美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊在運(yùn)行過(guò)程中存在一個(gè)平衡狀態(tài),即:進(jìn)離子總數(shù)＝出離子總數(shù),宏觀表現(xiàn)就是３個(gè)工作區(qū)間相對(duì)穩(wěn)定,不發(fā)生上下移動(dòng)。如果模塊的工作條件發(fā)生變化,則需要比較長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)達(dá)到平衡狀態(tài)。 美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)在運(yùn)行中可調(diào)因素大致有進(jìn)水流量、濃水流量、電壓等。 進(jìn)水流量增加,模塊的工作壓力也相應(yīng)增加,如果超過(guò)模塊的處理范圍,出水水質(zhì)會(huì)***變差。所以當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較高時(shí),適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)進(jìn)水的流量是必需的。當(dāng)進(jìn)水的電導(dǎo)比較小時(shí),也可以在美國(guó)IonpureIP-LXM30Z EDI模塊系統(tǒng)壓力允許的范圍內(nèi)...

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。 4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。 5、西門(mén)子EDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹(shù)脂的發(fā)熱碳化，清洗無(wú)效，無(wú)法使用。 6、西門(mén)子EDI模塊進(jìn)水前無(wú)保安濾器，或安裝時(shí)沒(méi)有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無(wú)效。 7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格，使用一段時(shí)間不明原因的漏水。 8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國(guó)ION...

超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應(yīng)原件﹐DC電源供應(yīng)器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設(shè)備之后并提供下列優(yōu)勢(shì)。 ***穩(wěn)定及符合工業(yè)級(jí)需求之比較好原件 ****避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì) *機(jī)簡(jiǎn)易之配管及回路設(shè)計(jì)需求 *提供完整之電源供應(yīng)原件 *可提供單一膜塊**電源供應(yīng) *可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫**膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機(jī)再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無(wú)廢水排放 美國(guó)IONPUR...

IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達(dá)到了高流量的工業(yè)化要求－不僅在電子工業(yè)，而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域，這些系統(tǒng)提供的流量可達(dá)2000gpm及以上。事實(shí)上，由于***技術(shù)的開(kāi)發(fā)，EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素，而不是EDI系統(tǒng)的自身。 二、工業(yè)水處理的未來(lái) 目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡(jiǎn)化了運(yùn)行操作，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過(guò)濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)...

edi模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)： 1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料； 2、膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜； 3、采用進(jìn)口edi**均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)edi**均粒樹(shù)脂； 4、edi模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)； 5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成； 6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件； 7、出廠比較高試壓7bar不漏水； 8、電阻低、功耗??； 9、edi模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)； 10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H； 11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無(wú)死角。 美國(guó)IONPURE ED...

(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。 (6)進(jìn)水中CO2的影響。 進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。 (7)總陰離子含量(TEA)的影響。 高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對(duì)極膜壽命不利。 另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)IONPUR...

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑） ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可) 步驟 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm) ?步驟 2. a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0...

美國(guó)IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下: 美國(guó)ionpure IP-LXM30Z模塊的凈水基本過(guò)程 ·連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定 ·容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制 ·無(wú)須用酸堿再生 ·不會(huì)因再生而停機(jī) ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施 ·產(chǎn)水率高(可達(dá)95%) ·無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施 ·占地面積小 ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿 ·降低運(yùn)行及維護(hù)成本 ...

(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。 (6)進(jìn)水中CO2的影響。 進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。 (7)總陰離子含量(TEA)的影響。 高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增大，對(duì)極膜壽命不利。 另外，進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)IONPUR...

啟動(dòng)清洗泵運(yùn)行50分鐘，運(yùn)行流量和壓力為正常運(yùn)行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運(yùn)行時(shí)流量的一半。檢查清洗過(guò)程管道無(wú)泄漏。 排掉清洗水箱內(nèi)消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。 4．堿洗 1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動(dòng)清洗泵循環(huán)攪拌）。 2）啟動(dòng)清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。 3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要...

