、OLED(有機(jī)電激發(fā)光二極管)、有機(jī)薄膜太陽能電池材料、電極材料、...

水泥的粒度分布如何將較大的影響混凝土的強(qiáng)度。粒度分布的測量對產(chǎn)品的質(zhì)量控制，降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品質(zhì)量，減少能耗方面均有較大的作用。對于水泥生產(chǎn)的實(shí)時(shí)控制，就需要粒度儀這樣的監(jiān)控儀器，保證數(shù)據(jù)的輸出連續(xù)性，確保質(zhì)量的可靠。納米粒度儀采用動態(tài)光散射原理和光子相關(guān)...

而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機(jī)械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤上，拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞...

為了實(shí)現(xiàn)較佳過程控制，樣品測量時(shí)間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀，專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì)。分析儀配置和操作簡單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線 XRF分析儀可...

各種金屬粉體：如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。其它粉體：如催化劑、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、熒光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各種乳濁液等。在現(xiàn)代裝備制造業(yè)中的各種潤滑油、液壓油、燃料油、超導(dǎo)體、絕緣材料、無線電技術(shù)等行...

光電探測器陣列由一系列同心環(huán)帶組成，每個(gè)環(huán)帶是一個(gè)單獨(dú)的探測器，能將投射到上面的散射光線形地轉(zhuǎn)換成電壓，然后送給數(shù)據(jù)采集卡，該卡將電信號放大，再進(jìn)行AID轉(zhuǎn)化后送入計(jì)算機(jī)。激光粒度儀依據(jù)全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學(xué)性質(zhì)，根據(jù)激...

C-Quand在線EDXRF分析儀在PTA工藝中的應(yīng)用，產(chǎn)品綜述：精對苯二甲酸，英文名簡稱為PTA，它是聚酯生產(chǎn)鏈的重要組成部分，是中國重要的化工原料。PTA可用于生產(chǎn)聚酯，合成纖維和增塑劑等，它們大量用于工業(yè)塑料，薄膜，涂料和其他領(lǐng)域。作為紡織化纖和石油化工...

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測量方法SOP，并且可以對SOP進(jìn)行編輯和保存。EyeTech 是一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測量池。更換測量池簡便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測量池模塊都是配...

CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩(wěn)定的測量結(jié)果，有效控制產(chǎn)品的質(zhì)量。應(yīng)用實(shí)例：光催化活性高，高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析，穩(wěn)定性二氧化鈦，二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應(yīng)用，從油漆到食用色素到化妝品和護(hù)...

氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)良的常溫發(fā)光性能，在半導(dǎo)體領(lǐng)域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產(chǎn)品中均有應(yīng)用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。粒度仍然是評價(jià)氧化鋅粉末的重要指標(biāo)！CPS納米粒度分析儀是您的較佳選擇！CP...

儀器的主要參數(shù)為：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器...

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個(gè)準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果?？焖佟⒏呔葦?shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換：可用信號分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度，即百萬分之一的誤差。...