TO220F封裝的肖特基二極管MBR40100PT

   肖特基二極管是以其發(fā)明人肖特基博士（Schottky）命名的，SBD是肖特基勢(shì)壘二極管（SchottkyBarrierDiode,縮寫成SBD）的簡(jiǎn)稱。SBD不是利用P型半導(dǎo)體與N型半導(dǎo)體接觸形成PN結(jié)原理制作的，而是利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的金屬－半導(dǎo)體結(jié)原理制作的。因此，SBD也稱為金屬－半導(dǎo)體（接觸）二極管或表面勢(shì)壘二極管，它是一種熱載流子二極管。肖特基二極管的作用肖特基二極管的作用如下:肖特基二極管肖特基（Schottky）二極管，又稱肖特基勢(shì)壘二極管（簡(jiǎn)稱SBD），它屬一種低功耗、超高速半導(dǎo)體器件。明顯的特點(diǎn)為反向恢復(fù)時(shí)間極短（可以小到幾納秒），正向?qū)▔航?。其多用作高頻、低壓、大電流整流二極管、續(xù)流二極管、保護(hù)二極管，也有用在微波通信等電路中作整流二極管、小信號(hào)檢波二極管使用。在通信電源、變頻器等中比較常見(jiàn)。一個(gè)典型的應(yīng)用，是在雙極型晶體管BJT的開關(guān)電路里面，通過(guò)在BJT上連接Shockley二極管來(lái)箝位，使得晶體管在導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)其實(shí)處于很接近截止?fàn)顟B(tài)，從而提高晶體管的開關(guān)速度。這種方法是74LS，74ALS，74AS等典型數(shù)字IC的TTL內(nèi)部電路中使用的技術(shù)。肖特基（Schottky）二極管的特點(diǎn)是正向壓降VF比較小。在同樣電流的情況下，它的正向壓降要小許多。肖特基二極管 ，就選常州市國(guó)潤(rùn)電子有限公司，用戶的信賴之選。TO220F封裝的肖特基二極管MBR40100PT

可用作電池保護(hù)：由于肖特基二極管具有低反向漏電流和快速開關(guān)速度，可用作保護(hù)電池的電路元件。例如，用于鋰離子電池的過(guò)充和過(guò)放保護(hù)電路，以防止電池過(guò)度充放電，提高電池壽命和安全性。4.雙極性肖特基二極管：除了單極性肖特基二極管（正向?qū)ǎ┩?，還有雙極性肖特基二極管（正向和逆向都能導(dǎo)通）。雙極性肖特基二極管對(duì)于一些特定的應(yīng)用來(lái)說(shuō)非常有用，例如瞬態(tài)保護(hù)、模擬開關(guān)和電源選擇等。5.低電容特性：肖特基二極管的電容值較低，這有利于在高頻和射頻電路中減小不必要的電容耦合和交叉耦合效應(yīng)，以獲得更好的信號(hào)傳輸和抗干擾性能。TO220封裝的肖特基二極管MBR30150CT常州市國(guó)潤(rùn)電子有限公司是一家專業(yè)提供肖特基二極管 的公司，有需求可以來(lái)電咨詢！

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   肖特基二極管的基本結(jié)構(gòu)是重?fù)诫s的N型4H-SiC片、4H-SiC外延層、肖基觸層和歐姆接觸層。由于電子遷移率比空穴高，采用N型Si、SiC或GaAs為材料，以獲得良好的頻率特性，肖特基接觸金屬一般選用金、鉬、鎳、鋁等。金屬-半導(dǎo)體器件和PiN結(jié)二極管類似，由于兩者費(fèi)米能級(jí)不同，金屬與半導(dǎo)體材料交界處要形成空間電荷區(qū)和自建電場(chǎng)。在外加電壓為零時(shí)，載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)與反向的漂移運(yùn)動(dòng)達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡，這時(shí)金屬與N型4H-SiC半導(dǎo)體交界處形成一個(gè)接觸勢(shì)壘，這就是肖特基勢(shì)壘。肖特基二極管就是依據(jù)此原理制作而成。[2]碳化硅肖特基二極管肖特基接觸金屬與半導(dǎo)體的功函數(shù)不同，電荷越過(guò)金屬/半導(dǎo)體界面遷移，產(chǎn)生界面電場(chǎng)，半導(dǎo)體表面的能帶發(fā)生彎曲，從而形成肖特基勢(shì)壘，這就是肖特基接觸。金屬與半導(dǎo)體接觸形成的整流特性有兩種形式，一種是金屬與N型半導(dǎo)體接觸，且N型半導(dǎo)體的功函數(shù)小于金屬的功函數(shù)；另一種是金屬與P型半導(dǎo)體接觸，且P型半導(dǎo)體的功函數(shù)大于金屬的功函數(shù)。金屬與N型4H-SiC半導(dǎo)體體內(nèi)含有大量的導(dǎo)電載流子。金屬與4H-SiC半導(dǎo)體材料的接觸有原子大小的數(shù)量級(jí)間距時(shí)，4H-SiC半導(dǎo)體的費(fèi)米能級(jí)大于金屬的費(fèi)米能級(jí)。肖特基二極管 ，就選常州市國(guó)潤(rùn)電子有限公司，讓您滿意，有想法可以來(lái)我司咨詢！