3、原水水質(zhì)的優(yōu)劣程度，純凈水產(chǎn)量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對(duì)RO膜進(jìn)行定期維護(hù)，此項(xiàng)工作必須由專(zhuān)業(yè)人員或在專(zhuān)業(yè)人員的授意下完成，非專(zhuān)業(yè)人員或未征得專(zhuān)業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對(duì)RO膜進(jìn)行隨意處理。如若非經(jīng)本廠專(zhuān)業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護(hù)，反滲透系統(tǒng)等主機(jī)主要部件，造成損壞的，本廠概不負(fù)責(zé)。 4、設(shè)備閑置時(shí)，必須斷水?dāng)嚯?，放凈設(shè)備內(nèi)所有積水，設(shè)備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內(nèi)放置。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保推薦咨詢(xún)。安徽美國(guó)IONPURE EDI模塊貨源充足 美國(guó)Ionpure EDI模塊工作主要有三個(gè)過(guò)程...

美國(guó)ionpure edi模塊的進(jìn)水指標(biāo)要求： ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水 ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：

(3) 西門(mén)子EDI模塊，濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。 EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹(shù)脂，過(guò)高的濁度、污染指 數(shù)會(huì)使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。 (4) 西門(mén)子EDI模塊，硬度的影響。 如果西門(mén)子EDI模塊中進(jìn)水的殘存硬度太高，會(huì)導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時(shí)會(huì)堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。 (5) 西門(mén)子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上...

IONPURE EDI配管簡(jiǎn)單，只需配進(jìn)水母管、產(chǎn)品水出管和濃縮水返回管，而其他品牌EDI需進(jìn)水母管、產(chǎn)品水出管、濃縮水返回管、循環(huán)水管和電極水管； IONPURE EDI無(wú)循環(huán)泵控制電盤(pán)，而其他品牌EDI需循環(huán)泵控制電盤(pán)； IONPURE EDI不需注入鹽水循環(huán)，因此不會(huì)在陽(yáng)極產(chǎn)生氯氣，破壞膜塊內(nèi)膜片，而其他品牌EDI會(huì)在陽(yáng)極產(chǎn)生氯氣，破壞膜片，影響人員健康； IONPURE EDI**膜塊電源控制，單一膜塊需維護(hù)或故障時(shí)不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn)，而其他品牌EDI所有膜塊共用一個(gè)電源控制，單一膜塊故障時(shí)需整個(gè)系統(tǒng)停止運(yùn)轉(zhuǎn)； IONPURE EDI有高溫**膜塊可供選用，而其他品牌EDI無(wú)...

IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達(dá)到了高流量的工業(yè)化要求－不僅在電子工業(yè)，而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域，這些系統(tǒng)提供的流量可達(dá)2000gpm及以上。事實(shí)上，由于***技術(shù)的開(kāi)發(fā)，EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素，而不是EDI系統(tǒng)的自身。 二、工業(yè)水處理的未來(lái) 目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡(jiǎn)化了運(yùn)行操作，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過(guò)濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)...

(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。 在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。 (2)工作電壓-電流的影響。 工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積...

根據(jù)美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來(lái)清洗EDI模塊。 1． 清洗時(shí)，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗） 2． ***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。 沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。 第二步 消毒：清洗水箱中配制0....

美國(guó)Ionpure EDI模塊混床在運(yùn)行過(guò)程中，其內(nèi)部的樹(shù)脂分為飽和區(qū)，交換區(qū)，新生區(qū)。飽和區(qū)的樹(shù)脂已經(jīng)被離子飽和，不再具有從進(jìn)水中交換離子的功能；交換區(qū)的樹(shù)脂處于部分飽和狀態(tài)，離子交換主要在交換區(qū)完成；新生區(qū)的樹(shù)脂尚未發(fā)生離子交換。隨著混床的運(yùn)行，飽和區(qū)和交換區(qū)將逐步向上移動(dòng)，新生區(qū)的空間將減少，直到被穿透。新生區(qū)的存在是產(chǎn)水的保證，而新生區(qū)被穿透的時(shí)候，也就意味著混床產(chǎn)水水質(zhì)將下降，混床是需要用藥品再生。美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專(zhuān)業(yè)人員給出建議。天津原裝美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應(yīng)原件...

(5) 西門(mén)子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。 (6) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水中CO2的影響。 進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。 (7) 西門(mén)子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。 高的TEA將會(huì)降西門(mén)子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門(mén)子EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增...

