工業(yè)反滲透陶氏膜真?zhèn)?/h1>

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2023-04-25

反滲透系統(tǒng)在停止運(yùn)行后，一般都要自動(dòng)沖洗一段時(shí)間，然后根據(jù)停運(yùn)時(shí)間的長(zhǎng)短，決定是否需要采取停用保護(hù)措施或者采取什么樣的停用保護(hù)措施。在反滲透系統(tǒng)再次開(kāi)機(jī)時(shí)，對(duì)于已經(jīng)采取添加停用保護(hù)藥劑的系統(tǒng)，應(yīng)該將這些保護(hù)藥劑排放出來(lái)，然后再通過(guò)不帶壓沖洗把這些保護(hù)藥劑沖洗干凈，***再啟動(dòng)系統(tǒng)。對(duì)于沒(méi)有采取添加停用保護(hù)藥劑的系統(tǒng)，此時(shí)系統(tǒng)中一般是充滿(mǎn)水的狀態(tài)，但這些水可能已經(jīng)在系統(tǒng)中存了一定的時(shí)間，此時(shí)也比較好用不帶壓沖洗的方法把這些水排凈空氣，如果不排凈空氣，就容易產(chǎn)生“水錘”的現(xiàn)象而損壞膜元件。陶氏膜上海純超環(huán)保專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售。工業(yè)反滲透陶氏膜真?zhèn)?/p>

陶氏反滲透膜被氧化的來(lái)源是系統(tǒng)預(yù)處理中投加的氧化劑,由于預(yù)處理有預(yù)防這種氧化源的措施如還原劑投加裝置,主要利用投加的還原劑來(lái)還原預(yù)處理產(chǎn)水中的氧化性物質(zhì), 理論上講是合理的, 但實(shí)際運(yùn)行過(guò)程中,有可能會(huì)出現(xiàn)多種情況來(lái)使這種氧化+還原的不匹配達(dá)不到平衡,正是這種不平衡才造成了膜元件的嚴(yán)重氧化, 具體產(chǎn)生這種不平衡的因素大體如下:

1)管道混合效率低造成不平衡

  管道混合的效率是比較低的, 一般的管道混合大體采用兩種方式即擋板式和填料式, 無(wú)論是哪一種方式,都會(huì)產(chǎn)生藥液與原水的混合不均勻的現(xiàn)象, 這種比較低的混合效率使本應(yīng)該中和反應(yīng)的藥劑之問(wèn)無(wú)法達(dá)到充分的接觸,就更無(wú)法達(dá)到去除氧化性的目的 (反滲透進(jìn)水具有氧化性就充分地說(shuō)明這一點(diǎn), 且還原劑的投加量是氧化及投加量的4倍)。 代理陶氏膜真?zhèn)翁帐夏ふ?qǐng)使用正規(guī)產(chǎn)品。

公司主要經(jīng)營(yíng) EDI模塊：美國(guó)IONPURE EDI模塊，西門(mén)子EDI模塊、GE EDI模塊、蘇伊士EDI模塊、伊樂(lè)科EDI模塊、EDIPURE EDI模塊、IP-LXM45Z模塊、IP-LXM30Z模塊、IP-LXM18Z模塊、IP-LXM10Z模塊、IP-LXM04Z模塊、MK-3模塊、-3X模塊、西門(mén)子熱消 毒模塊、IONPURE熱消 毒EDI、熱消 毒模塊、GE熱消 毒模塊、Electropure EDI模塊。 EDI電源：億能EDI電源、懿博EDI電源、萌欣EDI電源、ZSC2000D電源、ZSC電源、YN2000電源、YN3000電源、MK3電源、en-link電源 盤(pán)式過(guò)濾器、疊片式過(guò)濾器、淺層式過(guò)濾器、阿科盤(pán)式過(guò)濾器、纖維束過(guò)濾器

對(duì)于美國(guó)陶氏反滲透膜長(zhǎng)期保存，為減少維護(hù)，可使用低pH值的清洗劑沖洗系統(tǒng)，按以下述步驟進(jìn)行操作：

1. 進(jìn)行在線(xiàn)清洗。

2. 在CIP水箱中充滿(mǎn)RO產(chǎn)水（充滿(mǎn)CIP水箱）。

3.向CIP水箱中加入低pH清洗劑（MCT442或MCT882），混合，配置成濃度為2%的溶液。

4. 在RO單元中循環(huán)該溶液15–20分鐘。

5. 關(guān)閉RO設(shè)備。

6. 關(guān)閉CIP水箱和排水槽中的閥門(mén)。

7.可將酸溶液保留在RO單元中，或者緩緩排干RO單元。如果保存溫度低于比較大膜工作溫度膜元件可以再膜殼內(nèi)保存一年時(shí)間而膜的性能不受影響。在啟動(dòng)期間，可能需要24–72小時(shí)的時(shí)間進(jìn)行徹底沖洗。 陶氏膜上海純超環(huán)保歡迎咨詢(xún)。

電子級(jí)超純水系統(tǒng) 水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí)） ?預(yù)處理－反滲透－水箱－陽(yáng)床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－精制混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 ?預(yù)處理－一級(jí)反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 ?預(yù)處理－二級(jí)反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 ?預(yù)處理－二級(jí)反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（***工藝） 應(yīng)用場(chǎng)合 ?半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路； ?超純材料和超純化學(xué)試劑； ?實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間 ?汽車(chē)、家電表面拋光處理； ?其他高科技精微產(chǎn)品。 陶氏膜上海純超環(huán)保電話(huà)咨詢(xún)。代理陶氏膜真?zhèn)?/p>

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壓力不足、流體分布不均，導(dǎo)致水流或氣流偏流，也會(huì)影響整體膜性能，對(duì)于UF系統(tǒng)和Ro系統(tǒng)更是如此。對(duì)于RO系統(tǒng)，膜面流速過(guò)低，會(huì)導(dǎo)致污染物沉積，引起堵塞。解決的方法是改善泵、水路和氣路設(shè)計(jì)，使多組膜能均擔(dān)處理負(fù)荷，避免部分膜超負(fù)荷產(chǎn)水，而部分膜未發(fā)揮作用。若清洗維護(hù)功能設(shè)計(jì)不足，尤其是無(wú)產(chǎn)水自沖洗功能，可通過(guò)改善氣洗、水洗和藥洗設(shè)計(jì)，設(shè)置合適的沖洗頻率和水量等參數(shù)加以解決。進(jìn)膜前無(wú)前置過(guò)濾保護(hù)設(shè)施，會(huì)導(dǎo)致膜系統(tǒng)堵塞。解決方法為：對(duì)于MBR系統(tǒng)，增設(shè)13 mm超細(xì)格柵;對(duì)于UF系統(tǒng)，增設(shè)100um級(jí)粗濾器;對(duì)于R0系統(tǒng)，增設(shè)5um級(jí)精密濾器。工業(yè)反滲透陶氏膜真?zhèn)?/p>

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