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清洗 隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說明將同時(shí)提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。上海純超環(huán)保出售原裝進(jìn)口美國IONPURE EDI模塊。上海專業(yè)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家

美國IONPURE IP-LXM30ZEDI模塊設(shè)備進(jìn)水指標(biāo)要求

◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。

◎電導(dǎo)率：<40μS/cm

◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。

◎溫度： 5～35℃。

◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。

◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。

◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。

◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。

◎變價(jià)金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。

◎H2S：<0.01ppm。

◎二氧化硅：<0.5ppm。

◎色度：<5APHA。

◎二氧化碳的總量：<10ppm

◎ SDI15min：<1.0。 上?？诒妹绹鳬ONPURE EDI模塊廠家直供美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保廠家直供。

美國IONPURE EDI模塊，在各方面超前的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能，被國際、國內(nèi)**公司廣泛應(yīng)用于電力、電子、化工、醫(yī)藥等各個(gè)行業(yè)。 美國IONPURE EDI模塊同其他品牌EDI系統(tǒng)的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)所在： IONPURE EDI不需注入鹽水循環(huán)，不需使用化學(xué)物質(zhì)，而其他品牌EDI需要在濃縮水層注入鹽水循環(huán)以降低膜組電阻值； IONPURE EDI在濃縮水層用**分層式樹脂排列技術(shù)來降低膜組電阻值，而其他品牌EDI需用高純度且完全不含硬度離子的精鹽，增加運(yùn)行中的費(fèi)用； IONPURE CDI濃縮水電導(dǎo)率在20-100u S /cm 無極水，而其他品牌EDI濃縮水電導(dǎo)率在200-400u S /cm 2%的極水排放； IONPURE EDI原水流入濃縮水層后直接回收，不需使用循環(huán)泵，而其他品牌EDI在濃縮水層需使用循環(huán)泵以保持水流持續(xù)循環(huán)；

(1) 西門子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。

無需投加化學(xué)藥品，可連續(xù)生產(chǎn)高純度水 應(yīng)用IONPURE LX 技術(shù)在生產(chǎn)高純水過程中，無需投加有害的再生化學(xué)物，不存在廢水中和問題，因此可連續(xù)生產(chǎn)，同時(shí)降低了成本。其通常用來進(jìn)一步去除反滲透產(chǎn)品水中殘留的二氧化碳、鹽、硅、硼和有機(jī)碳化物（TOC）。 IONPURE LX 模塊使用離子滲透膜、離子交換樹脂以及電流來連續(xù)地生產(chǎn)高純度水，無需為裝置的再生而停機(jī)。當(dāng)注入的反滲透產(chǎn)水當(dāng)量電導(dǎo)率小于40μs/cm 時(shí)，LX系統(tǒng)的除鹽率可達(dá)到99％以上，根據(jù)不同的應(yīng)用，可生產(chǎn)電阻率在10-18MΩ?cm之間的更高質(zhì)量的水。 主要供貨型號(hào)：(配套電源供應(yīng)) IP-LXM45Z ,IP-LXM30Z, IP-LXM24Z ,IP-LXM18Z ,IP-LXM10Z ,IP-LXM04Z 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。江蘇進(jìn)口美國IONPURE EDI模塊廠家供應(yīng)

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3、原水水質(zhì)的優(yōu)劣程度，純凈水產(chǎn)量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對(duì)RO膜進(jìn)行定期維護(hù)，此項(xiàng)工作必須由專業(yè)人員或在專業(yè)人員的授意下完成，非專業(yè)人員或未征得專業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對(duì)RO膜進(jìn)行隨意處理。如若非經(jīng)本廠專業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護(hù)，反滲透系統(tǒng)等主機(jī)主要部件，造成損壞的，本廠概不負(fù)責(zé)。

 4、設(shè)備閑置時(shí)，必須斷水?dāng)嚯姡艃粼O(shè)備內(nèi)所有積水，設(shè)備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內(nèi)放置。

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