(5) 西門(mén)子EDI模塊，TOC(總有機(jī)碳)的影響。 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。 (6) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水中CO2的影響。 進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì)，容易穿透離子交換樹(shù)脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。 (7) 西門(mén)子EDI模塊，總陰離子含量(TEA)的影響。 高的TEA將會(huì)降西門(mén)子EDI模塊產(chǎn)水電阻率，或需要提高西門(mén)子EDI模塊運(yùn)行電流，而過(guò)高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大，極水余氯濃度增...

IONPUREEDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹(shù)脂的壽命縮短，增加運(yùn)行成本，嚴(yán)重影響生產(chǎn)。 導(dǎo)致IONPUREEDI模塊故障的主要原因： 1、IONPUREEDI模塊長(zhǎng)期在大電流，低于額定流量情況下運(yùn)行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴(yán)重會(huì)碳化漏水。 2、IONPUREEDI模塊長(zhǎng)期沒(méi)有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無(wú)法調(diào)節(jié)，電壓上升。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保推薦咨詢(xún)。江西口碑好美國(guó)IONP...

(3)濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。 EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹(shù)脂，過(guò)高的濁度、污染指 數(shù)會(huì)使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。 (4)硬度的影響。 如果IONPUREEDI模塊中進(jìn)水的殘存硬度太高，會(huì)導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴(yán)重時(shí)會(huì)堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。 (5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。 進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過(guò)高，會(huì)造成樹(shù)脂和選擇透過(guò)性膜的有機(jī)污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體，堵塞通道。 ...

美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)： 1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料； 2、膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜； 3、采用進(jìn)口EDI**均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI**均粒樹(shù)脂； 4、美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)； 5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成； 6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件； 7、出廠比較高試壓7bar不漏水； 8、電阻低、功耗??； 9、美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)； 10、比較大...

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。 4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。 5、西門(mén)子EDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹(shù)脂的發(fā)熱碳化，清洗無(wú)效，無(wú)法使用。 6、西門(mén)子EDI模塊進(jìn)水前無(wú)保安濾器，或安裝時(shí)沒(méi)有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無(wú)效。 7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格，使用一段時(shí)間不明原因的漏水。 8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 上海純超環(huán)...

(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。 在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。 (2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。 工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子...

美國(guó)IONPURE IP-LXM30ZEDI模塊設(shè)備進(jìn)水指標(biāo)要求 ◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水 ◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。 ◎電導(dǎo)率：<40μS/cm ◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI** 佳工作的pH范圍為8.0～9.0。 ◎溫度： 5～35℃。 ◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。 ◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。 ◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。 ◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。 ◎變價(jià)金屬： Fe<0.01ppm，M...

美國(guó)Ionpure EDI模塊在運(yùn)行過(guò)程中，樹(shù)脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運(yùn)行過(guò)程中，雖然樹(shù)脂不斷進(jìn)行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動(dòng)態(tài)平衡；美國(guó)Ionpure EDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國(guó) Ionpure EDI模塊內(nèi)的樹(shù)脂也就不再需要化學(xué)藥品的再生， 且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了高品質(zhì)的保證。 美國(guó)Ionpure EDI模塊由陰/陽(yáng)離子交換膜，混床樹(shù)脂，淡/濃水室和陰/陽(yáng)電極構(gòu)成。 美國(guó)Ionpure EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保規(guī)格齊全。江西美國(guó)IONPURE EDI...

edi模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)： 1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料； 2、膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜； 3、采用進(jìn)口edi**均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)edi**均粒樹(shù)脂； 4、edi模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)； 5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成； 6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件； 7、出廠比較高試壓7bar不漏水； 8、電阻低、功耗??； 9、edi模塊外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)； 10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H； 11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無(wú)死角。 購(gòu)買(mǎi)美國(guó)IONPURE ...

美國(guó)ionpure IP-LXM30Zedi模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。美國(guó)ionpure IP-LXM30Z edi模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。 美國(guó)ionpure IP-LXM30Zedi模塊產(chǎn)品的特色： · 采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封，確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏； · 產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水，無(wú)需使用化學(xué)藥劑； · 連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，不似批處理設(shè)備呈周期變化； · 不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹(shù)脂罐； · 具有優(yōu)良的電絕緣性能； · 在7b...

美國(guó)ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股**的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為**終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。 美國(guó)ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(ＲＯ)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、ＥＤＩ裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。ＥＤＩ裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置完全可以滿(mǎn)足要求。ＥＤＩ裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保廠家直供。江西進(jìn)口美國(guó)IONP...