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西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應用而設計的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產出質量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。膜堆可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。

   西門子LX-Z系列EDI模塊運行環(huán)境：應安裝在室內，避免陽光直射，室內比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進水溫度

45℃(113?F)

名義流量時的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產水水質

產水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實際性能可以用Ionpure的IP-Pro設計軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進水條件 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保推薦咨詢。四川進口美國IONPURE EDI模塊哪家專業(yè)

3、原水水質的優(yōu)劣程度，純凈水產量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對RO膜進行定期維護，此項工作必須由專業(yè)人員或在專業(yè)人員的授意下完成，非專業(yè)人員或未征得專業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對RO膜進行隨意處理。如若非經本廠專業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護，反滲透系統(tǒng)等主機主要部件，造成損壞的，本廠概不負責。

 4、設備閑置時，必須斷水斷電，放凈設備內所有積水，設備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內放置。

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a.  淡水進入淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

啟動清洗泵運行50分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。

   排掉清洗水箱內消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導率降至100μs/cm以下。

4．堿洗

   1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）啟動清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。

   3）沖洗排掉清洗水箱內清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要沖太徹底。 購買美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保售后服務。

(1) 西門子EDI模塊，進水電導率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加西門子EDI模塊對弱電解質的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產水水質不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結果使產水水質下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)人員給出建議。天津口碑好美國IONPURE EDI模塊報價

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環(huán)中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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