第2種輸運(yùn)方式又分成兩個(gè)狀況，隨著4H-SiC半導(dǎo)體摻雜濃度的增加，耗盡層逐漸變薄，肖特基勢(shì)壘也逐漸降低，4H-SiC半導(dǎo)體導(dǎo)帶中的載流子由隧穿效應(yīng)進(jìn)入到金屬的幾率變大。一種是4H-SiC半導(dǎo)體的摻雜濃度非常大時(shí)，肖特基勢(shì)壘變得很低，N型4H-SiC半導(dǎo)體的載流子能量和半導(dǎo)體費(fèi)米能級(jí)相近時(shí)的載流子以隧道越過(guò)勢(shì)壘區(qū)，稱為場(chǎng)發(fā)射。另一種是載流子在4H-SiC半導(dǎo)體導(dǎo)帶的底部隧道穿過(guò)勢(shì)壘區(qū)較難，而且也不用穿過(guò)勢(shì)壘，載流子獲得較大的能量時(shí)，載流子碰見(jiàn)一個(gè)相對(duì)較薄且能量較小的勢(shì)壘時(shí)，載流子的隧道越過(guò)勢(shì)壘的幾率快速增加，這稱為熱電子場(chǎng)發(fā)射。[2]反向截止特性肖特基二極管的反向阻斷特性較差，是受肖特基勢(shì)壘變低的影響。為了獲得高擊穿電壓，漂移區(qū)的摻雜濃度很低，因此勢(shì)壘形成并不求助于減小PN結(jié)之間的間距。調(diào)整肖特基間距獲得與PiN擊穿電壓接近的JBS，但是JBS的高溫漏電流大于PiN，這是來(lái)源于肖特基區(qū)。JBS反向偏置時(shí)，PN結(jié)形成的耗盡區(qū)將會(huì)向溝道區(qū)擴(kuò)散和交疊，從而在溝道區(qū)形成一個(gè)勢(shì)壘，使耗盡層隨著反向偏壓的增加向襯底擴(kuò)展。這個(gè)耗盡層將肖特基界面屏蔽于高場(chǎng)之外，避免了肖特基勢(shì)壘降低效應(yīng)，使反向漏電流密度大幅度減小。此時(shí)JBS肖特基二極管 ，就選常州市國(guó)潤(rùn)電子有限公司，用戶的信賴之選，歡迎您的來(lái)電！TO220F封裝的肖特基二極管MBR3045CT

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滿足國(guó)民經(jīng)濟(jì)和建設(shè)的需要，目前，美國(guó)、德國(guó)、瑞典、日本等發(fā)達(dá)國(guó)家正競(jìng)相投入巨資對(duì)碳化硅材料和器件進(jìn)行研究。美國(guó)部從20世紀(jì)90年代就開始支持碳化硅功率器件的研究，在1992年就成功研究出了阻斷電壓為400V的肖特基二極管。碳化硅肖特基勢(shì)壘二極管于21世紀(jì)初成為首例市場(chǎng)化的碳化硅電力電子器件。美國(guó)Semisouth公司研制的SiCSBD（100A、600V、300℃下工作）已經(jīng)用在美國(guó)空軍多電飛機(jī)。由碳化硅SBD構(gòu)成的功率模塊可在高溫、高壓、強(qiáng)輻射等惡劣條件下使用。目前反向阻斷電壓高達(dá)1200V的系列產(chǎn)品，其額定電流可達(dá)到20A。碳化硅SBD的研發(fā)已經(jīng)達(dá)到高壓器件的水平，其阻斷電壓超過(guò)10000V，大電流器件通態(tài)電流達(dá)130A的水平。[1]SiCPiN的擊穿電壓很高，開關(guān)速度很快，重量很輕，并且體積很小，它在3KV以上的整流器應(yīng)用領(lǐng)域更加具有優(yōu)勢(shì)。2000年Cree公司研制出KV的臺(tái)面PiN二極管，同一時(shí)期日本的Sugawara研究室也研究出了12KV的臺(tái)面PiN二極管。2005年Cree公司報(bào)道了10KV、V、50A的SiCPiN二極管，其10KV/20APiN二極管系列的合格率已經(jīng)達(dá)到40%。SiCMOSFET的比導(dǎo)通電阻很低，工作頻率很高。TO220F封裝的肖特基二極管MBR40100PT