EVG?7200LA特征：專有SmartNIL?技術，提供了無人能比的印跡形大面積經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本強大且精確可控的處理與所有市售的壓印材料兼容EVG?7200LA技術數(shù)據：...

SmartNIL是行業(yè)領仙的NIL技術，可對小于40nm*的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的Smar...

1、激光測厚儀是利用激光的反射原理，根據光切法測量和觀察機械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測量產品的厚度，是一種非接觸式的動態(tài)測量儀器。它可直接輸出數(shù)字信號與工業(yè)計算機相連接，并迅速處理數(shù)據并輸出偏差值到各種工業(yè)設備。2、X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料...

FSM413紅外干涉測量設備關鍵詞：厚度測量，光學測厚，非接觸式厚度測量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測厚，近紅外光測厚，TSV,CD,Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測量，石英厚度，聚合物厚度,背磨厚度，上下兩個測試頭。Michaelson干涉法...

UV納米壓印光刻系統(tǒng)EVG?610/EVG?620NT/EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)■高精度對準臺■自動楔形誤差補償機制■電動和程序控制的曝光間隙■支持蕞新的UV-LED技術■蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求EVG?720/EVG...

EVG?120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)EVG?120是用于當潔凈室空間有限，需要生產一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計，并帶有新開...

EVG?105—晶圓烘烤模塊設計理念：單機EVG?105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設計。特點：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)。可編程的接近銷可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的蕞佳控制。EVG...

EVG光刻機簡介：EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個底部對準系統(tǒng)，可以在頂部和雙面光刻，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領域做出貢獻，以增強蕞重要的光刻技術。EVG的掩模對準目標是容納高達300mm...

光刻膠處理系統(tǒng)：EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新標準。EVG100系列的設計旨在提供蕞廣范的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻模塊，以滿足個性化生產需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料，例如正性和負性光刻...

EVG?720自動SmartNIL?UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL?技術EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技...

其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個國家和地區(qū)設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissF...

EVG?120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)EVG ?120是用于當潔凈室空間有限，需要生產一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。 新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超...

EVG620NT技術數(shù)據：曝光源：汞光源/紫外線LED光源先進的對準功能：手動對準/原位對準驗證自動對準動態(tài)對準/自動邊緣對準對準偏移校正算法EVG620NT產量:全自動：弟一批生產量：每小時180片全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓晶圓直徑（基板尺寸）：...

它為晶圓級光學元件開發(fā)、原型設計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術確保在如3D感應的應用中使用小尺寸的高分辨率光學傳感器供應鏈合作推動晶圓級光學元件應用要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級...

EVG?620NT特征：頂部和底部對準能力高精度對準臺自動楔形補償序列電動和程序控制的曝光間隙支持ZUI新的UV-LED技術ZUI小化系統(tǒng)占地面積和設施要求分步流程指導遠程技術支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）敏捷...

SmartNIL是行業(yè)領仙的NIL技術，可對小于40nm*的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的Smar...

納米壓印微影技術有望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研...

G?105—晶圓烘烤模塊設計理念：單機EVG?105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設計。特點：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)?？删幊痰慕咏N可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的ZUI佳控制。EVG...

世界lingxian的衍射波導設計商和制造商WaveOptics宣布與EVGroup（EVG）進行合作，EVGroup是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的lingxian供應商，以帶來高性能增強現(xiàn)實（AR）波導以當今業(yè)界的低成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光...

EVG的光刻機技術：EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產能，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內部處理的相關知識。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并配有用于從上到下的側面對準驗...

不管您參與對顯示器的基礎研究還是制造，Thetametrisis都能夠提供您所需要的...測量液晶層-聚酰亞胺、硬涂層、液晶、間隙測量有機發(fā)光二極管層-發(fā)光、電注入、緩沖墊、封裝對于空白樣品，我們建議使用FR-Scanner系列儀器。對于圖案片，Thetame...

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG蕞新的曝光光學增強功能是LED燈設置。低能耗和長壽命是UV-LED光...

F10-HC輕而易舉而且經濟有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC以FilmetricsF20平臺為基礎，根據光譜反射數(shù)據分析快速提供薄膜測量結果。F10-HC先進的模擬算法是為測量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如，底涂/硬涂層)專門設計的。全世界共有數(shù)百...

測量眼科設備涂層厚度光譜反射率可用于測量眼鏡片減反射(AR)光譜和殘余顏色，以及硬涂層和疏水層的厚度。測量范例：F10-AR系統(tǒng)配備HC升級選擇通過反射率信息進行硬涂層厚度測量。這款儀器儀器采用接觸探頭，從而降低背面反射影響，并可測凹凸表面。接觸探頭安置在鏡頭...

Filmetrics的技術Filmetrics提供了范圍廣范的測量生物醫(yī)療涂層的方案：支架：支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。我們的F40在幾十個實驗室內得到使用，測量鈍化和/或藥物輸送涂層。我們有獨特的測量系統(tǒng)對整個支架表面的自動厚度測繪，只需在測...

FSM413MOT紅外干涉測量設備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側壁角度粗糙度薄膜厚度...

FSM413MOT紅外干涉測量設備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側壁角度粗糙度薄膜厚度...

FSM413紅外干涉測量設備關鍵詞：厚度測量，光學測厚，非接觸式厚度測量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測厚，近紅外光測厚，TSV,CD,Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測量，石英厚度，聚合物厚度,背磨厚度，上下兩個測試頭。Michaelson干涉法...

FSM413MOT紅外干涉測量設備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側壁角度粗糙度薄膜厚度...

濾光片整平光譜響應。ND#0.5衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#0.5衰減整平濾波器.ND#1衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#1衰減整平濾波器.ND#2衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜...